專利名稱：光電池濕制程中廢物體系的回收系統(tǒng)及回收方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及廢物體系的回收系統(tǒng)及回收方法，具體涉及光電池濕制程中廢物體系的回收系統(tǒng)及回收方法。
背景技術(shù)：
在傳統(tǒng)太陽能電池片的蝕刻(制絨或者蝕刻)工藝中，太陽能電池硅片要經(jīng)過至少一個化學(xué)品槽 。太陽能電池硅片經(jīng)過一個化學(xué)品槽處理后必須經(jīng)過純水清洗才能進(jìn)入下一個化學(xué)品槽，以免污染下一道工藝，最終影響產(chǎn)品的質(zhì)量。通常通過大量的純水可以將硅片上附著的化學(xué)品清洗掉，以保持硅片的清洗。同時大量噴淋水必須得到更換，因此產(chǎn)生較大體積的含化學(xué)品的污水。如果將這些污水排放，不僅會加重環(huán)境保護(hù)的負(fù)擔(dān)，還會造成資源的浪費(fèi)。希望有一種回收系統(tǒng)或回收方法，能夠?qū)怆姵貪裰瞥虖U物體系進(jìn)行處理，以有利于環(huán)境保護(hù)和資源的充分利用。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是，提供光電池濕制程中廢物體系的回收系統(tǒng)或回收方法，用于對光電池濕制程中廢物體系進(jìn)行處理，以有利于環(huán)境保護(hù)和資源的充分利用。為解決以上技術(shù)問題，本發(fā)明的一方面提供一種光電池濕制程中廢物體系的回收系統(tǒng)，系與硅片蝕刻設(shè)備及清洗設(shè)備相配合以對廢物體系進(jìn)行回收處理，其包括與所述清洗設(shè)備流體相通的第一緩沖水箱、與所述第一緩沖水箱流體相通的第一循環(huán)水箱、與所述第一循環(huán)水箱流體相通的電滲析設(shè)備，以及與所述電滲析設(shè)備流體相通的反滲透設(shè)備。進(jìn)一步地，所述第一循環(huán)水箱同時與所述反滲透設(shè)備流體相通。進(jìn)一步地，所述第一緩沖水箱和第一循環(huán)水箱之間通過一第二緩沖水箱流體相通，同時所述反滲透設(shè)備與所述第二緩沖水箱流體相通。進(jìn)一步地，所述電滲析設(shè)備包括依次流體相通的第一電滲析單元、第二電滲析單元及第三電滲析單元。進(jìn)一步地，所述第一電滲析單元和第二電滲析單元之間通過一第二循環(huán)水箱流體相通，所述第二電滲析單元和第三電滲析單元之間通過一第三循環(huán)水箱流體相通。進(jìn)一步地，所述第三電滲析單元與所述蝕刻設(shè)備流體循環(huán)相通。進(jìn)一步地，所述回收系統(tǒng)進(jìn)一步包括與所述電滲析設(shè)備相配合以吸收氣體的氣體洗滌設(shè)備，所述氣體洗滌設(shè)備包括分別和所述第一電滲析單元流體循環(huán)的第一氣體凈化器、和所述第二電滲析單元流體循環(huán)的第二氣體凈化器及和所述第三電滲析單元流體循環(huán)的第三氣體凈化器。進(jìn)一步地，所述回收系統(tǒng)進(jìn)一步包括與所述電滲析設(shè)備相配合以吸收氣體的氣體洗漆設(shè)備。進(jìn)一步地，所述回收系統(tǒng)進(jìn)一步包括與所述反滲透設(shè)備流體相通的第三緩沖水箱以儲存經(jīng)純化后的清洗液。進(jìn)一步地，于所述清洗設(shè)備及第一緩沖水箱之間設(shè)有過濾設(shè)備。