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搪瓷涂層、帶涂層的物品和涂覆物品的方法

文檔序號:4598509閱讀:566來源:國知局
專利名稱:搪瓷涂層、帶涂層的物品和涂覆物品的方法
技術領域
本發(fā)明涉及搪瓷涂層、帶涂層的物品和涂覆物品的方法。
背景技術
在金屬表面上提供涂層在烹飪或烘焙器具(例如烹飪盤或烘盤或烘箱的馬弗爐) 的領域中是公知的。這樣的涂層非排他性地旨在提供耐久的和易于清潔的表面,尤其在烹飪和烘焙器具的領域中更是如此。前述的涂層通常由需要在相應表面和所使用的涂層材料之間的機械結(jié)合相互作用的技術施加。例如,由熱噴涂技術施加的陶瓷涂層不建立化學結(jié)合,而是機械地結(jié)合到相應表面。為了增強或能夠?qū)崿F(xiàn)待涂覆的表面和涂層材料之間的令人滿意的機械結(jié)合,需要待涂覆的表面足夠粗糙。為了獲得足夠粗糙以用于建立充分的機械結(jié)合相互作用的表面, 常常需要額外地粗糙化相應表面,特別當涂覆金屬表面時更是如此。用于額外地粗糙化表面的機械處理技術例如噴砂或噴丸是公知的。特別地,當將這樣的機械處理技術應用于薄的和機械不穩(wěn)定的物品(例如薄金屬片材)時,有使物品變形甚至損壞物品的危險。此外,通過施加化學物質(zhì)例如通過將物品置于用于蝕刻或磷化的化學浴槽中來粗糙化表面也是公知的。然而這樣的化學物質(zhì)可能需要隨后的徹底清潔以去除可能的化學殘留物。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目標是提供一種用于獲得具有與保護性的或易于清潔的涂層或涂層材料建立充分的機械結(jié)合相互作用所需的表面粗糙度的表面的替代方式。此外,還提供了具有這樣的表面的物品和用于獲得這樣的表面的方法。本發(fā)明的目標由權(quán)利要求1、5和9解決。有利的實施例由相應的從屬權(quán)利要求體現(xiàn)。在本發(fā)明的第一方面中,提供了一種用于涂覆物品的金屬表面的搪瓷涂層。所述搪瓷涂層包括普通搪瓷和熱解搪瓷中的至少一種與催化用搪瓷的混合物。在本發(fā)明的范圍內(nèi),術語“催化用搪瓷(catalytic enamel) ”將包括當獨有地施加于金屬表面時能夠產(chǎn)生催化作用的所有類型的搪瓷。術語“熱解搪瓷(pyrolytic enamel),, 將包括當獨有地施加于金屬表面時能夠產(chǎn)生熱解作用的所有類型的搪瓷。術語“普通搪瓷 (normal enamel) ”將包括除了根據(jù)前述定義的催化搪瓷和熱解搪瓷以外的所有類型的搪瓷。應當注意的是熱解搪瓷和催化用搪瓷用于烹飪和/或烘焙器具,尤其是烘焙器具的烘焙馬弗爐。具有熱解搪瓷或催化用搪瓷層的器具使得有可能通過利用熱解和催化作用的自清潔過程去除例如由蒸汽、烘焙或烹飪殘留物產(chǎn)生的污垢。通常,純粹的普通或熱解搪瓷層具有很平滑的玻璃狀表面。這樣的平滑的玻璃狀表面通常不適合于施加需要更高表面粗糙度以通過機械結(jié)合相互作用牢固地結(jié)合到所述表面的附加的涂層材料,例如陶瓷涂層。催化用搪瓷具有發(fā)生催化過程所需的具有很大的比表面積的非常粗糙的表面。然而這走向另一個極端,其使得催化用搪瓷層不能用作用于自清潔的基底或易于清潔的涂層。 根據(jù)本發(fā)明,提供了一種搪瓷涂層,所述搪瓷涂層包括普通搪瓷和熱解搪瓷中的至少一種與催化用搪瓷的混合物。