高精度除硅設(shè)備的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種有效將處理水中的硅油回收利用，有效提高回收效率，同時(shí)處理后的廢水可達(dá)到飲用級(jí)標(biāo)準(zhǔn)的高精度除硅設(shè)備。包括機(jī)架、以及設(shè)置在機(jī)架內(nèi)的真空蒸餾罐、導(dǎo)流冷凝機(jī)構(gòu)、冷卻罐機(jī)構(gòu)和硅油回收裝置，其中：真空蒸餾罐的頂部連接導(dǎo)流冷凝機(jī)構(gòu)、并在底部設(shè)置有排水閥；導(dǎo)流冷凝機(jī)構(gòu)包括硅油導(dǎo)流管以及設(shè)置在硅油導(dǎo)流管外側(cè)的第一冷卻裝置，硅油導(dǎo)流管的進(jìn)口端和出口端分別與真空蒸餾罐和冷卻罐機(jī)構(gòu)相通；冷卻罐機(jī)構(gòu)包括硅油冷卻罐以及設(shè)置在硅油冷卻罐外側(cè)的第二冷卻裝置；硅油回收裝置包括與冷卻罐機(jī)構(gòu)相通的硅油箱。
【專利說(shuō)明】高精度除硅設(shè)備

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本實(shí)用新型涉及一種硅膠廢水回收處理裝置，尤其涉及一種高精度除硅設(shè)備。

【背景技術(shù)】
[0002] 眾所周知，硅膠生產(chǎn)過(guò)程中不可避免地會(huì)產(chǎn)生大量硅膠廢水，硅膠廢水的主要成 分為硫酸鈉，濃度可達(dá)到4%，另外還含有高含量的硅化合物（如硅油）、清洗劑、以及少量 的氯離子、鈣離子和鎂離子；由于清洗劑在硅膠生產(chǎn)過(guò)程中可以回收利用，而硅化合物又 具有一定的污染性，例如硅可沉積在水處理膜的表面引起膜分離性能下降，且生成的硅垢 幾乎沒有辦法去除，會(huì)對(duì)膜產(chǎn)生永久性的損傷，因而現(xiàn)有技術(shù)中對(duì)于硅膠廢水的主要處理 過(guò)程，主要是通過(guò)真空蒸餾的方式，將清洗劑真空蒸餾揮發(fā)出去以回收利用，然后剩下包括 硫酸鈉等離子型的沉淀以及硅化合物，即使進(jìn)一步處理如過(guò)濾，將離子型沉淀除去，剩余的 "處理水"中仍然存在較多的硅化物，難以達(dá)到純凈處理硅膠廢水的目的；然而，在硅膠生產(chǎn) 過(guò)程中產(chǎn)生的硅油，本身又具有較高的使用價(jià)值，現(xiàn)有技術(shù)中難以將處理水中的這一部分 硅油回收利用。
[0003] 有鑒于上述的缺陷，本設(shè)計(jì)人，積極加以研究創(chuàng)新，以期創(chuàng)設(shè)一種新型結(jié)構(gòu)的高精 度除硅設(shè)備，使其更具有產(chǎn)業(yè)上的利用價(jià)值。 實(shí)用新型內(nèi)容
[0004] 為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型的目的是提供一種有效將處理水中的硅油回收 利用，有效提高回收效率，同時(shí)處理后的廢水可達(dá)到飲用級(jí)標(biāo)準(zhǔn)的高精度除硅設(shè)備。
[0005] 本實(shí)用新型的高精度除硅設(shè)備，包括機(jī)架、以及設(shè)置在機(jī)架內(nèi)的真空蒸餾罐、導(dǎo)流 冷凝機(jī)構(gòu)、冷卻罐機(jī)構(gòu)和硅油回收裝置，其中：
[0006] 所述真空蒸餾罐的頂部連接所述導(dǎo)流冷凝機(jī)構(gòu)、并在底部設(shè)置有排水閥；
