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水槽內(nèi)活動支架結(jié)構(gòu)的制作方法

文檔序號:10324851閱讀:571來源:國知局
水槽內(nèi)活動支架結(jié)構(gòu)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及超聲波清洗技術(shù)領(lǐng)域,具體為一種水槽內(nèi)活動支架結(jié)構(gòu)。
【背景技術(shù)】
[0002]超聲波振盒是超聲波清洗機(jī)中最重要的部分,其發(fā)出的超聲波在液體中的空化作用、加速度作用及直進(jìn)流作用對液體和污物直接、間接的作用,使污物層被分散、乳化、剝離而達(dá)到清洗目的,由于超聲波清洗應(yīng)用越來越廣泛,很多清洗工作都采用了超聲波清洗,為了保護(hù)超聲波振盒在使用中受到影響,保護(hù)超聲波振頭,一般都會在超聲波振盒上端設(shè)置支架,將需要清洗的物品放置于支架上,清洗完畢再從支架中取走,由于每次取放物品時(shí)都會與水槽內(nèi)的水接觸,取拿不方便而且會影響水的潔凈度而影響清洗效果。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]為了解決上述問題,本實(shí)用新型提供了一種水槽內(nèi)活動支架結(jié)構(gòu),其能夠?qū)崿F(xiàn)支架的移動,方便地取放物品,不影響清洗效果。
[0004]其技術(shù)方案是這樣的:一種水槽內(nèi)活動支架結(jié)構(gòu),其包括水槽,所述水槽內(nèi)安裝有振盒,其特征在于,在所述振盒左側(cè),所述水槽內(nèi)安裝有支撐座,所述支撐座上端設(shè)置有斜坡,所述斜坡底部設(shè)置有左側(cè)支撐塊;在所述振盒右側(cè),所述水槽內(nèi)壁上安裝有與所述左側(cè)支撐塊配合的右側(cè)支撐塊,所述左側(cè)支撐塊與所述右側(cè)支撐塊上端設(shè)置有支架,所述支架左側(cè)外部為與所述斜坡配合的斜面,所述斜面上安裝有滾輪,所述滾輪與所述斜坡接觸,所述支架右側(cè)頂部安裝有鉸接座,所述鉸接座鉸接倒V形桿左端,所述倒V形桿頂端通過轉(zhuǎn)軸連接安裝于所述水槽的軸承座,所述倒V形桿右端外露于所述水槽。
[0005]其進(jìn)一步特征在于,所述水槽右側(cè)外部安裝有定位座,所述定位座上設(shè)置有橫向活動的插桿,所述倒V形桿右端設(shè)置有與所述插桿配合的插孔;
[0006]所述定位座外側(cè)開有凹槽,所述凹槽內(nèi)壁兩側(cè)側(cè)開有通孔,所述通孔內(nèi)設(shè)置有所述插桿。
[0007]采用本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)后,當(dāng)需要取放物品時(shí),壓下倒V形桿右端,倒V形桿左端向上抬起,由于鉸接座的設(shè)置,推動支架沿斜坡向上抬起,滾輪較少了摩擦力,方便于支架的抬起,取放完畢后,倒V形桿右端向上抬起即可使支架復(fù)位支撐于左側(cè)支撐塊和右側(cè)支撐塊上,取放物品不會與水槽的水接觸,不影響清洗效果;定位座的設(shè)置,當(dāng)?shù)筕形桿右端向下壓至定位座的凹槽內(nèi)時(shí),將插桿插入插孔內(nèi)實(shí)現(xiàn)倒V形桿的固定,無需人工施力于倒V形桿即可進(jìn)行操作。
【附圖說明】
[0008]圖1為本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)不意圖;
