本發(fā)明涉及硅鋼生產(chǎn)領(lǐng)域，特別涉及一種硅鋼氧化鎂涂層的壓力控制方法及裝置。

背景技術(shù)：

硅鋼生產(chǎn)過(guò)程中需要對(duì)脫碳退火后帶鋼涂覆氧化鎂薄膜，便于在后工序高溫退火過(guò)程中防止帶鋼粘連，并且形成一種硅酸鎂玻璃膜。氧化鎂涂覆質(zhì)量直接決定了硅鋼的成品等級(jí)，在整個(gè)硅鋼生產(chǎn)環(huán)節(jié)至關(guān)重要，而涂機(jī)壓力控制又是保證膜厚度均勻性的基礎(chǔ)。硅鋼生產(chǎn)退火線采用兩輥涂機(jī)，上輥為支撐輥，下輥兩側(cè)均有伺服電機(jī)帶動(dòng)絲杠動(dòng)作進(jìn)行壓力控制，采用壓力傳感器反饋的閉環(huán)PID壓力控制。電機(jī)驅(qū)動(dòng)絲杠控制壓力，因絲杠屬于剛性作用力，且絲杠受螺紋牙距影響，給進(jìn)位置精度不高，在進(jìn)行壓力控制時(shí)往往不能很穩(wěn)定的實(shí)現(xiàn)作用力微控制，易發(fā)生控制壓力值圍繞設(shè)定值震蕩且偏差不能減小的現(xiàn)象，對(duì)于涂覆氧化鎂薄膜的厚度均勻性產(chǎn)生嚴(yán)重影響，無(wú)法實(shí)現(xiàn)氧化鎂膜厚度的均勻控制。此種形式的涂機(jī)壓力控制，對(duì)機(jī)械安裝的精度要求非常高，而現(xiàn)場(chǎng)因氧化鎂飛濺、涂輥連接盤結(jié)構(gòu)、涂輥軸承座與涂輥滑軌卡阻等問(wèn)題導(dǎo)致壓力控制的不穩(wěn)定性，往往出現(xiàn)壓力波動(dòng)值無(wú)法滿足生產(chǎn)精度需求的現(xiàn)象，給大規(guī)模連續(xù)化生產(chǎn)帶來(lái)很大困擾。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明通過(guò)提供一種硅鋼氧化鎂涂層的壓力控制方法及裝置，解決了現(xiàn)有技術(shù)中在進(jìn)行壓力控制時(shí)難以穩(wěn)定的實(shí)現(xiàn)作用力微控制，易發(fā)生控制壓力值圍繞設(shè)定值震蕩且偏差不能減小的技術(shù)問(wèn)題，使得閉環(huán)PID壓力控制后的壓力值變化幅度減小，跳動(dòng)頻率均勻，避免絲杠電機(jī)調(diào)節(jié)壓力時(shí)因設(shè)備本身屬性導(dǎo)致的壓力大幅波動(dòng)，提高了涂覆氧化鎂薄膜的厚度均勻性，進(jìn)而提高了硅鋼氧化鎂涂層的質(zhì)量。

本發(fā)明提供了一種硅鋼氧化鎂涂層的壓力控制方法，所述方法采用壓力PID控制器對(duì)涂機(jī)進(jìn)行壓力控制，其特征在于，所述方法包括：

實(shí)時(shí)檢測(cè)所述壓力PID控制器對(duì)所述涂機(jī)控制后的壓力反饋值；

設(shè)置壓力值的死區(qū)區(qū)間，比較所述壓力反饋值是否進(jìn)入所述死區(qū)區(qū)間；

當(dāng)所述壓力反饋值進(jìn)入所述死區(qū)區(qū)間時(shí)，關(guān)閉所述壓力PID控制器。

進(jìn)一步地，所述方法還包括：

當(dāng)所述壓力反饋值偏離所述死區(qū)區(qū)間時(shí)，重啟所述壓力PID控制器工作。

進(jìn)一步地，所述方法還包括：

當(dāng)所述死區(qū)區(qū)間發(fā)生變化時(shí)，重啟所述壓力PID控制器。

進(jìn)一步地，所述壓力PID控制器為閉環(huán)PID控制模式。

本發(fā)明還提供了一種硅鋼氧化鎂涂層的壓力控制裝置，所述裝置采用壓力PID控制器對(duì)涂機(jī)進(jìn)行壓力控制，所述裝置包括：

監(jiān)測(cè)單元，實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)所述壓力PID控制器對(duì)所述涂機(jī)控制后的壓力反饋值；