[0007] 所述導(dǎo)流冷凝機(jī)構(gòu)包括硅油導(dǎo)流管以及設(shè)置在硅油導(dǎo)流管外側(cè)的第一冷卻裝置， 所述硅油導(dǎo)流管的進(jìn)口端和出口端分別與所述真空蒸餾罐和冷卻罐機(jī)構(gòu)相通；
[0008] 所述冷卻罐機(jī)構(gòu)包括硅油冷卻罐以及設(shè)置在硅油冷卻罐外側(cè)的第二冷卻裝置；
[0009] 所述硅油回收裝置包括與所述冷卻罐機(jī)構(gòu)相通的硅油箱。
[0010] 進(jìn)一步的，所述真空蒸餾罐的內(nèi)部設(shè)置有溫度傳感器和氣壓傳感器，所述真空蒸 餾罐上還設(shè)置有加熱裝置和空壓機(jī)，所述溫度傳感器與所述加熱裝置電連接、并用于控 制所述加熱裝置的啟閉，所述氣壓傳感器與所述空壓機(jī)電連接、并用于控制所述空壓機(jī) 的啟閉，所述溫度傳感器的溫度監(jiān)控范圍為95-1KTC，所述氣壓傳感器的氣壓監(jiān)控范圍 為-〇· 08 ?-〇· 06mPa。
[0011] 進(jìn)一步的，所述溫度傳感器的溫度監(jiān)控范圍為104±0. rc，所述氣壓傳感器的氣 壓監(jiān)控范圍為-0. 08mPa。
[0012] 進(jìn)一步的，所述加熱裝置包括設(shè)置在真空蒸餾罐罐壁上的熱油加熱管、通過(guò)熱油 循環(huán)管與所述熱油加熱管相連的熱油加熱箱、以及設(shè)置在所述熱油加熱箱內(nèi)的電加熱絲， 所述熱油循環(huán)管上設(shè)置有熱油控制閥和熱油泵。
[0013] 進(jìn)一步的，所述第一冷卻裝置包括纏繞在硅油導(dǎo)流管外側(cè)的第一冷凝管、以及與 第一冷凝管相通的第一冷卻水循環(huán)裝置，所述第二冷卻裝置包括纏繞在硅油冷卻罐外側(cè)的 第二冷凝管、以及與第二冷凝管相通的第二冷卻水循環(huán)裝置。
[0014] 進(jìn)一步的，所述硅油箱與所述冷卻罐機(jī)構(gòu)之間還設(shè)置有溢流罐。
[0015] 進(jìn)一步的，所述真空蒸餾罐上通過(guò)母液循環(huán)泵還連通有儲(chǔ)液罐，所述母液循環(huán)泵 用于將所述儲(chǔ)液罐中的含硅油的處理水泵入所述真空蒸餾罐中。
[0016] 進(jìn)一步的，所述真空蒸餾罐上還設(shè)置有視鏡、上液位控制裝置和下液位控制裝置， 所述視鏡為透明視鏡并設(shè)置在所述真空蒸餾罐的罐壁上，所述上液位控制裝置和下液位控 制裝置與所述母液循環(huán)泵相連。
[0017] 進(jìn)一步的，所述真空蒸餾罐內(nèi)部上方還設(shè)置有蒸汽導(dǎo)流板。
[0018] 借由上述方案，本實(shí)用新型至少具有以下優(yōu)點(diǎn)：將已經(jīng)經(jīng)過(guò)真空蒸餾、過(guò)濾等方 式，去除清洗劑、硫酸鈉等離子型沉淀的處理水，進(jìn)一步采用本實(shí)用新型的高精度除硅設(shè)備 進(jìn)行真空蒸餾除硅，可以將處理水中的硅油蒸餾而出，剩下的水，可以達(dá)到飲用級(jí)標(biāo)準(zhǔn)，不 僅使硅油得到了重復(fù)性的利用，同時(shí)提高了回收效果和回收產(chǎn)率。
[0019] 上述說(shuō)明僅是本實(shí)用新型技術(shù)方案的概述，為了能夠更清楚了解本實(shí)用新型的技 術(shù)手段，并可依照說(shuō)明書的內(nèi)容予以實(shí)施，以下以本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例并配合附圖詳 細(xì)說(shuō)明如后。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0020] 圖1是本實(shí)用新型高精度除硅設(shè)備的主視圖；