這樣的搪瓷涂層具有在普通搪瓷或熱解陶瓷和催化用搪瓷之間的表面粗糙度。這樣獲得的表面粗糙度適合于建立針對各種附加涂層(特別是陶瓷涂層)所需的充分的機械結(jié)合相互作用。從施加于物品的機械沖擊的觀點來看,與諸如噴砂或噴丸的機械粗糙化技術相比,施加搪瓷涂層是相當溫和的方法。這對于薄的和機械不穩(wěn)定的物品(例如薄金屬板或片材)是特別有利的,原因在于可以在沒有物品變形的危險下生成粗糙表面。此外,可以避免與使用化學浴的粗糙化技術(例如磷化或蝕刻)相關的缺點。通過改變普通搪瓷和熱解搪瓷中的至少一種與催化用搪瓷的百分比,可以容易地調(diào)節(jié)搪瓷涂層的最終表面粗糙度并使其適應于相應的要求。各種附加涂層需要在2至8 μ m 的范圍內(nèi)的表面粗糙度,這可以使用根據(jù)第一方面的搪瓷涂層獲得。通過適當?shù)剡x擇催化用搪瓷、普通搪瓷和熱解搪瓷的百分比,表面粗糙度可以被調(diào)節(jié)為適合于某些陶瓷涂層的2 至5 μ m,和特別適合于某些納米結(jié)構(gòu)陶瓷涂層的2至3 μ m。應當注意的是表面粗糙度是根據(jù)平均粗糙度指數(shù)(Ra)給出的。涵蓋了適合于結(jié)合陶瓷涂層范圍的2至8μπι范圍內(nèi)的表面粗糙度例如可以通過使用如下的搪瓷涂層獲得所述搪瓷涂層包括下列對象的混合物體積百分比在5%至 50%之間的催化用搪瓷和體積百分比在50%至95%之間的普通搪瓷和熱解搪瓷中的至少一種。尤其在金屬表面上,在10至50 μ m的范圍內(nèi)的比較薄的搪瓷涂層可足以獲得在期望范圍內(nèi)的表面粗糙度。本發(fā)明的第二方面涉及一種物品。所述物品具有至少部分地涂覆有根據(jù)本發(fā)明的第一方面的搪瓷涂層的金屬表面。通過提供所提出的搪瓷涂層,機械結(jié)合附加涂層所需的表面粗糙度可以以比較容易的方式被提供,防止了物品的機械破壞。此外,表面粗糙度可以容易地適應相應的需求。如果帶搪瓷涂層的物品將被涂覆例如提供易于清潔的表面的附加 (例如陶瓷)涂層,這是特別有利的。更多的優(yōu)點可參考結(jié)合本發(fā)明的第一方面論述的細節(jié)。所述物品的金屬表面可以是片材的一部分,S卩,所述物品可以具有片狀的幾何形狀或基本上具有金屬片狀的設計,或者是所述物品的片材狀部分。如先前所述,當將搪瓷涂層施加到物品上以便產(chǎn)生期望表面粗糙度時,大大避免了機械沖擊以及相關的變形和破壞。所以有可能使用具有2mm或甚至更小的厚度的金屬片材和金屬片材狀部分。這意味著物品的總體的幾何形狀(特別是總體的表面幾何形狀)將不被破壞,這是特別重要的—— 如果必須遵守嚴格的制造公差或者如果物品的外觀特別重要的話。帶搪瓷涂層的物品或至少物品涂覆了搪瓷的這部分可以涂覆有需要機械結(jié)合相互作用的另外或附加涂層。由于搪瓷涂層保證了足夠的用于機械結(jié)合的表面粗糙度,因此附加涂層可以牢固地和可靠地結(jié)合到搪瓷涂層。附加涂層可以提供易于清潔或自清潔表面。這樣的表面可以通過使用陶瓷涂層或納米結(jié)構(gòu)陶瓷涂層獲得。術語“納米結(jié)構(gòu)(nanostructured) ”將表示陶瓷涂層具有在納米級的范圍內(nèi)的結(jié)構(gòu)——優(yōu)選表面結(jié)構(gòu)。納米結(jié)構(gòu)表面在自清潔作用的領域中是公知的。應當注意的是除了陶瓷涂層以外,也可以施加需要機械結(jié)合的任何附加涂層或納米結(jié)構(gòu)涂層。