本申請(qǐng)涉及廚房電器,尤其涉及一種加熱裝置及烹飪器具。
背景技術(shù):
1、以電熱爐器具為例,相關(guān)技術(shù)中,將待烹飪的容器放置在加熱裝置上,利用加熱裝置產(chǎn)生的溫度對(duì)容器加熱,以實(shí)現(xiàn)烹飪。但是加熱裝置在烹飪過(guò)程中會(huì)持續(xù)加熱,容易導(dǎo)致容器內(nèi)的溫度過(guò)高,從而引發(fā)烹飪起火現(xiàn)象,影響烹飪器具的使用安全性。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、有鑒于此,本申請(qǐng)實(shí)施例期望提供一種加熱裝置及烹飪器具,以提高烹飪器具的使用安全性。
2、為達(dá)到上述目的,本申請(qǐng)實(shí)施例的技術(shù)方案是這樣實(shí)現(xiàn)的:
3、第一方面,本申請(qǐng)實(shí)施例提供一種加熱裝置,包括:
4、加熱組件,具有中空區(qū)域,所述加熱組件的至少部分上表面限定出支撐面,所述支撐面用于放置待加熱容器;
5、溫控組件,所述溫控組件的一部分穿設(shè)于所述中空區(qū)域,所述溫控組件的頂部具有傳熱面,所述傳熱面朝向待加熱容器,用于獲取待加熱容器的溫度;
6、其中,在所述加熱裝置的高度方向上,所述支撐面高于所述傳熱面。
7、在一些實(shí)施方案中,在所述加熱裝置的高度方向上,所述支撐面與所述傳熱面的距離不超過(guò)10mm。
8、在一些實(shí)施方案中,在所述加熱裝置的高度方向上,所述支撐面與所述傳熱面的距離為3mm~5mm。
9、在一些實(shí)施方案中,所述溫控組件的外輪廓與所述加熱組件間隔設(shè)置。
10、在一些實(shí)施方案中,所述溫控組件包括:
11、外殼,具有容納空間;
12、溫控器,所述溫控器至少一部分容置于所述容納空間,所述溫控器和所述加熱組件串聯(lián)于電路中,所述溫控器用于斷開(kāi)或?qū)ㄋ鲭娐贰?/p>
13、在一些實(shí)施方案中,所述溫控器直接或間接地固定于所述外殼。
14、在一些實(shí)施方案中,所述溫控器的整體容置于所述容納空間,所述外殼的頂表面限定出所述傳熱面。
15、在一些實(shí)施方案中,所述溫控組件包括溫控支架,所述溫控器設(shè)置于所述溫控支架上,所述溫控支架與所述頂壁連接。
16、在一些實(shí)施方案中,所述外殼具有頂壁,所述溫控器的頂端穿過(guò)所述頂壁。
17、在一些實(shí)施方案中,所述外殼包括筒體和蓋體,所述蓋體設(shè)置于所述筒體的頂部并圍設(shè)成所述容納空間;
18、所述筒體的側(cè)壁具有至少一個(gè)通孔;所述蓋體的邊緣向底側(cè)翻折形成裙部,所述裙部環(huán)繞所述筒體的外周,且與所述筒體的外周表面形成有間隔空間,所述至少一個(gè)通孔與所述間隔空間連通以形成散熱通道,其中,在所述筒體的周向,所述裙部遮擋所述至少一個(gè)通孔。
19、在一些實(shí)施方案中,所述加熱裝置包括多個(gè)固定支架,多個(gè)所述固定支架與所述外殼連接且沿所述外殼的周向間隔設(shè)置,所述加熱組件呈繞所述中空區(qū)域螺旋延伸的螺旋狀結(jié)構(gòu),所述加熱組件支撐于所述固定支架上。
20、在一些實(shí)施方案中,所述加熱裝置包括防護(hù)筒,所述防護(hù)筒環(huán)繞所述外殼的外周;
21、其中,在所述加熱裝置的高度方向上,所述防護(hù)筒的頂端不高于所述支撐面。
22、在一些實(shí)施方案中,所述防護(hù)筒與所述固定支架連接,且與所述外殼相互間隔。
23、在一些實(shí)施方案中,所述防護(hù)筒的側(cè)壁具有多個(gè)開(kāi)口槽,所述開(kāi)口槽沿所述高度方向貫穿所述防護(hù)筒的底端面,所述固定支架的一端穿過(guò)所述開(kāi)口槽。
24、第二方面,本申請(qǐng)實(shí)施例還提供一種烹飪器具,包括上述任意實(shí)施方案所述的加熱裝置。
