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自動清潔式育苗盤清洗機的制作方法

文檔序號:10865746閱讀:669來源:國知局
自動清潔式育苗盤清洗機的制作方法
【專利摘要】本實用新型涉及育苗技術(shù)設(shè)備領(lǐng)域,尤其涉及一種自動清潔式育苗盤清洗機,包括機架,機架上設(shè)有育苗盤輸送導(dǎo)軌,機架上還設(shè)有育苗盤輸送鏈條,育苗盤輸送鏈條上設(shè)有推板;還包括清洗系統(tǒng),清洗系統(tǒng)包括在機架上沿育苗盤輸送導(dǎo)軌依次設(shè)置的低壓濕潤裝置、清洗輥裝置、高壓清洗裝置;低壓濕潤裝置噴水對育苗盤上的進(jìn)行初步清洗育苗盤上粘附的污泥被濕潤,方便進(jìn)行下一步處理,清洗輥裝置包括上清洗輥和下清洗輥,上清洗輥和下清洗輥分別對育苗盤進(jìn)行清洗,高壓清洗裝置的至少兩排高壓噴頭利用高壓水流對育苗盤進(jìn)行沖刷,清洗效果更好。
【專利說明】
自動清潔式育苗盤清洗機
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實用新型涉及一種育苗盤清洗機。
【背景技術(shù)】
[0002]育苗盤是工廠化種苗生產(chǎn)工藝中的一種重要器具,育苗盤的形狀為長方形,其表面分布有多處穴孔,穴孔內(nèi)可以填充育苗用的基質(zhì),用于植物幼苗的培育,為了保證透氣性,每一個穴孔的底部均設(shè)有透氣孔。為了實現(xiàn)重復(fù)使用,用過后的育苗盤需要進(jìn)行清洗。由于育苗盤為多穴孔結(jié)構(gòu),清洗時較為困難,通常的做法是將育苗盤放置到清洗池中,進(jìn)行人工刷洗,這種方式不僅占用人力較多,而且效率低下。
【實用新型內(nèi)容】
[0003]為了彌補以上不足,本實用新型提供了一種育苗盤清洗效率高,清洗效果好的自動清潔式育苗盤清洗機。
[0004]本實用新型的技術(shù)方案是:自動清潔式育苗盤清洗機,包括機架,所述機架上設(shè)有育苗盤輸送導(dǎo)軌,所述機架上還設(shè)有育苗盤輸送鏈條,所述育苗盤輸送鏈條上設(shè)有多個推動育苗盤沿育苗盤輸送導(dǎo)軌運動的推板,所述機架上設(shè)有育苗盤輸送鏈條清洗裝置;還包括清洗系統(tǒng),所述清洗系統(tǒng)包括在所述機架上沿所述育苗盤輸送導(dǎo)軌依次設(shè)置的低壓濕潤裝置、清洗輥裝置、高壓清洗裝置,所述低壓濕潤裝置包括位于所述育苗盤輸送導(dǎo)軌下方的低壓噴頭,所述清洗輥裝置包括兩位于所述育苗盤輸送導(dǎo)軌下部的下清洗輥和位于所述育苗盤輸送導(dǎo)軌上部的上清洗輥,所述下清洗輥設(shè)置在上清洗輥的下方,所述高壓清洗裝置包括位于所述育苗盤輸送導(dǎo)軌下方的至少兩排高壓噴頭,所述上清洗輥和兩下清洗輥連接有轉(zhuǎn)動驅(qū)動裝置。
[0005]作為優(yōu)選的技術(shù)方案,位于下游的所述高壓噴頭的水壓高于位于上游的所述高壓嗔頭的水壓。
[0006]作為優(yōu)選的技術(shù)方案,所述高壓噴頭設(shè)置為四排。
[0007]作為優(yōu)選的技術(shù)方案,所述機架上還設(shè)有清洗噴頭,所述清洗噴頭向所述上清洗輥和下清洗輥噴水。
[0008]作為優(yōu)選的技術(shù)方案,相鄰所述推板之間的距離對應(yīng)于所述育苗盤的大小。
[0009]作為優(yōu)選的技術(shù)方案,所述育苗盤輸送導(dǎo)軌包括上軌道和下軌道,所述上軌道和所述下軌道之間設(shè)有導(dǎo)向間隙,所述導(dǎo)向間隙和所述通過間隙相連通,所述推板位于所述導(dǎo)向間隙內(nèi),所述下軌道臨近于所述低壓噴頭的一端安裝有托板,所述托板的上表面和所述下軌道的上表面平齊。