本發(fā)明的另一方面提供一種光電池濕制程中廢物體系的回收系統(tǒng)，所述廢物體系來自用于對硅片進(jìn)行蝕刻的蝕刻設(shè)備和用于對硅片進(jìn)行清洗的清洗設(shè)備，所述回收系統(tǒng)與所述蝕刻設(shè)備流體相通的電滲析設(shè)備，以及分別與所述電滲析設(shè)備和清洗設(shè)備流體相通的反滲透設(shè)備，其中所述電滲析設(shè)備包括依次串聯(lián)流體相通的兩個或更多個電滲析單元，其中每一個電滲析單元與一個循環(huán)水箱流體相通并通過循環(huán)水箱與相鄰的電滲析單元形成循環(huán)回路，且一端的一個電滲析單元通過與之流體相通的循環(huán)水箱與所述反滲透設(shè)備流體相通，而另一端的一個電滲析單元與所述蝕刻設(shè)備流體相通。進(jìn)一步地，所述回收系統(tǒng)包括置于所述反滲透設(shè)備與清洗設(shè)備之間的過濾設(shè)備。進(jìn)一步地，所述回收系統(tǒng)還包括置于所述過濾設(shè)備和反滲透設(shè)備之間的第一緩沖水箱，優(yōu)選其還包括置于所述過濾設(shè)備和反滲透設(shè)備之間的彼此串聯(lián)流體相通的第一緩沖水箱和第二緩沖水箱。進(jìn)一步地，所述回收系統(tǒng)還包括與所述反滲透設(shè)備流體相通的第三緩沖水箱以儲存純化后的清洗液。進(jìn)一步地，所述回收系統(tǒng)還包括與所述蝕刻設(shè)備和電滲析設(shè)備流體相通的氣體洗滌設(shè)備，所述電滲析設(shè)備與所述氣體洗滌設(shè)備相配合以吸收氣體。更進(jìn)一步地，所述氣體洗滌設(shè)備包括分別與所述兩個或更多個電滲析單元中的每一個形成循環(huán)回路的兩個或更多個氣體凈化器。進(jìn)一步地，所述清洗設(shè)備中設(shè)置有浸潰處理段或噴嘴，優(yōu)選清洗設(shè)備中同時設(shè)置有浸潰處理段和噴嘴。進(jìn)一步地,所 述反滲透設(shè)備中有濃水室和純水室。本發(fā)明的還一方面提供一種光電池濕制程中廢物體系的回收方法，所述廢物體系包括廢氣、蝕刻廢液和清洗廢液，所述回收方法包括:(I)通過電滲析將蝕刻廢液純化，以得到純化的蝕刻液；和(2)測定清洗廢液的電導(dǎo)率或離子濃度，當(dāng)測定值超過預(yù)定值時，先后通過電滲析和反滲透將清洗廢液純化，而當(dāng)測定值低于所述預(yù)定值時，通過反滲透將清洗廢液純化，以得到純水。更進(jìn)一步地，所述回收方法還包括(3)用經(jīng)電滲析處理的蝕刻液和經(jīng)過電滲析的清洗液洗滌廢氣，以吸收廢氣中的可溶解氣體并得到對環(huán)境無污染的氣體。進(jìn)一步地，所述回收方法還包括在將清洗廢液純化之前先分離出清洗廢液中的固體。進(jìn)一步地，所述分離采用過濾器進(jìn)行。進(jìn)一步，所述電滲析和反滲透產(chǎn)能的比率維持在0.6 0.85之間，以維持清洗廢液和純水之間的平衡。本發(fā)明的回收系統(tǒng)和回收方法可實現(xiàn)硅片清洗液的有效回收，從而可節(jié)省成本。同時，本回收系統(tǒng)和回收方法亦實現(xiàn)化學(xué)物質(zhì)如酸和堿的回收，即節(jié)省成本又可防止排放導(dǎo)致的環(huán)境污染?？偟貋碚f，本回收系統(tǒng)和回收方法能夠?qū)怆姵貪裰瞥讨袕U物體系進(jìn)行處理，有利于環(huán)境保護(hù)和資源的充分利用。


參照附圖，本發(fā)明的公開內(nèi)容將變得更易理解。本領(lǐng)域技術(shù)人員容易理解的是:附圖僅僅用于舉例說明本發(fā)明的技術(shù)方案，而并非意在對本發(fā)明的保護(hù)范圍構(gòu)成限制，其中:圖1是本發(fā)明光電池濕制程中廢物體系的回收系統(tǒng)的示意圖，其中使用了如下編號:
權(quán)利要求
