一種粉體或顆粒等離子體處理裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種粉體或顆粒等離子體處理裝置，包括：具有腔室的可旋轉(zhuǎn)筒體或球體，腔室空間為圓柱體或球體；驅(qū)動筒體或球體旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動裝置；多個位于腔室中的固定的棒形正電極，正電極的縱向與腔室空間的縱向一致；金屬負電極；與正電極和負電極實現(xiàn)電連接使腔室中產(chǎn)生等離子體氣體的等離子體電源；其中，腔室壁體的至少一部分構(gòu)成金屬負電極，在正電極和負電極之間有至少一個介電材料層，上述多個固定的棒形正電極的橫截面呈正多邊形排列或圓形排列，并且在棒形正電極工作時，其即被用作正電極，又被用作粉體或顆粒的攪拌棒，從而使粉體或顆粒被均勻分散和均勻處理。上述等離子體處理裝置特別適合于處理各種催化劑，從而大大改善催化劑的性能。
【專利說明】一種粉體或顆粒等離子體處理裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種粉體或顆粒等離子體處理裝置，特別是，涉及一種能夠均勻分散和均勻處理粉體或顆粒、并能有效進行工業(yè)放大的等離子體處理裝置。本發(fā)明裝置特別適合于對各種催化劑進行改性處理，以改善他們的催化性能。
【背景技術(shù)】
[0002]用等離子體處理粉體和顆粒已有多年實踐。已證明等離子體處理可改善粉體和顆粒材料的各種化學(xué)和/或物理特性，例如氧化、還原、交聯(lián)、解吸、蝕刻、接枝和/或聚合等性能。粉體和顆粒材料可是碳納米管、炸藥、催化劑等。例如，用等離子體處理催化劑可使其具有商業(yè)應(yīng)用價值所需的性能。
[0003]用等離子體處理粉體或顆粒的現(xiàn)有設(shè)備結(jié)構(gòu)各異，但它們都有明顯缺點，如裝載量低、操作復(fù)雜、或工業(yè)放大困難等。
[0004]CN2718948Y公開了一種等離子體材料處理設(shè)備，該裝置用一種流化床使粉體或顆粒在反應(yīng)器中流化，并在反應(yīng)器中生成等離子體以處理粉體或顆粒。在流化作用下，粉體或顆?？梢员痪鶆蛱幚?。但是，根據(jù)等離子體的生成理論，反應(yīng)器的體積非常有限。在該專利文獻中，反應(yīng)器的尺寸為0 20mmxL150mm，并且在反應(yīng)器的中心還有一個正電極，正電極也會占據(jù)一定的空間，使反應(yīng)器的有效利用空間非常有限。而且反應(yīng)器中的正電極與外部的負電極的距離被嚴格限制到一定的范圍(小于10mm)，從而限制了裝置的處理能力。另外，雖然流化可以使處理變得均勻，但處理不同的粉體時，實現(xiàn)流化的參數(shù)是不同的，因此也就導(dǎo)致了該裝置操作非常復(fù)雜。
[0005]CN101687171A公開了一種粉體處理裝置。雖然該粉體處理裝置能更均勻地處理粉體，但結(jié)構(gòu)過于復(fù)雜以至于難以大規(guī)模工業(yè)放大。此外，該裝置必須使用真空系統(tǒng)，這又增加了操作費用，并限制了該裝置的推廣。而且，為了使粉體從腔室內(nèi)壁上脫離，該文獻中還引入了一個復(fù)雜的脫離系統(tǒng)。
[0006]上述專利文獻在此全文引入以作參考。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]鑒于現(xiàn)有技術(shù)中存在的上述問題，本發(fā)明旨在提供一種結(jié)構(gòu)簡單、操作容易、能均勻分散和均勻處理粉體或顆粒、并能有效進行工業(yè)放大的等離子體處理裝置。