[0021] 圖2是本實(shí)用新型高精度除硅設(shè)備的側(cè)視圖；
[0022] 圖3是本實(shí)用新型高精度除硅設(shè)備的俯視圖。

【具體實(shí)施方式】
[0023] 下面結(jié)合附圖和實(shí)施例，對(duì)本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】作進(jìn)一步詳細(xì)描述。以下 實(shí)施例用于說(shuō)明本實(shí)用新型，但不用來(lái)限制本實(shí)用新型的范圍。
[0024] 參見圖1至圖2所示，一種本實(shí)用新型的高精度除硅設(shè)備，包括機(jī)架1、以及設(shè)置 在機(jī)架內(nèi)的真空蒸餾罐2、導(dǎo)流冷凝機(jī)構(gòu)3、冷卻罐機(jī)構(gòu)4和硅油回收裝置5,其中：真空蒸 餾罐2的頂部連接導(dǎo)流冷凝機(jī)構(gòu)3、并在底部設(shè)置有排水閥6,真空蒸餾罐2用于減壓蒸餾 含硅油的處理水、并將硅油蒸餾為硅油蒸汽排入至導(dǎo)流冷凝機(jī)構(gòu)3 ;導(dǎo)流冷凝機(jī)構(gòu)3包括 硅油導(dǎo)流管31以及設(shè)置在硅油導(dǎo)流管外側(cè)的第一冷卻裝置32,硅油導(dǎo)流管31的進(jìn)口端和 出口端分別與真空蒸餾罐2和冷卻罐機(jī)構(gòu)4相通，硅油導(dǎo)流管31用于一級(jí)冷卻硅油蒸汽、 并將硅油蒸汽冷卻為高溫硅油液體；冷卻罐機(jī)構(gòu)4包括硅油冷卻罐41以及設(shè)置在硅油冷 卻罐41外側(cè)的第二冷卻裝置42,硅油冷卻罐41用于將高溫硅油液體冷卻為低溫硅油液 體、并排入至硅油回收裝置5 ;硅油回收裝置5包括與冷卻罐機(jī)構(gòu)相通的硅油箱51，硅油箱 51用于儲(chǔ)存被蒸餾出的硅油。為了有效地控制真空蒸餾罐內(nèi)的溫度和氣壓，真空蒸餾罐的 內(nèi)部設(shè)置有溫度傳感器和氣壓傳感器，真空蒸餾罐上還設(shè)置有加熱裝置和空壓機(jī)，溫度傳 感器與加熱裝置電連接、并用于控制加熱裝置的啟閉，氣壓傳感器與空壓機(jī)電連接、并用于 控制空壓機(jī)的啟閉，溫度傳感器的溫度監(jiān)控范圍為95-110°C，氣壓傳感器的氣壓監(jiān)控范圍 為-〇· 08 ?-〇· 06mPa。
[0025] 本實(shí)用新型的工作原理如下：將已經(jīng)過(guò)真空蒸餾、過(guò)濾等方式，去除了清洗劑、硫 酸鈉等離子型沉淀的處理水，進(jìn)一步采用本實(shí)用新型的高精度除硅設(shè)備進(jìn)行真空蒸餾除 硅，可以將處理水中的硅油蒸餾而出，剩下的水，可以達(dá)到飲用級(jí)標(biāo)準(zhǔn)，不僅使硅油得到了 重復(fù)性的利用，同時(shí)提高了回收效果和回收產(chǎn)率；與真空蒸餾清洗劑不同的是，不同物質(zhì)的 蒸餾溫度和氣壓有所區(qū)別，本實(shí)用新型中，為了有效地將硅油蒸餾而出，采用真空蒸餾的方 式，其中溫度監(jiān)控范圍為95-1KTC，氣壓傳感器的氣壓監(jiān)控范圍為-0. 08?-0. 06mPa，最優(yōu) 的，將溫度恒定的控制在l〇4°C，氣壓控制在-0. 08mPa，這樣可以最大程度地將硅油蒸餾而 出。
[0026] 為了穩(wěn)定地控制真空蒸餾罐內(nèi)的溫度，防止溫度波動(dòng)過(guò)大，采用加熱油間接加熱 的方式，即，加熱裝置包括設(shè)置在真空蒸餾罐罐壁上的熱油加熱管、通過(guò)熱油循環(huán)管與熱油 加熱管相連的熱油加熱箱、以及設(shè)置在熱油加熱箱內(nèi)的電加熱絲，熱油循環(huán)管上設(shè)置有熱 油控制閥和熱油泵。