[0010]作為優(yōu)選的技術(shù)方案,所述育苗盤輸送鏈條清洗裝置設(shè)置在所述育苗盤輸送導(dǎo)軌臨近于所述高壓噴頭的端部的外側(cè),所述育苗盤輸送鏈條清洗裝置包括上清洗毛刷和下清洗毛刷,所述上清洗毛刷位于所述育苗盤輸送鏈條上方,所述下清洗毛刷位于所述育苗盤輸送鏈條下方。[0011 ]由于采用了上述技術(shù)方案,自動清潔式育苗盤清洗機,包括機架,所述機架上設(shè)有育苗盤輸送導(dǎo)軌,所述機架上還設(shè)有育苗盤輸送鏈條,所述育苗盤輸送鏈條上設(shè)有多個推動育苗盤沿育苗盤輸送導(dǎo)軌運動的推板,所述機架上設(shè)有育苗盤輸送鏈條清洗裝置;還包括清洗系統(tǒng),所述清洗系統(tǒng)包括在所述機架上沿所述育苗盤輸送導(dǎo)軌依次設(shè)置的低壓濕潤裝置、清洗輥裝置、高壓清洗裝置,所述低壓濕潤裝置包括位于所述育苗盤輸送導(dǎo)軌下方的低壓噴頭,所述清洗輥裝置包括兩位于所述育苗盤輸送導(dǎo)軌下部的下清洗輥和位于所述育苗盤輸送導(dǎo)軌上部的上清洗輥,所述下清洗輥設(shè)置在上清洗輥的下方,所述高壓清洗裝置包括位于所述育苗盤輸送導(dǎo)軌下方的至少兩排高壓噴頭,所述上清洗輥和兩下清洗輥連接有轉(zhuǎn)動驅(qū)動裝置;低壓濕潤裝置噴水對育苗盤上的進(jìn)行初步清洗育苗盤上粘附的污泥被濕潤,方便進(jìn)行下一步處理,清洗輥裝置包括上清洗輥和下清洗輥,上清洗輥和下清洗輥分別對育苗盤進(jìn)行清洗,高壓清洗裝置的至少兩排高壓噴頭利用高壓水流對育苗盤進(jìn)行沖刷,其中位于下游的所述高壓噴頭的水壓高于位于上游的所述高壓噴頭的水壓,清洗效果更好;育苗盤不斷放入托板上,在推板的推動下,育苗盤從托盤運動至上軌道和所述下軌道之間的導(dǎo)向間隙,在推板的推動下進(jìn)行輸送,育苗盤在輸送過程中,經(jīng)過低壓濕潤裝置、清洗輥裝置、高壓清洗裝置的清洗,清洗效果好,清洗效率較高。
【附圖說明】
[0012]為了更清楚地說明本實用新型實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例,對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動性的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0013]圖1是本實用新型實施例的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實施方式】
[0014]如圖1所示,自動清潔式育苗盤清洗機,包括機架I,所述機架I上設(shè)有育苗盤輸送導(dǎo)軌2,所述機架I上還設(shè)有育苗盤輸送鏈條3,所述育苗盤輸送鏈條3上設(shè)有多個推動育苗盤4沿育苗盤輸送導(dǎo)軌運動的推板5,所述機架上設(shè)有育苗盤輸送鏈條清洗裝置;還包括清洗系統(tǒng),所述清洗系統(tǒng)包括在所述機架I上沿所述育苗盤輸送導(dǎo)軌2依次設(shè)置的低壓濕潤裝置、清洗輥裝置、高壓清洗裝置,所述低壓濕潤裝置包括位于所述育苗盤輸送導(dǎo)軌2下方的低壓噴頭12,所述清洗輥裝置包括兩位于所述育苗盤輸送導(dǎo)軌2下部的下清洗輥13和位于所述育苗盤輸送導(dǎo)軌2上部的上清洗輥14,所述下清洗輥13設(shè)置在上清洗輥14的下方,所述高壓清洗裝置包括位于所述育苗盤輸送導(dǎo)軌下方的至少兩排高壓噴頭15,所述上清洗輥14和兩下清洗輥13連接有轉(zhuǎn)動驅(qū)動裝置。
[0015]所述高壓清洗裝置包括位于所述育苗盤輸送導(dǎo)軌下方的至少兩排高壓噴頭15,在本實施例中所述高壓噴頭15設(shè)置為四排,位于下游的所述高壓噴頭15的水壓高于位于上游的所述高壓噴頭15的水壓。清洗效果更好。
[0016]所述機架上還設(shè)有清洗噴頭16,所述清洗噴頭16向所述上清洗輥14和下清洗輥13噴水。輔助上清洗輥和下清洗輥的清洗作業(yè),并能對上清洗輥和下清洗輥進(jìn)行清洗。
[0017]相鄰所述推板5之間的距離對應(yīng)于所述育苗盤4的大小。育苗盤4放置在相鄰的推板之間。
[0018]所述育苗盤輸送導(dǎo)軌包括上軌道17和下軌道18,所述上軌道17和所述下軌道18之間設(shè)有導(dǎo)向間隙19,所述導(dǎo)向間隙19和所述通過間隙8相連通,所述推板5位于所述導(dǎo)向間隙19內(nèi),所述下軌道18臨近于所述低壓噴頭的一端安裝有托板22,所述托板22的上表面和所述下軌道18的上表面平齊。