比較單元，設(shè)置壓力值的死區(qū)區(qū)間，比較所述壓力反饋值是否進(jìn)入所述死區(qū)區(qū)間；

控制單元，當(dāng)所述壓力反饋值進(jìn)入所述死區(qū)區(qū)間時(shí)，關(guān)閉所述壓力PID控制器。

進(jìn)一步地，還包括：

第一重啟單元，當(dāng)所述壓力反饋值偏離所述死區(qū)區(qū)間時(shí)，重啟所述壓力PID控制器工作。

進(jìn)一步地，還包括：

第二重啟單元，當(dāng)所述死區(qū)區(qū)間發(fā)生變化時(shí)，重啟所述壓力PID控制器。

進(jìn)一步地，所述壓力PID控制器為閉環(huán)PID控制模式。

本發(fā)明提供的一種或多種技術(shù)方案，至少具備以下有益效果或優(yōu)點(diǎn)：

本發(fā)明提供的硅鋼氧化鎂涂層的壓力控制方法及裝置，通過(guò)設(shè)置壓力值的死區(qū)區(qū)間，比較壓力反饋值是否進(jìn)入死區(qū)區(qū)間，當(dāng)壓力反饋值進(jìn)入死區(qū)區(qū)間時(shí)，關(guān)閉壓力PID控制器使其停止工作；關(guān)閉壓力PID控制器后絲杠保持靜止?fàn)顟B(tài)，涂輥水平位置不再變化，上涂輥與下涂輥的間隙量維持穩(wěn)定，涂機(jī)壓力反饋也趨于穩(wěn)定，使得PID壓力控制后的壓力值變化幅度減小，跳動(dòng)頻率均勻，能夠避免絲杠電機(jī)調(diào)節(jié)壓力時(shí)因設(shè)備本身屬性導(dǎo)致的壓力大幅波動(dòng)，提高了涂覆氧化鎂薄膜的厚度均勻性，進(jìn)而提高了硅鋼氧化鎂涂層的質(zhì)量。

附圖說(shuō)明

圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的硅鋼氧化鎂涂層的壓力控制方法流程圖；

圖2為本發(fā)明實(shí)施例提供的硅鋼氧化鎂涂層的壓力控制狀圖結(jié)構(gòu)框圖。

具體實(shí)施方式

本發(fā)明實(shí)施例通過(guò)提供一種硅鋼氧化鎂涂層的壓力控制方法及裝置，解決了現(xiàn)有技術(shù)中在進(jìn)行壓力控制時(shí)難以穩(wěn)定的實(shí)現(xiàn)作用力微控制，易發(fā)生控制壓力值圍繞設(shè)定值震蕩且偏差不能減小的技術(shù)問(wèn)題，使得閉環(huán)PID壓力控制后的壓力值變化幅度減小，跳動(dòng)頻率均勻，避免絲杠電機(jī)調(diào)節(jié)壓力時(shí)因設(shè)備本身屬性導(dǎo)致的壓力大幅波動(dòng)，提高了涂覆氧化鎂薄膜的厚度均勻性，進(jìn)而提高了硅鋼氧化鎂涂層的質(zhì)量。

參見(jiàn)圖1，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種硅鋼氧化鎂涂層的壓力控制方法，其中，硅鋼氧化鎂涂層采用涂機(jī)制備，涂機(jī)的上涂輥為支撐輥，涂機(jī)的下涂輥兩端絲杠電機(jī)驅(qū)動(dòng)上壓實(shí)現(xiàn)兩側(cè)壓力獨(dú)立控制。該方法采用壓力PID控制器對(duì)涂機(jī)進(jìn)行壓力控制，壓力PID控制器為閉環(huán)PID控制模式，該方法包括：

步驟10、實(shí)時(shí)檢測(cè)壓力PID控制器對(duì)涂機(jī)控制后的壓力反饋值。

步驟20、設(shè)置壓力值的死區(qū)區(qū)間，比較壓力反饋值是否進(jìn)入死區(qū)區(qū)間。

步驟30、當(dāng)壓力反饋值進(jìn)入死區(qū)區(qū)間時(shí)，關(guān)閉壓力PID控制器。

步驟40、當(dāng)壓力反饋值偏離死區(qū)區(qū)間時(shí)，重啟壓力PID控制器工作。

步驟50、當(dāng)死區(qū)區(qū)間發(fā)生變化時(shí)，重啟壓力PID控制器。

參見(jiàn)圖2，本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種硅鋼氧化鎂涂層的壓力控制裝置，該裝置采用壓力PID控制器對(duì)涂機(jī)進(jìn)行壓力控制，壓力PID控制器為閉環(huán)PID控制模式，該裝置包括：

監(jiān)測(cè)單元，實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)壓力PID控制器對(duì)涂機(jī)控制后的壓力反饋值；