[0027] 為了有效地實(shí)現(xiàn)二次冷卻硅油蒸汽，同時(shí)實(shí)現(xiàn)硅油與水蒸氣的分離，第一冷卻裝 置包括纏繞在硅油導(dǎo)流管外側(cè)的第一冷凝管、以及與第一冷凝管相通的第一冷卻水循環(huán)裝 置，第二冷卻裝置包括纏繞在硅油冷卻罐外側(cè)的第二冷凝管、以及與第二冷凝管相通的第 二冷卻水循環(huán)裝置，第一冷凝管與第二冷凝管的溫度可以不一致，同時(shí)第一冷卻水循環(huán)裝 置與第二冷卻水循環(huán)裝置可以相互連通，也可單獨(dú)設(shè)置。
[0028] 另外，高溫硅油液體的溫度可達(dá)70-80°C，低溫硅油液體的溫度還是相對(duì)較高，可 達(dá)30-40°C，為了有效降溫，硅油箱51與冷卻罐機(jī)構(gòu)4之間還設(shè)置有溢流罐52,溢流罐用于 儲(chǔ)存低溫硅油液體、并將其靜置降溫至室溫，然后溢流至硅油箱中。
[0029] 為了及時(shí)補(bǔ)充處理水，真空蒸餾罐上通過(guò)母液循環(huán)泵7還連通有儲(chǔ)液罐，母液循 環(huán)泵7用于將儲(chǔ)液罐中的含硅油的處理水泵入真空蒸餾罐2中，當(dāng)真空蒸餾罐2中的處理 水水量不足時(shí)，母液循環(huán)泵7將儲(chǔ)液罐中的處理水泵入至真空蒸餾罐中；由于真空蒸餾罐 中的液體體積對(duì)于真空蒸餾的效果有一定影響，真空蒸餾罐上還設(shè)置有視鏡8、上液位控制 裝置9和下液位控制裝置10,視鏡8為透明視鏡并設(shè)置在真空蒸餾罐的罐壁上，上液位控制 裝置9和下液位控制裝置10與母液循環(huán)泵7相連，上液位控制裝置和下液位控制裝置用于 監(jiān)測(cè)真空蒸餾罐中含硅油的處理水的液位狀況、并通過(guò)電路控制母液循環(huán)泵的啟閉；這樣， 可以將真空蒸餾罐中的液體量穩(wěn)定在一定水平，提高蒸餾的效果。
[0030] 另外，真空蒸餾罐內(nèi)部上方還設(shè)置有蒸汽導(dǎo)流板11，蒸汽導(dǎo)流板11與硅油蒸汽在 真空蒸餾罐2內(nèi)的上升方向相垂直，蒸汽導(dǎo)流板的作用在于穩(wěn)定蒸汽氣流，同時(shí)防止過(guò)多 的水蒸氣隨著硅油蒸汽一起排出，進(jìn)而提高真空蒸餾的效果。
[0031] 以上所述僅是本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式，并不用于限制本實(shí)用新型，應(yīng)當(dāng)指出， 對(duì)于本【技術(shù)領(lǐng)域】的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在不脫離本實(shí)用新型技術(shù)原理的前提下，還可以做 出若干改進(jìn)和變型，這些改進(jìn)和變型也應(yīng)視為本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
【權(quán)利要求】
1. 一種高精度除硅設(shè)備，其特征在于：包括機(jī)架、以及設(shè)置在機(jī)架內(nèi)的真空蒸餾罐、導(dǎo) 流冷凝機(jī)構(gòu)、冷卻罐機(jī)構(gòu)和硅油回收裝置，其中： 所述真空蒸餾罐的頂部連接所述導(dǎo)流冷凝機(jī)構(gòu)、并在底部設(shè)置有排水閥； 所述導(dǎo)流冷凝機(jī)構(gòu)包括硅油導(dǎo)流管以及設(shè)置在硅油導(dǎo)流管外側(cè)的第一冷卻裝置，所述 硅油導(dǎo)流管的進(jìn)口端和出口端分別與所述真空蒸餾罐和冷卻罐機(jī)構(gòu)相通； 所述冷卻罐機(jī)構(gòu)包括硅油冷卻罐以及設(shè)置在硅油冷卻罐外側(cè)的第二冷卻裝置； 所述硅油回收裝置包括與所述冷卻罐機(jī)構(gòu)相通的硅油箱。