所提出的用于產(chǎn)生預定表面粗糙度的方式是通用的。它原則上可以被應用于各種物品。特別地,所述物品可以是分別適合于家用或工業(yè)用途的烹飪和/或烘焙器具或烘盤。 特別地,所述物品可以是例如用于家庭或工業(yè)應用的烘箱的馬弗爐。在馬弗爐的情況下,涂層可以被施加于馬弗爐的內(nèi)壁。特別地,關于前述物品并且特別地結(jié)合在使用后便于物品的清潔,越來越感興趣的是提供易于清潔或自清潔表面。本發(fā)明提供以比較容易的方式產(chǎn)生這樣的表面的原理,所述方式可實現(xiàn)大規(guī)模生產(chǎn),即使對于薄壁物品和具有減小的機械剛性的物品也是如此。根據(jù)本發(fā)明的第三方面,提供了一種至少部分地涂覆物品的金屬表面的方法。所提出的方法包括以下步驟通過將普通搪瓷和熱解搪瓷中的至少一種與催化用搪瓷混合而制備搪瓷涂層材料;以及通過將所述搪瓷涂層材料施加到所述金屬表面的至少預定部分而產(chǎn)生搪瓷涂層。所述方法提供了產(chǎn)生具有機械結(jié)合附加涂層材料(例如陶瓷涂層材料)的粗糙度的表面的可能性。有利地,可以避免在現(xiàn)有技術的粗糙化方法(例如噴砂或噴丸)時所發(fā)生的對物品的機械沖擊。此外,可以規(guī)避用于磷化或蝕刻的化學浴。所提出的方法是通用的并且容許大規(guī)模工業(yè)生產(chǎn)。附加的優(yōu)點從結(jié)合本發(fā)明的第一和第二方面給出的細節(jié)中顯而易見。按照根據(jù)本發(fā)明的第一和第二方面的提議并且參考相應的優(yōu)點和有利效果,所述方法的實施例如下制備所述搪瓷涂層材料的步驟可以包括加入下列對象中至少其一的步驟體積百分比在5%至50%的催化用搪瓷;體積百分比在50%至95%的普通搪瓷和熱解搪瓷中的至少一種。此外,普通搪瓷和熱解搪瓷中的至少一種以及催化用搪瓷的百分比可以被選擇成使得所述搪瓷涂層的最終表面粗糙度在2至8 μ m、優(yōu)選2至5 μ m、更優(yōu)選2至3 μ m的范圍內(nèi)。所述搪瓷涂層材料可以被施加為使得所述搪瓷涂層的最終厚度在10至50 μ m之間。在處理搪瓷涂層中,施加到所述金屬表面的所述搪瓷涂層可以在高達850°C的溫度下被燒制。特別地,使用從800至850°C的燒制溫度的現(xiàn)有技術的工藝可以至少用于燒制所提出的搪瓷涂層材料。所以,所提出的方法可以用已知的燒制和搪瓷涂覆方法容易地實現(xiàn)而不用強制性進行特別的改變。然而,根據(jù)搪瓷涂層材料的特性,一定程度的改變可能仍然是必要的。在所述方法的另外的步驟中,優(yōu)選地在燒制所述搪瓷涂層之后,陶瓷涂層(優(yōu)選納米結(jié)構(gòu)陶瓷涂層)可以被施加于所述搪瓷涂層。這樣施加的陶瓷涂層或納米結(jié)構(gòu)陶瓷涂層可以在200至300°C的范圍內(nèi)的溫度下被燒制。所述陶瓷涂層可以通過熱噴涂、等離子體噴涂、高速氧燃料(HVOF)噴涂或其他合適的技術被施加。應當注意的是附加涂層不限于陶瓷材料??梢愿鶕?jù)相應的需求而選擇其他材料。例如,可以考慮足以提供易于清潔、硬質(zhì)、 耐劃表面的任何材料。此外,可以使用泥漿噴涂技術來施加納米結(jié)構(gòu)涂層。在該情況下,通過噴涂施加涂層材料的(優(yōu)選濕的)懸浮液,涂層可以被施加。在該情況下的燒制或燒結(jié)可以在180°C和340°C之間的溫度范圍內(nèi)進行。