[0009]圖2為定位座結(jié)構(gòu)側(cè)視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0010]見圖1所示,一種水槽內(nèi)活動支架結(jié)構(gòu),其包括水槽I,水槽I內(nèi)安裝有振盒2;在振盒2左側(cè),水槽I內(nèi)安裝有支撐座3,支撐座3上端設(shè)置有斜坡4,斜坡4底部設(shè)置有左側(cè)支撐塊5 ;在振盒2右側(cè),水槽I內(nèi)壁上安裝有與左側(cè)支撐塊5配合的右側(cè)支撐塊6,左側(cè)支撐塊5與右側(cè)支撐塊6上端設(shè)置有支架7,支架7左側(cè)外部為與斜坡配合的斜面,斜面上安裝有滾輪8,滾輪8與斜坡4接觸,支架7右側(cè)頂部安裝有鉸接座16,鉸接座16鉸接倒V形桿9左端,倒V形桿9頂端通過轉(zhuǎn)軸10連接安裝于水槽I的軸承座11,倒V形桿9右端外露于水槽I ;水槽I右側(cè)外部安裝有定位座12,定位座12上設(shè)置有橫向活動的插桿13,倒V形桿9右端設(shè)置有與插桿13配合的插孔14;見圖2所示,定位座12外側(cè)開有凹槽15,凹槽15內(nèi)壁兩側(cè)側(cè)開有通孔,通孔內(nèi)設(shè)置有插桿13。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種水槽內(nèi)活動支架結(jié)構(gòu),其包括水槽,所述水槽內(nèi)安裝有振盒,其特征在于,在所述振盒左側(cè),所述水槽內(nèi)安裝有支撐座,所述支撐座上端設(shè)置有斜坡,所述斜坡底部設(shè)置有左側(cè)支撐塊;在所述振盒右側(cè),所述水槽內(nèi)壁上安裝有與所述左側(cè)支撐塊配合的右側(cè)支撐塊,所述左側(cè)支撐塊與所述右側(cè)支撐塊上端設(shè)置有支架,所述支架左側(cè)外部為與所述斜坡配合的斜面,所述斜面上安裝有滾輪,所述滾輪與所述斜坡接觸,所述支架右側(cè)頂部安裝有鉸接座,所述鉸接座鉸接倒V形桿左端,所述倒V形桿頂端通過轉(zhuǎn)軸連接安裝于所述水槽的軸承座,所述倒V形桿右端外露于所述水槽。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種水槽內(nèi)活動支架結(jié)構(gòu),其特征在于,所述水槽右側(cè)外部安裝有定位座,所述定位座上設(shè)置有橫向活動的插桿,所述倒V形桿右端設(shè)置有與所述插桿配合的插孔。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種水槽內(nèi)活動支架結(jié)構(gòu),其特征在于,所述定位座外側(cè)開有凹槽,所述凹槽內(nèi)壁兩側(cè)側(cè)開有通孔,所述通孔內(nèi)設(shè)置有所述插桿。
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及超聲波清洗技術(shù)領(lǐng)域,具體為一種水槽內(nèi)活動支架結(jié)構(gòu),其能夠?qū)崿F(xiàn)支架的移動,方便地取放物品,不影響清洗效果,其包括水槽,所述水槽內(nèi)安裝有振盒,其特征在于,在所述振盒左側(cè),所述水槽內(nèi)安裝有支撐座,所述支撐座上端設(shè)置有斜坡,所述斜坡底部設(shè)置有左側(cè)支撐塊;在所述振盒右側(cè),所述水槽內(nèi)壁上安裝有與所述左側(cè)支撐塊配合的右側(cè)支撐塊,所述左側(cè)支撐塊與所述右側(cè)支撐塊上端設(shè)置有支架,所述支架左側(cè)外部為與所述斜坡配合的斜面,所述斜面上安裝有滾輪,所述滾輪與所述斜坡接觸,所述支架右側(cè)頂部安裝有鉸接座,所述鉸接座鉸接倒V形桿左端,所述倒V形桿頂端通過轉(zhuǎn)軸連接安裝于所述水槽的軸承座,所述倒V形桿右端外露于所述水槽。
【IPC分類】B08B13/00, B08B3/12
【公開號】CN205236542
【申請?zhí)枴緾N201520929674
【發(fā)明人】盧平
【申請人】無錫南方聲學(xué)工程有限公司
【公開日】2016年5月18日
【申請日】2015年11月20日
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