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的高精度除硅設(shè)備，其特征在于：所述真空蒸餾罐的內(nèi)部設(shè)置 有溫度傳感器和氣壓傳感器，所述真空蒸餾罐上還設(shè)置有加熱裝置和空壓機(jī)，所述溫度傳 感器與所述加熱裝置電連接、并用于控制所述加熱裝置的啟閉，所述氣壓傳感器與所述空 壓機(jī)電連接、并用于控制所述空壓機(jī)的啟閉，所述溫度傳感器的溫度監(jiān)控范圍為95-1KTC， 所述氣壓傳感器的氣壓監(jiān)控范圍為-〇. 08?-0. 06mPa。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的高精度除硅設(shè)備，其特征在于：所述溫度傳感器的溫度監(jiān)控 范圍為104±0. 1°C，所述氣壓傳感器的氣壓監(jiān)控范圍為-0. 08mPa。
4. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的高精度除硅設(shè)備，其特征在于：所述加熱裝置包括設(shè)置在真 空蒸餾罐罐壁上的熱油加熱管、通過(guò)熱油循環(huán)管與所述熱油加熱管相連的熱油加熱箱、以 及設(shè)置在所述熱油加熱箱內(nèi)的電加熱絲，所述熱油循環(huán)管上設(shè)置有熱油控制閥和熱油泵。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的高精度除硅設(shè)備，其特征在于：所述第一冷卻裝置包括纏繞 在硅油導(dǎo)流管外側(cè)的第一冷凝管、以及與第一冷凝管相通的第一冷卻水循環(huán)裝置，所述第 二冷卻裝置包括纏繞在硅油冷卻罐外側(cè)的第二冷凝管、以及與第二冷凝管相通的第二冷卻 水循環(huán)裝置。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的高精度除硅設(shè)備，其特征在于：所述硅油箱與所述冷卻罐機(jī) 構(gòu)之間還設(shè)置有溢流罐。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的高精度除硅設(shè)備，其特征在于：所述真空蒸餾罐上通過(guò)母液 循環(huán)泵還連通有儲(chǔ)液罐。
8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的高精度除硅設(shè)備，其特征在于：所述真空蒸餾罐上還設(shè)置有 視鏡、上液位控制裝置和下液位控制裝置，所述視鏡為透明視鏡并設(shè)置在所述真空蒸餾罐 的罐壁上，所述上液位控制裝置和下液位控制裝置與所述母液循環(huán)泵相連。
9. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的高精度除硅設(shè)備，其特征在于：所述真空蒸餾罐內(nèi)部上方還 設(shè)置有蒸汽導(dǎo)流板。
【文檔編號(hào)】C02F1/60GK203946907SQ201420389224
【公開日】2014年11月19日 申請(qǐng)日期:2014年7月14日 優(yōu)先權(quán)日:2014年7月14日
【發(fā)明者】龍建華, 黃秋琴, 朱燕, 徐偉華 申請(qǐng)人:江蘇三鼎水處理設(shè)備有限公司