將參考附圖描述本發(fā)明的實施例,其中圖1顯示了家用烘箱的一部分;以及圖2顯示了圖1的烘箱的馬弗爐壁(muffle wall)的放大部分的截面圖。
具體實施例方式圖1顯示了家用烘箱的一部分1。省略了對于完全理解本發(fā)明不是必需的烘箱的細節(jié),例如烘箱的門和手動操作元件等部件。然而這并不限制本發(fā)明的范圍。所述的一部分1包括圍繞烘箱的馬弗爐3的外殼2。馬弗爐3構(gòu)成了用于經(jīng)由前部開口 4接收待烘焙或烘烤的食品的腔。通常,馬弗爐的側(cè)壁、底壁、頂壁和后壁的內(nèi)表面 5在烘焙或烘烤食品期間由于蒸汽、液體濺射物、食品殘留物等而被弄臟。在烘焙過程期間占主導的比較高的溫度導致粘性污垢粘著到馬弗爐3的內(nèi)表面 5。所以清潔內(nèi)表面5是麻煩的,由于馬弗爐3的內(nèi)表面5通常難以接近,因此更加麻煩。所以希望提供易于清潔的、耐臟的內(nèi)表面5,或者甚至具有自清潔性能的表面??梢酝ㄟ^例如用合適的材料涂覆馬弗爐壁而獲得這樣的表面。一種可能性是提供陶瓷或納米結(jié)構(gòu)陶瓷涂層。這樣的涂層非排他性地通過機械結(jié)合相互作用被結(jié)合到基底上。為了建立穩(wěn)定、牢固和永久的結(jié)合,基底的表面必須足夠粗糙,以用于適當?shù)亟⒒妆砻婧屯繉硬牧现g的機械相互作用。烘箱的馬弗爐3通常由薄金屬片材制造。所使用的金屬片材的表面粗糙度通常不足以建立適當?shù)臋C械相互作用。所以,通過噴砂、噴丸、磷化或蝕刻來粗糙化金屬片材的表面是公知的。然而這些公知的技術具有如先前在上面更詳細論述的若干缺點。本發(fā)明的一個目標是提供已知技術的替代選擇。根據(jù)本發(fā)明,可以通過使用某些搪瓷的混合物產(chǎn)生適合于充分的機械結(jié)合的基底,這將在下面更詳細地進行描述。圖2顯示了馬弗爐3的金屬片材馬弗爐壁6的放大部分的截面圖。應當注意的是圖2未按照真實比例進行繪制。內(nèi)表面5涂覆有搪瓷涂層7。搪瓷涂層7又涂覆有陶瓷涂層8,優(yōu)選納米結(jié)構(gòu)陶瓷涂層。搪瓷涂層7包括催化用搪瓷和普通搪瓷的混合物。作為普通搪瓷的替代或作為除了普通搪瓷之外的附加,可以使用熱解搪瓷。在本實施例的情況下,對催化用搪瓷和普通搪瓷的百分比進行選擇,使得搪瓷涂層7的表面粗糙度在2至5 μ m的范圍內(nèi)。這樣的表面粗糙度是用于建立與陶瓷涂層8的充分的機械結(jié)合的良好基礎。搪瓷涂層7的表面粗糙度是混合這兩種類型的搪瓷的結(jié)果。普通搪瓷和類似的熱解搪瓷如果單獨被施加通常導致很平滑的、玻璃狀表面,所述表面不足夠粗糙以建立與陶瓷涂層8的充分機械結(jié)合。然而如果催化用搪瓷被單獨施加則會導致具有很大比表面的非常粗糙的表面,也不適合于建立充分的機械結(jié)合。本發(fā)明的發(fā)明人已認識到包括催化用搪瓷和普通搪瓷以及視情況而定的熱解搪瓷的混合物導致高于普通或熱解搪瓷的表面粗糙度、并且低于催化用搪瓷的表面粗糙度的表面粗糙度。此外,已發(fā)現(xiàn)可以通過改變催化用搪瓷和普通搪瓷以及視情況而定的熱解搪瓷的百分比而調(diào)節(jié)搪瓷涂層7的總體表面粗糙度。 這是特別有利的,原因是搪瓷涂層7的表面粗糙度可以容易地調(diào)節(jié)至陶瓷涂層8的結(jié)合特性。通過改變兩種類型的搪瓷的百分比,例如可以在2至8 μ m的范圍內(nèi)調(diào)節(jié)表面粗糙度。對于某些納米結(jié)構(gòu)陶瓷涂層,需要2至3 μ m的表面粗糙度,這可以通過相應地選擇不同搪瓷類型的每一種的百分比而獲得。