[0008]根據(jù)本發(fā)明的第一方面，提供一種粉體或顆粒等離子體處理裝置，包括:具有腔室的可旋轉(zhuǎn)筒體或球體，所述腔室的空間為圓柱體或球體，在所述筒體或球體上具有所述粉體或顆粒的入口和工作氣體入口，以便將所述粉體或顆粒和工作氣體送入上述腔室中；
[0009]用于驅(qū)動所述筒體或球體旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動裝置；
[0010]多個位于所述腔室中的固定的棒形正電極，所述正電極的縱向與所述腔室空間的縱向一致；
[0011]金屬負電極；[0012]與所述正電極和負電極實現(xiàn)電連接使所述腔室中產(chǎn)生等離子體氣體的等離子體電源；
[0013]其中，所述腔室壁體的至少一部分構(gòu)成所述金屬負電極，在所述正電極和負電極之間有至少一個介電材料層，所述至少一個介電材料層對應(yīng)所有的正電極或其中的一個正電極，其特征在于:
[0014]上述多個固定的棒形正電極的橫截面呈正多邊形排列或圓形排列，并且在棒形正電極工作時，其即被用作正電極，又被用作上述粉體或顆粒的攪拌棒，從而使所述粉體或顆粒被均勻分散和均勻處理。
[0015]根據(jù)本發(fā)明的第二方面，提供一種粉體或顆粒等離子體處理裝置，包括:具有腔室的可旋轉(zhuǎn)筒體或球體，所述腔室的空間為圓柱體或球體，在所述筒體或球體上具有所述粉體或顆粒的入口和工作氣體入口，以便將所述粉體或顆粒和工作氣體送入上述腔室中；
[0016]用于驅(qū)動所述筒體或球體旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動裝置；
[0017]一個位于所述腔室中的固定的正電極，所述正電極的橫截面為扇形或所述正電極為扇形，并且扇形圓心線位于腔室圓柱體空間軸線上或扇形圓心位于腔室球體空間中心上;
[0018]金屬負電極；
[0019]與所述正電極和負電極實現(xiàn)電連接使所述腔室中產(chǎn)生等離子體氣體的等離子體電源；
[0020]其中，所述腔室壁體的至少一部分構(gòu)成所述金屬負電極，在所述正電極和負電極之間有至少一個介電材料層，所述至少一個介電材料層對應(yīng)所有的正電極或其中的一個正電極，其特征在于:
[0021]在所述腔室內(nèi)表面上有至少一個凸起部件，被用作上述粉體或顆粒的攪拌裝置，從而使所述粉體或顆粒被均勻分散和均勻處理。
[0022]所述凸起部件的形狀或其橫截面形狀可是銳角形、鈍角形、半圓形、弧線形、和/或流線型。
[0023]根據(jù)本發(fā)明第一和第二方面，在所述筒體或球體上還具有壓縮空氣入口，以便將壓縮空氣送入上述腔室中，用于將粘附在所述腔室內(nèi)壁上或正電極表面上的粉體或顆粒剝離。
[0024]優(yōu)選地，所述介電材料層為石英玻璃管、有機材料管和/或陶瓷管，所述有機材料可是一些有機高分子材料，例如聚胺或聚酯材料，所述陶瓷例如可是剛玉瓷或氧化鋁瓷，上述介電材料層可是包圍所有正電極的介電材料層，也可是僅包圍一個正電極的介電材料層，此時介電材料層的數(shù)量與正電極數(shù)量相同，在此情況下，優(yōu)選地，介電材料層形成套管，套在每一個棒形正電極上面，以減少正電極的工作磨損；所述等離子體是介質(zhì)阻擋放電(DBD)產(chǎn)生的等離子體氣體；所述正電極與所述負電極之間的距離可是1-50毫米；所述正電極材料為石墨或含石墨的物質(zhì)；所述金屬負電極材料為鐵、鋼、銅、鋁、各種合金或貴金屬；所述等離子體工作氣體是空氣和/或惰性氣體；所述等離子體電源的工作電壓為IO4?IO6伏；頻率為50赫茲-1兆赫茲；所述等離子體電源還包括一個脈沖變壓器。
[0025]通常，所述粉體或顆粒等離子體處理裝置為臥式結(jié)構(gòu)，即所述腔室的縱向在水平方向上；所述裝置在常溫和常壓下工作；一次加入到所述腔室中的所述粉體或顆粒的體積是所述腔室空間體積的10-70%，優(yōu)選是20-50%，例如30-40%。