25、本申請(qǐng)實(shí)施例提供的加熱裝置及烹飪器具,傳熱面與待加熱容器的底面之間具有空氣間隙,空氣間隙內(nèi)空氣能夠?qū)⒋訜崛萜鞯酌娴臏囟葌鬟f給傳熱面,傳熱面能夠獲得待加熱容器的溫度,便于根據(jù)溫度對(duì)加熱組件進(jìn)行控溫。由于傳熱面不與待加熱容器接觸,能夠避免溫控組件對(duì)放置在支撐面上的待加熱容器產(chǎn)生干涉,便于待加熱容器穩(wěn)定地放置于支撐面上,此外,也無(wú)需對(duì)溫控組件在高度方向采用浮動(dòng)設(shè)計(jì),有利于使得加熱裝置的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,便于生產(chǎn)制造。
1.一種加熱裝置,用于烹飪器具,其特征在于,包括:
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加熱裝置,其特征在于,在所述加熱裝置的高度方向上,所述支撐面與所述傳熱面的距離不超過(guò)10mm。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的加熱裝置,其特征在于,在所述加熱裝置的高度方向上,所述支撐面與所述傳熱面的距離為3mm~5mm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加熱裝置,其特征在于,所述溫控組件的外輪廓與所述加熱組件間隔設(shè)置。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加熱裝置,其特征在于,所述溫控組件包括:
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的加熱裝置,其特征在于,所述溫控器直接或間接地固定于所述外殼。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的加熱裝置,其特征在于,所述溫控器的整體容置于所述容納空間,所述外殼的頂表面限定出所述傳熱面。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的加熱裝置,其特征在于,所述外殼具有頂壁,所述溫控組件包括溫控支架,所述溫控器設(shè)置于所述溫控支架上,所述溫控支架與所述頂壁連接。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的加熱裝置,其特征在于,所述外殼具有頂壁,所述溫控器的頂端穿過(guò)所述頂壁。
10.根據(jù)權(quán)利要求5所述的加熱裝置,其特征在于,所述外殼包括筒體和蓋體,所述蓋體設(shè)置于所述筒體的頂部并圍設(shè)成所述容納空間;
11.根據(jù)權(quán)利要求5所述的加熱裝置,其特征在于,所述加熱裝置包括多個(gè)固定支架,多個(gè)所述固定支架與所述外殼連接且沿所述外殼的周向間隔設(shè)置,所述加熱組件呈繞所述中空區(qū)域螺旋延伸的螺旋狀結(jié)構(gòu),所述加熱組件支撐于所述固定支架上。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的加熱裝置,其特征在于,所述加熱裝置包括防護(hù)筒,所述防護(hù)筒環(huán)繞所述外殼的外周;
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的加熱裝置,其特征在于,所述防護(hù)筒與所述固定支架連接,且與所述外殼相互間隔。
14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的加熱裝置,其特征在于,所述防護(hù)筒的側(cè)壁具有多個(gè)開(kāi)口槽,所述開(kāi)口槽沿所述高度方向貫穿所述防護(hù)筒的底端面,所述固定支架的一端穿過(guò)所述開(kāi)口槽。
15.一種烹飪器具,其特征在于,包括權(quán)利要求1至14任一項(xiàng)所述的加熱裝置。