1.一種光電池濕制程中廢物體系的回收系統(tǒng)，系與硅片蝕刻設(shè)備及清洗設(shè)備相配合以對廢物體系進(jìn)行回收處理，其特征在于其包括與所述清洗設(shè)備流體相通的第一緩沖水箱、與所述第一緩沖水箱流體相通的第一循環(huán)水箱、與所述第一循環(huán)水箱流體相通的電滲析設(shè)備，以及與所述電滲析設(shè)備流體相通的反滲透設(shè)備。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的回收系統(tǒng)，其特征在于所述第一循環(huán)水箱同時與所述反滲透設(shè)備流體相通。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的回收系統(tǒng)，其特征在于所述第一緩沖水箱和第一循環(huán)水箱之間通過一第二緩沖水箱流體相通，同時所述反滲透設(shè)備與所述第二緩沖水箱流體相通。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的回收系統(tǒng)，其特征在于所述電滲析設(shè)備包括依次流體相通的第一電滲析單元、第二電滲析單元及第三電滲析單元。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的回收系統(tǒng)，其特征在于所述第一電滲析單元和第二電滲析單元之間通過一第二循環(huán)水箱流體相通，所述第二電滲析單元和第三電滲析單元之間通過一第三循環(huán)水箱流體相通。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的回收系統(tǒng)，其特征在于所述第三電滲析單元與所述蝕刻設(shè)備流體循環(huán)相通。
7 根據(jù)權(quán)利要求4所述的回收系統(tǒng)，其特征在于其進(jìn)一步包括與所述電滲析設(shè)備相配合以吸收氣體的氣體洗滌設(shè)備，所述氣體洗滌設(shè)備包括分別和所述第一電滲析單元流體循環(huán)的第一氣體凈化器、和所述第二電滲析單元流體循環(huán)的第二氣體凈化器及和所述第三電滲析單元流體循環(huán)的第三氣體凈化器。
8.根據(jù)權(quán)利要求I所述的回收系統(tǒng)，其特征在于其進(jìn)一步包括與所述電滲析設(shè)備相配合以吸收氣體的氣體洗滌設(shè)備。
9.根據(jù)權(quán)利要求I所述的回收系統(tǒng)，其特征在于其進(jìn)一步包括與所述反滲透設(shè)備流體相通的第三緩沖水箱以儲存經(jīng)純化后的清洗液。
10.根據(jù)權(quán)利要求I所述的回收系統(tǒng)，其特征在于于所述清洗設(shè)備及第一緩沖水箱之間設(shè)有過濾設(shè)備。
11.一種光電池濕制程中廢物體系的回收系統(tǒng)，所述廢物體系來自用于對硅片進(jìn)行蝕刻的蝕刻設(shè)備和用于對硅片進(jìn)行清洗的清洗設(shè)備，其特征在于所述回收系統(tǒng)包括與所述蝕刻設(shè)備流體相通的電滲析設(shè)備，以及分別與所述電滲析設(shè)備和清洗設(shè)備流體相通的反滲透設(shè)備，其中所述電滲析設(shè)備包括依次串聯(lián)流體相通的兩個或更多個電滲析單元，其中每一個電滲析單元與一個循環(huán)水箱流體相通并通過循環(huán)水箱與相鄰的電滲析單元形成循環(huán)回路，且一端的一個電滲析單元通過與之流體相通的循環(huán)水箱與所述反滲透設(shè)備流體相通，而另一端的一個電滲析單元與所述蝕刻設(shè)備流體相通。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的回收系統(tǒng)，其特征在于其還包括置于所述反滲透設(shè)備與清洗設(shè)備之間的過濾設(shè)備。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的回收系統(tǒng)，其特征在于其還包括置于所述過濾設(shè)備和反滲透設(shè)備之間的第一緩沖水箱，優(yōu)選其還包括置于所述過濾設(shè)備和反滲透設(shè)備之間的彼此串聯(lián)流體相通的第一緩沖水箱和第二緩沖水箱。