[0026]上述粉體或顆粒等離子體處理裝置可處理單一種類的粉體或顆粒，也可處理幾種粉體或顆粒的混合物，還可處理粉體和顆粒的混合物，其特別適合于處理各種催化劑，從而大大改善催化劑的性能。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0027]從下述參考附圖的描述中可明顯地看出本發(fā)明上述和其它特征和優(yōu)點，附圖各圖中相對應(yīng)或等同的部位或部件將采用相同的標記數(shù)表示。其中:
[0028]圖1是本發(fā)明一個實施方式的粉體或顆粒等離子體處理裝置的主視圖；
[0029]圖2是圖1所示的粉體或顆粒等離子體處理裝置中的筒體和腔室的縱向剖視圖；
[0030]圖3是本發(fā)明另一個實施方式的用于粉體或顆粒等離子體處理裝置的筒體和腔室橫向剖視圖；
[0031]圖4是圖1所示的粉體或顆粒等離子體處理裝置的橫向剖視圖；；
[0032]圖5是未經(jīng)本發(fā)明粉體或顆粒等離子體處理的裝置處理的催化劑的TEM照片；
[0033]圖6是經(jīng)本發(fā)明粉體或顆粒等離子體處理裝置處理后的催化劑的TEM照片。
[0034]其中，附圖標計數(shù)說明如下:
[0035]附圖標記說明
[0036]1-筒體2-正電·極 4-電源
[0037]5_脈沖變壓器 6_箱體7_控制面板
[0038]8-扇形電極 9-凸起部件 11-腔室
[0039]12-石英玻璃管 13-裝料入口 14-空氣入口
[0040]15-堵頭21-導(dǎo)線22-端子
[0041]31-伺服電機 32-第一皮帶輪33-第一齒輪
[0042]34_第二齒輪 35_第二皮帶輪36-皮帶
[0043]61-滾輪62-支架
【具體實施方式】
[0044]通過下面參考實施例的描述進一步詳細解釋本發(fā)明，但以下包括實施例的描述僅用于使本發(fā)明所屬【技術(shù)領(lǐng)域】的普通技術(shù)人員能夠更加清楚地理解本發(fā)明的原理和精髓，不意味著對本發(fā)明進行任何形式的限制。
[0045]本發(fā)明粉體或顆粒等離子體處理裝置可用于均勻、有效地大規(guī)模處理粉體或顆粒材料。在本發(fā)明第一個技術(shù)方案中，如圖1、圖2和圖4所示，多個棒形石墨或陶瓷正電極2和作為腔室11壁體至少一部分的金屬負電極(未標記)產(chǎn)生介質(zhì)阻擋放電等離子體(DBD等離子體)，所以，本發(fā)明裝置不需要真空系統(tǒng)。多個棒形正電極2可在筒體I旋動時作為攪拌棒攪拌正在被處理的粉體或顆粒。另外，還可定期向腔室11中吹入壓縮空氣，以將粘附在腔室11內(nèi)壁上或電極2外表面上的粉體或顆粒剝離。
[0046]如圖1、圖2和圖4所示，本發(fā)明粉體或顆粒等離子體處理裝置，包括具有腔室11的筒體1、固定設(shè)置在腔室11中的多個石墨棒形正電極2、用于驅(qū)動筒體I旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動裝置
3、作為腔室11壁體至少一部分的金屬負電極，以及用于與正電極2和金屬負電極實現(xiàn)電連接使腔室11中產(chǎn)生等離子氣體的等離子體電源(包括電源4和脈沖變壓器5);多個正電極2和作為腔室11壁體至少一部分的金屬負電極之間有至少一個介電材料層(多為絕緣介質(zhì)層)，例如石英玻璃管12。筒體I上還有用于向腔室11中加入需要處理的粉體或顆粒的入口 13和用于通入高壓空氣以將粘附在腔室11內(nèi)壁或多個正電極2外表面上的粉體或顆粒剝離的高壓空氣入口 14，入口 14還可作為工作氣體入口，并實現(xiàn)常壓空氣和高壓空氣的自動切換。本發(fā)明粉體或顆粒等離子體處理裝置所處理的粉體或顆粒的粒徑通常小于20毫米，特別是小于5毫米，當處理粉體時，粉體的粒徑優(yōu)選小于0.1毫米。