例如,催化用搪瓷的百分比可以在體積百分比在5% 至50%的范圍內(nèi)。相應地,普通搪瓷和視情況而定的熱解搪瓷的百分比可以在體積百分比在50%至95%的范圍內(nèi)。搪瓷涂層7可以使用標準技術被施加到馬弗爐壁6,并且在800至850°C的范圍內(nèi)的溫度下被燒制,但是也可以在更低的溫度下被燒制。搪瓷涂層7可以被施加為使得最終厚度在10至50 μ m的范圍內(nèi)。這樣的搪瓷涂層7通常足以用于結(jié)合陶瓷涂層8。關于搪瓷涂層7的厚度的其他范圍也是可能的。有可能根據(jù)相應的需求來選擇層的厚度,所述需求可以由待要施加于搪瓷涂層7的涂層材料的類型、剛性和其他標準產(chǎn)生。陶瓷涂層8或視情況而定的納米結(jié)構(gòu)陶瓷涂層可以通過合適的技術(例如熱噴涂、等離子體噴涂、高速氧燃料(HVOF)噴涂和其他技術)被施加到搪瓷涂層7上。陶瓷涂層的燒制可以在200至300°C的范圍內(nèi)的溫度下進行。此外,有可能使用泥漿噴涂技術 (slurry spray techniques)來施加納米結(jié)構(gòu)涂層。在該情況下,通過噴涂施加涂層材料的 (優(yōu)選濕的)懸浮液,涂層可以被施加。在該情況下的燒制或燒結(jié)可以在180°C和340°C之間的溫度范圍內(nèi)進行。盡管已結(jié)合家用烘箱的馬弗爐3描述了本發(fā)明,但是本發(fā)明并不限于該類型的烹飪器具。相反地,本發(fā)明可以被應用于將被設置以需要機械結(jié)合相互作用的涂層的所有物品。例如可以預見具有適合于施加根據(jù)本發(fā)明的搪瓷涂層的表面的所有類型的烹飪或烘焙器具或器具、炊具等。通過上面給出的論述和解釋,本發(fā)明的目標顯而易見地由如權(quán)利要求中所述的發(fā)明實現(xiàn)。附圖標記列表1烘箱的一部分2 外殼3 馬弗爐4前部開口5 內(nèi)表面6 馬弗爐壁7搪瓷涂層8陶瓷涂層
權(quán)利要求
1.一種用于涂覆物品(3)的金屬表面(5)的搪瓷涂層(7),所述搪瓷涂層(7)包括普通搪瓷和熱解搪瓷中的至少一種與催化用搪瓷的混合物。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的搪瓷涂層(7),普通搪瓷和熱解搪瓷中的至少一種與催化用搪瓷的百分比被選擇成使得所述搪瓷涂層(7)的表面粗糙度在2至8 μ m、優(yōu)選2至5 μ m、 更優(yōu)選2至3μπι的范圍內(nèi)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1和2中的至少一項所述的搪瓷涂層(7),所述混合物包括下述對象中的至少其一體積百分比在5%至50%之間的催化用搪瓷;體積百分比在50%至95%之間的普通搪瓷和熱解搪瓷中的至少一種。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中的至少一項所述的搪瓷涂層(7),其具有10至50μπι之間的層厚度。
5.一種包括金屬表面(5)的物品(3),所述金屬表面(5)至少部分地涂覆有根據(jù)權(quán)利要求i至4中的至少一項所述的搪瓷涂層(7)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的物品(3),所述金屬表面(5)是所述物品(3)的片材或片材狀部分(6)的一部分,所述金屬片材和所述金屬片材狀部分(6)分別優(yōu)選地具有2mm的最大厚度。