[0019]所述育苗盤輸送鏈條清洗裝置設(shè)置在所述育苗盤輸送導(dǎo)軌臨近于所述高壓噴頭的端部的外側(cè),所述育苗盤輸送鏈條清洗裝置包括上清洗毛刷20和下清洗毛刷21,所述上清洗毛刷20位于所述育苗盤輸送鏈條3上方,所述下清洗毛刷21位于所述育苗盤輸送鏈條3下方。
[0020]低壓濕潤裝置噴水對育苗盤上的進(jìn)行初步清洗育苗盤上粘附的污泥被濕潤,方便進(jìn)行下一步處理,清洗輥裝置包括上清洗輥14和下清洗輥13,上清洗輥14和下清洗輥13分別對育苗盤進(jìn)行清洗,高壓清洗裝置的至少兩排高壓噴頭15利用高壓水流對育苗盤進(jìn)行沖刷,其中位于下游的所述高壓噴頭的水壓高于位于上游的所述高壓噴頭的水壓,清洗效果更好;育苗盤不斷放入托板上,在推板的推動下,育苗盤從托盤運動至上軌道17和所述下軌道18之間的導(dǎo)向間隙,在推板的推動下進(jìn)行輸送,育苗盤在輸送過程中,經(jīng)過低壓濕潤裝置、清洗輥裝置、高壓清洗裝置的清洗,清洗效果好,效率較高。
[0021]以上顯示和描述了本實用新型的基本原理、主要特征及本實用新型的優(yōu)點。本行業(yè)的技術(shù)人員應(yīng)該了解,本實用新型不受上述實施例的限制,上述實施例和說明書中描述的只是說明本實用新型的原理,在不脫離本實用新型精神和范圍的前提下,本實用新型還會有各種變化和改進(jìn),這些變化和改進(jìn)都落入要求保護(hù)的本實用新型范圍內(nèi)。本實用新型要求保護(hù)范圍由所附的權(quán)利要求書及其等效物界定。
【主權(quán)項】
1.自動清潔式育苗盤清洗機,其特征在于:包括機架,所述機架上設(shè)有育苗盤輸送導(dǎo)軌,所述機架上還設(shè)有育苗盤輸送鏈條,所述育苗盤輸送鏈條上設(shè)有多個推動育苗盤沿育苗盤輸送導(dǎo)軌運動的推板,所述機架上設(shè)有育苗盤輸送鏈條清洗裝置;還包括清洗系統(tǒng),所述清洗系統(tǒng)包括在所述機架上沿所述育苗盤輸送導(dǎo)軌依次設(shè)置的低壓濕潤裝置、清洗輥裝置、高壓清洗裝置,所述低壓濕潤裝置包括位于所述育苗盤輸送導(dǎo)軌下方的低壓噴頭,所述清洗輥裝置包括兩位于所述育苗盤輸送導(dǎo)軌下部的下清洗輥和位于所述育苗盤輸送導(dǎo)軌上部的上清洗輥,所述下清洗輥設(shè)置在上清洗輥的下方,所述高壓清洗裝置包括位于所述育苗盤輸送導(dǎo)軌下方的至少兩排高壓噴頭,所述上清洗輥和兩下清洗輥連接有轉(zhuǎn)動驅(qū)動裝置。2.如權(quán)利要求1所述的自動清潔式育苗盤清洗機,其特征在于:位于下游的所述高壓噴頭的水壓高于位于上游的所述高壓噴頭的水壓。3.如權(quán)利要求2所述的自動清潔式育苗盤清洗機,其特征在于:所述高壓噴頭設(shè)置為四排。4.如權(quán)利要求1所述的自動清潔式育苗盤清洗機,其特征在于:所述機架上還設(shè)有清洗噴頭,所述清洗噴頭向所述上清洗輥和下清洗輥噴水。5.如權(quán)利要求1所述的自動清潔式育苗盤清洗機,其特征在于:相鄰所述推板之間的距離對應(yīng)于所述育苗盤的大小。6.如權(quán)利要求1所述的自動清潔式育苗盤清洗機,其特征在于:所述育苗盤輸送導(dǎo)軌包括上軌道和下軌道,所述上軌道和所述下軌道之間設(shè)有導(dǎo)向間隙,所述推板位于所述導(dǎo)向間隙內(nèi),所述下軌道臨近于所述低壓噴頭的一端安裝有托板,所述托板的上表面和所述下軌道的上表面平齊。7.如權(quán)利要求1至6任一權(quán)利要求所述的自動清潔式育苗盤清洗機,其特征在于:所述育苗盤輸送鏈條清洗裝置設(shè)置在所述育苗盤輸送導(dǎo)軌臨近于所述高壓噴頭的端部的外側(cè),所述育苗盤輸送鏈條清洗裝置包括上清洗毛刷和下清洗毛刷,所述上清洗毛刷位于所述育苗盤輸送鏈條上方,所述下清洗毛刷位于所述育苗盤輸送鏈條下方。
【文檔編號】B08B9/30GK205551028SQ201620362204
【公開日】2016年9月7日
【申請日】2016年4月26日
【發(fā)明人】曹紅祥, 滕春富, 殷德民, 趙洪軍, 朱奎, 王術(shù)科, 王清亮, 趙真, 聶榮義, 張寧, 楊曉東, 任佳, 王萍
【申請人】山東濰坊煙草有限公司
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