[0047]如圖2和圖4所示,筒體I為臥式(或稱為水平)設(shè)置,筒體I最內(nèi)層是作為絕緣介質(zhì)層的石英玻璃管12，石英玻璃管12外部是構(gòu)成腔室11壁體至少一部分的金屬負電極，金屬負電極接地，筒體I 一端可設(shè)置端蓋(未示出)，所述端蓋用于蓋住入口 13，空氣入口 14在所述端蓋上并與腔室11連通，筒體I另一端有堵頭15。
[0048]結(jié)合圖2和圖4，多個正電極2通常為石墨棒或陶瓷棒2，它一端被固定連接在筒體I的堵頭14上，所述多個正電極2均水平排布、并且在腔室11中其橫截面圍成正多邊形或圓形，例如正三角形-正八角形，這樣排布是為了正電極2和負電極之間能均勻放電，避免發(fā)生局部擊穿，影響放電效果。
[0049]如圖1所示，驅(qū)動裝置包括伺服電機31、在伺服電機31輸出軸上的第一皮帶輪32、套在筒體I上的第一齒輪33、與第一齒輪33嚙合的第二齒輪34、以及與第二齒輪34同軸固定在一起的第二皮帶輪35，第一皮帶輪32與第二皮帶輪35通過皮帶36連接。伺服電機31啟動后，輸出軸31帶動第一皮帶輪32 —起轉(zhuǎn)動，由于第一皮帶輪32與第二皮帶輪35通過皮帶36連接，因此第二皮帶輪35隨第一皮帶輪32 —起轉(zhuǎn)動。由于第二皮帶輪35與第二齒輪34同軸固定在一起，因此第二齒輪34在第二皮帶輪35帶動下轉(zhuǎn)動，而第一齒輪33又與第二齒輪34相嚙合，因此第二齒輪34轉(zhuǎn)動將帶動第一齒輪33轉(zhuǎn)動，而筒體I與第一齒輪33固定在一起，因此筒體I將隨第一齒輪33轉(zhuǎn)動而轉(zhuǎn)動。但筒體I中的棒形正電極2不會隨筒體I 一起轉(zhuǎn)動，這樣，相對于腔室11中正在進行等離子體處理、并隨筒體I 一起轉(zhuǎn)動或運動的粉體或顆粒，多個棒形正電極2與它們之間會有一個相對移動或運動，從而使得棒形正電極2工作時，其即被用作正電極，又被用作上述粉體或顆粒的攪拌棒，使所述粉體或顆粒在腔室11中被均勻分散和均勻處理。
[0050]如圖1所示，所述等離子體電源包括電源4和脈沖變壓器5，電源4與脈沖變壓器5實現(xiàn)電連接，之后脈沖變壓器5又與正電極2和金屬負電極實現(xiàn)電連接，通過正電極2和金屬負電極之間的脈沖DBD放電，使腔室11中的工作氣體、例如空氣和/或氬氣發(fā)生高壓電離，從而使它們變?yōu)榈入x子氣體。
[0051]事實上，如圖2所示，上述多個正電極2與堵頭15連接的一端分別通過不同的導(dǎo)線21被電連接到同一端子22上，而端子22又與脈沖變壓器5實現(xiàn)電連接。
[0052]優(yōu)選地，本發(fā)明粉體或顆粒等離子體處理裝置還進一步包括用于控制伺服電機31轉(zhuǎn)速以及電源4輸出電壓和電流的控制部件(未標識)。上述裝置還可包括箱體6，筒體I優(yōu)選地位于箱體6的頂部，伺服電機31、電源4、脈沖變壓器5和所述控制部件均可位于箱體6中，箱體6前表面上可有與所述控制部件實現(xiàn)自動控制連接的控制面板7。如圖3所示，箱體6上可有用于支撐筒體I并使筒體I能在其上滾動的滾輪61。為了更好地保持筒體I的穩(wěn)定，如圖1所不，在筒體I堵頭15 —端還可有固定在箱體6上的支架62。[0053]下面參考附圖簡要說明本發(fā)明上述裝置的工作過程:
[0054]如圖1、圖2和圖4所示，首先將需要等離子體處理的粉體或顆粒從入口 13裝入腔室11中，并通過空氣入口 14通入工作氣體、例如空氣。然后接通伺服電機31，伺服電機31將帶動筒體I轉(zhuǎn)動，但固定在筒體I中的棒形正電極2并不隨筒體I 一起轉(zhuǎn)動，因此，棒形正電極2對正在處理的粉體或顆粒起到攪拌作用，因為當筒體I轉(zhuǎn)動時，粉體或顆粒在腔室11中也在轉(zhuǎn)動或滾動，而棒形正電極2卻相對不動。
