本實用新型涉及中低溫煙氣脫硫脫硝技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種噴氨結(jié)構(gòu)體。
背景技術(shù):
用還原法去除煙氣中氮氧化物時多采用氨還原法,按溫度高低、有無催化劑劃分為SNCR法和SCR法;SNCR法運行溫度多在1000攝氏度左右;煙氣NH3-SCR法脫硝技術(shù)按其所處理的煙氣溫度大致可分為三種類型:第一種是高溫煙氣脫硝,處理煙氣溫度為300~400℃;第二種是中溫脫硝工藝,處理煙氣溫度為200~300℃;第三種是低溫脫硝工藝,處理煙氣溫度為120~220℃。第一種高溫煙氣脫硝技術(shù)已在世界范圍內(nèi)廣泛應用于電廠脫硝工藝,第二種、第三種脫硝技術(shù)目前正在采暖燃煤鍋爐煙氣脫硝、玻璃窯煙氣脫硝工藝中試運行。與第一種高溫煙氣脫硝技術(shù)相比,第二種及第三種中低溫脫硝技術(shù)的局限性在于煙氣中的二氧化硫含量及含水量會對脫硝效率產(chǎn)生極大的影響。
申請?zhí)枮?01410478420.0的中國專利公開了一種“中低溫煙氣脫硫除塵脫硝及脫硝催化劑熱解析一體化裝置”,“包括由下至上集成在一個塔體內(nèi)的脫硫集塵凈化段、解析噴氨混合段和脫硝反應段,其中噴氨結(jié)構(gòu)體設在熱解析氣體輸送噴射結(jié)構(gòu)體上方,由多條平行設置的噴氨管道組成,每條噴氨管道上均設有噴氨調(diào)節(jié)閥,噴氨管道上均布氨噴射口;”。
上述專利中噴氨時采用的是正壓噴氨,其雖然采用多個噴頭同時噴氨,但仍存在氨氣與煙氣混合不均的問題,并且噴氨處煙氣的壓力、溫度變化很大,對系統(tǒng)保持氣流均勻穩(wěn)定存在不利影響。
技術(shù)實現(xiàn)要素:
本實用新型提供了一種噴氨結(jié)構(gòu)體,用于氨法脫除氮氧化物時噴射氨氣,其既能正壓噴氨也能負壓抽吸氨氣,同時保證噴入的氨氣與煙氣均勻混合,最大程度減少因噴氨帶來的系統(tǒng)壓力及溫度波動,保證系統(tǒng)穩(wěn)定、有效運行。
為了達到上述目的,本實用新型采用以下技術(shù)方案實現(xiàn):
一種噴氨結(jié)構(gòu)體,包括氨氣緩沖室、法蘭連接管和噴氨支管,其中:氨氣緩沖室用于氨氣的暫時緩沖,并實現(xiàn)正壓、負壓噴氨;法蘭連接管用于連接氨氣緩沖室及噴氨支管,同時法蘭連接管也是噴氨結(jié)構(gòu)體安裝時的支撐部件;噴氨支管為多個均勻并列布置,其上設有噴氨孔或氨氣噴嘴,用于噴射氨氣。
所述氨氣緩沖室沿噴氨支管排列方向設置,并通過法蘭連接管與各個噴氨支管垂直連通;氨氣緩沖室為1~2個,氨氣緩沖室為2個時,分別布置在噴氨支管的兩側(cè)。
所述噴氨支管的布置間距為100~400mm。
所述噴氨孔或氨氣噴嘴沿噴氨支管縱向及周向均勻分布,縱向分布間距為20~50mm;在同一橫斷面上分布的噴氨孔或氨氣噴嘴數(shù)量為3~7個。
所述氨氣緩沖室為圓柱體或長方體結(jié)構(gòu)。
所述噴氨孔為圓形孔,直徑為1~10mm。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實用新型的有益效果是:
1)采用多管、多孔結(jié)構(gòu)噴氨,噴氨范圍以面代點,噴氨效果更好;
