專利名稱：一種溫度均勻的低溫設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種溫度均勻的低溫設(shè)備。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有低溫設(shè)備存在的技術(shù)問題1)在低溫處理室內(nèi)易存在液氮，并且低溫室內(nèi)溫度梯度大；2)聚胺脂發(fā)泡的堆積絕熱方式保溫。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型提供一種溫度均勻的低溫設(shè)備，解決目前在低溫處理設(shè)備中存在的溫度不均勻性，液氮消耗大的問題。一種溫度均勻的低溫設(shè)備，包括噴塑箱體出)，噴塑箱體出)內(nèi)部為高真空多層絕熱處理室(I)，高真空多層絕熱處理室(I)采用真空、多層絕熱結(jié)構(gòu)；高真空多層絕熱處理室(I)上蓋安裝將液氮分散汽化的循環(huán)系統(tǒng)(2)。所述的溫度均勻的低溫設(shè)備，還包括提籃(7)，提籃(7)放置在高真空多層絕熱處理室(I)內(nèi)。通過安裝在處理室上蓋上的循環(huán)系統(tǒng)，將液氮分散汽化，讓工件始終處于氣態(tài)環(huán)境中，避免液氮直接沖擊工件，提籃使取放工件更加方便，整個(gè)處理室的溫度均勻，溫度梯度在2°C內(nèi)。

圖1為本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖；I高真空多層絕熱處理室，2循環(huán)系統(tǒng)，3泄壓口，4制冷管，5升溫管，6噴塑箱體，7提籃，8傳感器，9制冷升溫系統(tǒng)，10金屬軟管，11自增壓低溫容器。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合具體實(shí)施例，對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)說明。參考圖1，溫度均勻的低溫設(shè)備包括噴塑箱體6，噴塑箱體6內(nèi)部為高真空多層絕熱處理室1，高真空多層絕熱處理室I采用真空、多層絕熱結(jié)構(gòu)，保溫效果好，消耗液氮量最少；高真空多層絕熱處理室I內(nèi)設(shè)置泄壓口 3、制冷管4、升溫管5和傳感器8，提籃7放置在高真空多層絕熱處理室I內(nèi)，用于盛放工件，高真空多層絕熱處理室I上蓋安裝循環(huán)系統(tǒng)2，用于將液氮分散汽化；自增壓低溫容器11里的液氮通過金屬軟管10和制冷管4均勻噴射進(jìn)高真空多層絕熱處理室1，通過安裝在處理室上蓋上的循環(huán)系統(tǒng)2，將液氮分散汽化，讓工件始終處于氣態(tài)環(huán)境中，避免液氮直接沖擊工件，提籃7使取放工件更加方便，整個(gè)處理室的溫度均勻，溫度梯度在2 °C內(nèi)。制冷升溫系統(tǒng)9控制整個(gè)裝置的制冷和升溫過程，升溫時(shí)可采用電阻加熱升溫管5的方式將溫度升到室溫，實(shí)驗(yàn)結(jié)束以后，通過泄壓口 3排出氣體，卸除內(nèi)部氣體壓力。[0012]應(yīng)當(dāng)理解的是，對(duì)本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來說，可以根據(jù)上述說明加以改進(jìn)或變換，而所有這些改進(jìn)和變換都應(yīng)屬于本實(shí)用新型所附權(quán)利要求的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求1.一種溫度均勻的低溫設(shè)備，包括噴塑箱體￠)，其特征在于，噴塑箱體￠)內(nèi)部為高真空多層絕熱處理室(I)，高真空多層絕熱處理室(I)采用真空、多層絕熱結(jié)構(gòu)；高真空多層絕熱處理室(I)上蓋安裝將液氮分散汽化的循環(huán)系統(tǒng)(2)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的溫度均勻的低溫設(shè)備，其特征在于，還包括提籃(7)，提籃(7)放置在高真空多層絕熱處理室(I)內(nèi)。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種溫度均勻的低溫設(shè)備，包括噴塑箱體(6)，噴塑箱體(6)內(nèi)部為高真空多層絕熱處理室(1)，高真空多層絕熱處理室(1)采用真空、多層絕熱結(jié)構(gòu)；高真空多層絕熱處理室(1)上蓋安裝將液氮分散汽化的循環(huán)系統(tǒng)(2)。通過安裝在處理室上蓋上的循環(huán)系統(tǒng)，將液氮分散汽化，讓工件始終處于氣態(tài)環(huán)境中，避免液氮直接沖擊工件，整個(gè)處理室的溫度均，溫度梯度在2℃內(nèi)。
文檔編號(hào)F25B19/04GK202902685SQ20122045952
公開日2013年4月24日 申請(qǐng)日期2012年9月11日 優(yōu)先權(quán)日2012年9月11日
發(fā)明者李國繼, 汪學(xué)其, 董立新, 周友龍, 李文杰 申請(qǐng)人:李國繼