[0055]當電源4和脈沖變壓器5與正電極2和金屬負電極實現(xiàn)電連通時，腔室11中的工作氣體因被高壓電離而成為等離子氣體，從而使與等離子氣體接觸的粉體、粉體之間，或顆粒、顆粒之間發(fā)生物理或化學(xué)變化。幾秒鐘或幾分鐘后，壓縮空氣從空氣入口 14被定期通入腔室11中，從而將粘附在腔室11內(nèi)壁上或正電極2外表面上的粉體或顆粒剝離下來。粉體或顆粒在腔室11中被多個正電極2不斷攪拌，同時定期被壓縮空氣吹動和剝離，這樣就可達到均勻分散和均勻處理。等離子體處理時間可由計算機自動控制。在計算機的自動控制下，電源4和伺服電機31可分別自動啟動和關(guān)閉，通過這種控制，可對操作參數(shù)進行優(yōu)化。處理完成后，粉體或顆粒從入口 13排出。
[0056]一次加入到所述腔室11中的上述粉體或顆粒的體積通常是所述腔室空間體積的10-70%,特別是20-50%，例如30-40%，這樣在保證裝置運轉(zhuǎn)經(jīng)濟性的前提下，可實現(xiàn)最好的均勻分散和均勻處理。
[0057]圖3代表了本發(fā)明粉體或顆粒等離子體處理裝置的另一種技術(shù)方案，與圖1、圖2和圖4所示的技術(shù)方案不同，在該技術(shù)方案中，采用了一個、而不是多個正電極，其同樣位于所述腔室11中并被固定，所述正電極8的橫截面為扇形或所述正電極8本身為扇形，并且扇形圓心線位于腔室11圓柱形空間軸線上或扇形圓心位于腔室11球體空間中心上。同樣，腔室11壁體的至少一部分構(gòu)成金屬負電極(未標記)，在正電極8和作為腔室11壁體至少一部分的金屬負電極之間有至少一個介電材料層(多為絕緣介質(zhì)層)，例如石英玻璃管或空心石英玻璃球，向所述腔室11中通入工作氣體、例如空氣和/或氬氣后，當正電極8和構(gòu)成腔室11壁體至少一部分的金屬負電極之間形成高壓時，可產(chǎn)生介質(zhì)阻擋放電(DBD)，使其間的工作氣體被高壓放電離解，從而變成DBD等離子氣體。同樣，當筒體I旋轉(zhuǎn)時，腔室11中正在進行等離子體處理的粉體或顆粒也將隨筒體I旋轉(zhuǎn)而旋轉(zhuǎn)或滾動，但正電極8并不隨筒體I旋轉(zhuǎn)而旋轉(zhuǎn)，其在腔室11中是固定的。
[0058]由于在圖3所示的裝置中，只有一個正電極8，盡管其也會與正在進行等離子體處理的粉體或顆粒產(chǎn)生一定的相對移動或運動，但其無法起到很均勻分散粉體或顆粒的作用，為此，在腔室11內(nèi)表面上設(shè)置至少一個凸起部件9，該凸起部件9被用作上述粉體或顆粒的攪拌裝置，從而使所述粉體或顆粒在腔室11中被均勻分散和均勻處理。
[0059]上述凸起部件9通常是多個，其數(shù)量取決于腔室11內(nèi)表面面積的大小和粉體或顆粒裝載量的多少，圖3給出了六個凸起部件9，通常情況下，凸起部件9數(shù)量越多，粉體或顆粒分散和處理越均勻，但凸起部件9數(shù)量過多，會引起放電不均勻，從而影響到粉體或顆粒等離子體處理的效果。
[0060]上述凸起部件9的形狀可是各種各樣的，只要能達到良好分散的效果就行，其形狀或其橫截面形狀可是銳角形、鈍角形、半圓形、弧線形、和/或流線型等等。
[0061]事實上，圖3所示的裝置與圖1、圖2和圖4所示的裝置除了正電極的形狀和數(shù)量以及攪拌機構(gòu)的不同外，其它組件或部件都可以相同或相似，工作原理和操作參數(shù)也基本相同或相似。
[0062]實施例
[0063]實施例1
[0064]用圖1、圖2和圖4所示的粉體或顆粒等離子體處理裝置處理甲烷化反應(yīng)催化劑，催化劑的主要成分是:Ni (NO3)2.6H20和A1203。