2)可保證反應器中噴氨無死角,氨氣與煙氣混合更均勻、接觸更充分,有利于脫硝反應的進行;
3)由眾多噴氨點形成噴氨層,而每個噴氨點的氣量很小,速度相對較低,對煙氣系統(tǒng)壓力變化的影響大大減??;
4)結(jié)構(gòu)形式獨特,采用氨氣緩沖室后,既可實現(xiàn)正壓噴氨,也可實現(xiàn)負壓噴氨;
5)采用多個噴氨支管,每個噴氨支管上設有多個噴氨孔或氨氣噴嘴,個別噴氨支管或氨氣噴嘴檢修時,不影響整體噴氨效果。
附圖說明
圖1是本實用新型所述噴氨結(jié)構(gòu)體的結(jié)構(gòu)示意圖一。(設置1個氨氣緩沖室時)
圖2是本實用新型所述噴氨結(jié)構(gòu)體的結(jié)構(gòu)示意圖二。(設置2個氨氣緩沖室時)
圖3是圖1中的A-A視圖。
圖4是圖3中的B-B視圖。
圖中:1.氨氣緩沖室 2.法蘭連接管 3.噴氨支管 4.噴氨孔/氨氣噴嘴
具體實施方式
下面結(jié)合附圖對本實用新型的具體實施方式作進一步說明:
如圖1所示,本實用新型所述一種噴氨結(jié)構(gòu)體,包括氨氣緩沖室1、法蘭連接管2和噴氨支管3,其中:氨氣緩沖室1用于氨氣的暫時緩沖,并實現(xiàn)正壓、負壓噴氨;法蘭連接管2用于連接氨氣緩沖室1及噴氨支管3,同時法蘭連接管2也是噴氨結(jié)構(gòu)體安裝時的支撐部件;噴氨支管3為多個均勻并列布置,其上設有噴氨孔或氨氣噴嘴4,用于噴射氨氣。(如圖3所示)
所述氨氣緩沖室1沿噴氨支管3排列方向設置,并通過法蘭連接管2與各個噴氨支管3垂直連通;氨氣緩沖室1為1~2個,如圖2所示,氨氣緩沖室1為2個時,分別布置在噴氨支管3的兩側(cè)。
所述噴氨支管3的布置間距為100~400mm。
如圖3、圖4所示,所述噴氨孔或氨氣噴嘴4沿噴氨支管3縱向及周向均勻分布,縱向分布間距為20~50mm;在同一橫斷面上分布的噴氨孔或氨氣噴嘴4數(shù)量為3~7個。
所述氨氣緩沖室1為圓柱體或長方體結(jié)構(gòu)。
所述噴氨孔為圓形孔,直徑為1~10mm。
本實用新型中,氨氣緩沖室1另外連接氨氣氣源端,用于氨氣的暫時緩沖,其尺寸與外形對于氨氣流量與壓力至關(guān)重要,是實現(xiàn)正壓、負壓均勻噴氨的關(guān)鍵部件。當系統(tǒng)為正壓時,氨氣氣源端壓力較氨氣緩沖室1壓力大,氨氣主動經(jīng)過氨氣緩沖室1,通過法蘭連接管2進入噴氨支管3,通過噴氨孔或氨氣噴嘴4噴射出;當系統(tǒng)為負壓時,氨氣緩沖室1的壓力較氨氣氣源端壓力大,引射動力由噴氨孔或氨氣噴嘴4處產(chǎn)生,吸引拖拽氨氣依次流經(jīng)氨氣緩沖室1、法蘭連接管2進入噴氨支管3。負壓運行和正壓運行時壓力氨氣在系統(tǒng)內(nèi)的流線不同。
相鄰噴氨支管3之間的間距不宜過大,具體視系統(tǒng)正壓值/負壓值、噴氨量以及開孔角度而定。
以上所述,僅為本實用新型較佳的具體實施方式,但本實用新型的保護范圍并不局限于此,任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本實用新型揭露的技術(shù)范圍內(nèi),根據(jù)本實用新型的技術(shù)方案及其實用新型構(gòu)思加以等同替換或改變,都應涵蓋在本實用新型的保護范圍之內(nèi)。