7.根據(jù)權(quán)利要求5和6中的至少一項所述的物品(3),所述搪瓷涂層(7)的外表面涂覆有另外的涂層,優(yōu)選陶瓷涂層(8),更優(yōu)選納米結(jié)構(gòu)陶瓷涂層。
8.根據(jù)權(quán)利要求5至7中的至少一項所述的物品(3),所述物品(3)選自包括如下對象的群組烹飪和/或烘焙器具,優(yōu)選家用烹飪和/或烘焙器具;烘盤;烘箱的馬弗爐,優(yōu)選家用烘箱的馬弗爐。
9.一種至少部分地涂覆物品(3)的金屬表面(5)的方法,所述方法包括以下步驟 通過將普通搪瓷和熱解搪瓷中的至少一種與催化用搪瓷混合而制備搪瓷涂層材料;以及通過將所述搪瓷涂層材料施加到所述金屬表面(5)的至少預定部分(6)而產(chǎn)生搪瓷涂層⑵。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法,制備所述搪瓷涂層材料的步驟包括加入下列對象中的至少其一的步驟體積百分比在5%至50%的催化用搪瓷;以及體積百分比在50%至95%的普通搪瓷和熱解搪瓷中的至少一種。
11.根據(jù)權(quán)利要求9和10中的至少一項所述的方法,其中對普通搪瓷和熱解搪瓷中的至少一種與催化用搪瓷的百分比進行選擇,使得所述搪瓷涂層(7)的表面粗糙度在2至 8 μ m、優(yōu)選2至5 μ m、更優(yōu)選2至3 μ m的范圍內(nèi)。
12.根據(jù)權(quán)利要求9至11中的至少一項所述的方法,所述搪瓷涂層材料被施加成使得所述搪瓷涂層(7)的最終厚度在10至50 μ m的范圍內(nèi)。
13.根據(jù)權(quán)利要求9至12中的至少一項所述的方法,所述搪瓷涂層(7)在高達850°C 的溫度下、優(yōu)選在800至850°C的范圍內(nèi)的溫度下被燒制。
14.根據(jù)權(quán)利要求9至13中的至少一項所述的方法,其包括將陶瓷涂層(8)優(yōu)選納米結(jié)構(gòu)陶瓷涂層施加到所述搪瓷涂層(7)的另外的步驟,所述陶瓷涂層(8)優(yōu)選地在200至300°C的范圍內(nèi)的溫度下被燒制,施加所述陶瓷涂層(8)的步驟優(yōu)選地選自包括如下工藝的群組熱噴涂,特別是等離子體噴涂;以及高速氧燃料噴涂。
15.根據(jù)權(quán)利要求9至13中的至少一項所述的方法,其包括將陶瓷涂層(8)優(yōu)選納米結(jié)構(gòu)陶瓷涂層施加到所述搪瓷涂層(7)的另外的步驟,所述陶瓷涂層(8)優(yōu)選地在180至 340°C的范圍內(nèi)的溫度下被燒制,所述陶瓷涂層(8)通過泥漿噴涂技術被施加。
全文摘要
本發(fā)明特別涉及一種用于涂覆物品(3)的金屬表面(5)的搪瓷涂層(7)。為了獲得適合于充分地結(jié)合需要機械結(jié)合相互作用的另外的涂層(8)的表面粗糙度,所述搪瓷涂層(7)包括普通搪瓷和熱解搪瓷中的至少一種與催化用搪瓷的混合物。
文檔編號F24C15/00GK102333734SQ201080009358
公開日2012年1月25日 申請日期2010年3月1日 優(yōu)先權(quán)日2009年3月6日
發(fā)明者R·維辛格, T·費施·佩德森 申請人:伊萊克斯家用產(chǎn)品股份有限公司
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