[0065]所述裝置的操作參數(shù)如下:電源4輸出功率為500瓦,工作電壓為IO5伏；頻率為IO4赫茲；筒體I轉(zhuǎn)速為8轉(zhuǎn)/分鐘，每隔半分鐘將壓縮空氣引入到腔室11中，總處理時間約為10分鐘。
[0066]對經(jīng)上述等離子體處理的催化劑和未經(jīng)處理的催化劑進行TEM測試，獲得如圖5和圖6所示的兩種催化劑TEM照片。
[0067]比較圖5和圖6發(fā)現(xiàn):經(jīng)本發(fā)明裝置等離子體處理的催化劑(圖6)比未經(jīng)處理的催化劑(圖5)分散性更好，Ni顆粒更小?？梢灶A(yù)計:經(jīng)本發(fā)明裝置等離子體處理的催化劑(圖6)會表現(xiàn)出優(yōu)異的催化性能，特別是較高的催化活性。
[0068]本說明書所用的術(shù)語和表述方式僅被用作描述性、而非限制性的術(shù)語和表述方式，在使用這些術(shù)語和表述方式時無意將已表示和描述的特征或其組成部分的任何等同物排斥在外。
[0069]盡管已表示和描述了本發(fā)明的幾個實施方式，但本發(fā)明不被限制為所描述的實施方式。相反，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員應(yīng)當意識到在不脫離本發(fā)明原則和精神的情況下可對這些實施方式進行任何變通和改進，本發(fā)明的保護范圍由所附的權(quán)利要求及其等同物所確定。
【權(quán)利要求】
1.一種粉體或顆粒等離子體處理裝置，包括: 具有腔室的可旋轉(zhuǎn)筒體或球體，所述腔室的空間為圓柱體或球體，在所述筒體或球體上具有所述粉體或顆粒的入口和工作氣體入口，以便將所述粉體或顆粒和工作氣體送入上述腔室中； 用于驅(qū)動所述筒體或球體旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動裝置； 多個位于所述腔室中的固定的棒形正電極，所述正電極的縱向與所述腔室空間的縱向一致； 金屬負電極； 與所述正電極和負電極實現(xiàn)電連接使所述腔室中產(chǎn)生等離子體氣體的等離子體電源； 其中，所述腔室壁體的至少一部分構(gòu)成所述金屬負電極，在所述正電極和負電極之間有至少一個介電材料層，所述至少一個介電材料層對應(yīng)所有的正電極或其中的一個正電極，其特征在于: 上述多個固定的棒形正電極的橫截面呈正多邊形排列或圓形排列，并且在棒形正電極工作時，其即被用作正電極，又被用作上述粉體或顆粒的攪拌棒，從而使所述粉體或顆粒被均勻分散和均勻處理。
2.—種粉體或顆粒等離子體處理裝置，包括: 具有腔室的可旋轉(zhuǎn)筒體或球體，所述腔室的空間為圓柱體或球體，在所述筒體或球體上具有所述粉體或顆粒的入口和工作氣 體入口，以便將所述粉體或顆粒和工作氣體送入上述腔室中； 用于驅(qū)動所述筒體或球體旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動裝置； 一個位于所述腔室中的固定的正電極，所述正電極的橫截面為扇形或所述正電極為扇形，并且扇形圓心線位于腔室圓柱體空間軸線上或扇形圓心位于腔室球體空間中心上；金屬負電極； 與所述正電極和負電極實現(xiàn)電連接使所述腔室中產(chǎn)生等離子體氣體的等離子體電源； 其中，所述腔室壁體的至少一部分構(gòu)成所述金屬負電極，在所述正電極和負電極之間有至少一個介電材料層，所述至少一個介電材料層對應(yīng)所有的正電極或其中的一個正電極，其特征在于: 在所述腔室內(nèi)表面上有至少一個凸起部件，被用作上述粉體或顆粒的攪拌裝置，從而使所述粉體或顆粒被均勻分散和均勻處理。