比較單元，設(shè)置壓力值的死區(qū)區(qū)間，比較壓力反饋值是否進(jìn)入死區(qū)區(qū)間；

控制單元，當(dāng)壓力反饋值進(jìn)入死區(qū)區(qū)間時(shí)，關(guān)閉壓力PID控制器；

第一重啟單元，當(dāng)壓力反饋值偏離死區(qū)區(qū)間時(shí)，重啟壓力PID控制器工作；

第二重啟單元，當(dāng)死區(qū)區(qū)間發(fā)生變化時(shí)，重啟壓力PID控制器。

下面結(jié)合具體的實(shí)施例對(duì)本發(fā)明提供的硅鋼氧化鎂涂層的壓力控制方法及裝置進(jìn)行說(shuō)明：

本發(fā)明實(shí)施例提供的硅鋼氧化鎂涂層的壓力控制方法及裝置采用西門子S7-400PLC進(jìn)行編程，在現(xiàn)有的涂機(jī)閉環(huán)PID控制模式下，進(jìn)行以下步驟：通過(guò)檢測(cè)單元實(shí)時(shí)檢測(cè)壓力PID控制器對(duì)涂機(jī)控制后的壓力反饋值，該壓力反饋值從涂機(jī)上設(shè)置的壓力傳感器上傳；通過(guò)比較單元設(shè)置壓力值的死區(qū)區(qū)間，比較壓力反饋值是否進(jìn)入死區(qū)區(qū)間；當(dāng)壓力反饋值進(jìn)入死區(qū)區(qū)間時(shí)，控制單元控制關(guān)閉壓力PID控制器；壓力反饋值偏離死區(qū)區(qū)間時(shí)，第一重啟單元重啟壓力PID控制器工作；當(dāng)死區(qū)區(qū)間發(fā)生變化時(shí)，第二重啟單元重啟壓力PID控制器。

本發(fā)明實(shí)施例提供的硅鋼氧化鎂涂層的壓力控制方法及裝置，利用涂輥位置靜止時(shí)兩輥間隙量保持不變的特性，實(shí)現(xiàn)涂輥壓力控制穩(wěn)定。生產(chǎn)開(kāi)始時(shí)，通過(guò)PID控制器進(jìn)行壓力調(diào)節(jié)，并對(duì)壓力反饋值進(jìn)行監(jiān)控，當(dāng)壓力值進(jìn)入程序死區(qū)區(qū)間時(shí)，立即控制壓力PID控制器停止工作，并繼續(xù)監(jiān)控壓力反饋值的變化，當(dāng)反饋值超出死區(qū)區(qū)間時(shí)重啟壓力PID控制器，使壓力反饋至重新回到死區(qū)區(qū)間之內(nèi)。通過(guò)對(duì)實(shí)際效果檢測(cè)得知，在投入死區(qū)區(qū)間控制后，對(duì)涂機(jī)的壓力值變化幅度減小，跳動(dòng)頻率均勻，避開(kāi)了絲杠電機(jī)調(diào)節(jié)壓力時(shí)因設(shè)備本身屬性導(dǎo)致的壓力大幅波動(dòng)。

本發(fā)明實(shí)施例提供的一種或多種技術(shù)方案，至少具備以下有益效果：

本發(fā)明實(shí)施例提供的硅鋼氧化鎂涂層的壓力控制方法及裝置，通過(guò)設(shè)置壓力值的死區(qū)區(qū)間，比較壓力反饋值是否進(jìn)入死區(qū)區(qū)間，當(dāng)壓力反饋值進(jìn)入死區(qū)區(qū)間時(shí)，關(guān)閉壓力PID控制器使其停止工作；關(guān)閉壓力PID控制器后絲杠保持靜止?fàn)顟B(tài)，涂輥水平位置不再變化，上涂輥與下涂輥的間隙量維持穩(wěn)定，涂機(jī)壓力反饋也趨于穩(wěn)定，使得PID壓力控制后的壓力值變化幅度減小，跳動(dòng)頻率均勻，能夠避免絲杠電機(jī)調(diào)節(jié)壓力時(shí)因設(shè)備本身屬性導(dǎo)致的壓力大幅波動(dòng)，提高了涂覆氧化鎂薄膜的厚度均勻性，進(jìn)而提高了硅鋼氧化鎂涂層的質(zhì)量。

最后所應(yīng)說(shuō)明的是，以上具體實(shí)施方式僅用以說(shuō)明本發(fā)明的技術(shù)方案而非限制，盡管參照實(shí)例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了詳細(xì)說(shuō)明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，可以對(duì)本發(fā)明的技術(shù)方案進(jìn)行修改或者等同替換，而不脫離本發(fā)明技術(shù)方案的精神和范圍，其均應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的權(quán)利要求范圍當(dāng)中。