14.根據(jù)權(quán)利要求11至13中任一項所述的回收系統(tǒng)，其特征在于其還包括與所述反滲透設(shè)備流體相通的第三緩沖水箱以儲存純化后的清洗液。
15.根據(jù)權(quán)利要求11至14中任一項所述的回收系統(tǒng)，其特征在于其還包括與所述蝕刻設(shè)備和電滲析設(shè)備流體相通的氣體洗滌設(shè)備，所述電滲析設(shè)備與所述氣體洗滌設(shè)備相配合以吸收氣體。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的回收系統(tǒng)，其特征在于所述氣體洗滌設(shè)備包括分別與所述兩個或更多個電滲析單元中的每一個形成循環(huán)回路的兩個或更多個氣體凈化器。
17.根據(jù)權(quán)利要求11至14中任一項所述的回收系統(tǒng)，其特征在于，所述清洗設(shè)備中設(shè)置有浸潰處理段或噴嘴，或者清洗設(shè)備中同時設(shè)置有浸潰處理段和噴嘴。
18.根據(jù)權(quán)利要求11至14中任一項所述的回收系統(tǒng)，其特征在于所述反滲透設(shè)備中有濃水室和純水室。
19.一種光電池濕制程中廢物體系的回收方法，所述廢物體系包括廢氣、蝕刻廢液和清洗廢液，其特征在于其包括 (1)通過電滲析將蝕刻廢液純化，以得到純化的蝕刻液；和 (2)測定清洗廢液的電導(dǎo)率或離子濃度，當(dāng)測定值超過預(yù)定值時，先后通過電滲析和反滲透將清洗廢液純化，而當(dāng)測定值低于所述預(yù)定值時，通過反滲透將清洗廢液純化，以得到純水。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的回收方法，其特征在于其還包括 (3)用經(jīng)電滲析處理的蝕刻液和經(jīng)過電滲析的清洗液洗滌廢氣，以吸收廢氣中的可溶解氣體并得到對環(huán)境無污染的氣體。
21.根據(jù)權(quán)利要求19或20所述的回收方法，其特征在于其還包括在將清洗廢液純化之前先分離出清洗廢液中的固體。
22.根據(jù)權(quán)利要求21所述的回收方法，其特征在于所述分離采用過濾器進(jìn)行。
23.根據(jù)權(quán)利要求19或20所述的回收方法，其特征在于所述電滲析和反滲透產(chǎn)能的比率維持在O. 6 O. 85之間，以維持清洗廢液和純化的清洗液之間的平衡。
全文摘要
本發(fā)明涉及光電池濕制程中廢物體系的回收系統(tǒng)和回收方法，所述回收系統(tǒng)系與硅片蝕刻設(shè)備及清洗設(shè)備相配合以對廢物體系進(jìn)行回收處理，其包括與所述清洗設(shè)備流體相通的第一緩沖水箱、與所述第一緩沖水箱流體相通的第一循環(huán)水箱、與所述第一循環(huán)水箱流體相通的電滲析設(shè)備，以及與所述電滲析設(shè)備流體相通的反滲透設(shè)備。采用本發(fā)明的回收系統(tǒng)和回收方法能夠?qū)怆姵貪裰瞥讨袕U物體系進(jìn)行處理，有利于環(huán)境保護(hù)和資源的充分利用。
文檔編號C02F9/06GK103255419SQ20121004249
公開日2013年8月21日 申請日期2012年2月15日 優(yōu)先權(quán)日2012年2月15日
發(fā)明者施道可, 范瓊, 潘加永 申請人:庫特勒自動化系統(tǒng)(蘇州)有限公司