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的等離子體處理裝置，其中，所述凸起部件的形狀或其橫截面形狀為銳角形、鈍角形、半圓形、弧線形、和/或流線型。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的等離子體處理裝置，其中，在所述筒體或球體上具有壓縮空氣入口，以便將壓縮空氣送入上述腔室中，用于將粘附在所述腔室內(nèi)壁上或正電極表面上的粉體或顆粒剝離。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的等離子體處理裝置，其中，所述介電材料層為石英玻璃管、有機材料管和/或陶瓷管。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的等離子體處理裝置，其中，所述等離子體是介質(zhì)阻擋放電(DBD)產(chǎn)生的等離子體氣體。
7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的等離子體處理裝置，其中，所述正電極與所述負電極之間的距離是1-50毫米。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的等離子體處理裝置，其中，所述正電極材料為石墨或含石墨的物質(zhì)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的等離子體處理裝置，其中，所述金屬負電極材料為鐵、鋼、銅、鋁、各種合金或貴金屬。
10.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的等離子體處理裝置，其中，所述等離子體工作氣體是空氣和/或惰性氣體。
11.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的等離子體處理裝置，其中，所述等離子體電源的工作電壓為IO4~IO6伏；頻率為50赫茲-1兆赫茲。
12.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的等離子體處理裝置，其中，所述等離子體電源包括一個脈沖變壓器。
13.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的等離子體處理裝置，其中，所述腔室的縱向在水平方向上。
14.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的等離子體處理裝置，其中，所述裝置在常溫和常壓下工作。·
15.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的等離子體處理裝置，其中，一次加入到所述腔室中的所述粉體或顆粒的體積是所述腔室空間體積的10-70%。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的等離子體處理裝置，其中，一次加入到所述腔室中的所述粉體或顆粒的體積進一步是所述腔室空間體積的20-50%。
17.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的等離子體處理裝置，其中，所述粉體或顆粒是單一物質(zhì)或混合物。
18.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的等離子體處理裝置，其中，所述粉體或顆粒是各種催化劑。
【文檔編號】B01J37/34GK103846111SQ201210505886
【公開日】2014年6月11日 申請日期:2012年11月30日 優(yōu)先權(quán)日:2012年11月30日
【發(fā)明者】馮沛, 劉媛, 王勇 申請人:神華集團有限責任公司, 北京低碳清潔能源研究所