專利名稱：導光板模仁、導光板制造方法及導光板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種導光板模仁、一種導光板制造方法及一種導光板。
背景技術(shù)：
由于液晶不能自發(fā)光，因此，液晶顯示器一般需包括向液晶面板提供光源的背光模塊。而背光模塊中的關(guān)鍵組件為導光板，導光板是將點光源或線光源轉(zhuǎn)化為面光源的組件，導光板出光的均勻性直接影響背光模塊的質(zhì)量。目前，制造導光板的方法為射出成型法，具體為，將具有光學結(jié)構(gòu)的模仁固定于模具的模腔內(nèi)，將融熔的成型材料射進模具的模腔內(nèi)，冷卻后，將模腔內(nèi)的成型體頂出便制成導光板。模仁的光學結(jié)構(gòu)被轉(zhuǎn)印至導光板的反射面。因此，模仁光學結(jié)構(gòu)的設計直接影響導光板的出光均勻性。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，有必要提供一種導光板模仁及一種導光板制造方法及一種導光板，其均可提高該導光板的出光均勻性。一種導光板模仁，其包括成型面、位于該成型面上由激光加工該成型面所形成的多個網(wǎng)點凹陷及位于該底面上由噴砂加工該成型面所形成的至少一個霧化區(qū)域，該成型面用于成型導光板的反射面，該至少一個霧化區(qū)域包括多個微網(wǎng)點凹陷，同一單位面積內(nèi)，該微網(wǎng)點凹陷的密度比該網(wǎng)點凹陷的密度大。一種導光板制造方法，其包括提供上述的導光板模仁；將該導光板模仁固定于模具中；向該模具中注入成型材料；冷卻該模具中的該成型材料；及脫模以得到導光板。一種導光板，其由如上述的導光板制造方法制得，該導光板包括反射面及位于該反射面上的多個網(wǎng)點及位于該反射面上的至少一個霧化區(qū)域，該至少一個霧化區(qū)域包括多個微網(wǎng)點，同一單位面積內(nèi)，該微網(wǎng)點的密度比該網(wǎng)點的密度大。本發(fā)明提供的導光板模仁，其于成型面上設置有密度不同及由不同加工方法制成的網(wǎng)點結(jié)構(gòu)，使利用該模仁制造的導光板均化光線時，能利用密度低的網(wǎng)點結(jié)構(gòu)對光線進行粗均化及利用密度高的網(wǎng)點結(jié)構(gòu)對光線進行細均化并消除暗帶，進而提高了導光板的出光均勻性。


圖1為本發(fā)明第一實施方式提供的一種導光板模仁的立體示意圖。圖2為利用噴砂制程加工圖1的導光板模仁的噴砂參數(shù)的關(guān)系圖。
圖3為利用噴砂制程加工圖1的導光板模仁的噴砂參數(shù)的另一關(guān)系圖。圖4為利用圖1的模仁成型導光板的模具的截面示意圖。圖5為本發(fā)明第二實施方式提供的一種導光板的立體示意圖。圖6為圖5的導光板的出光面的亮度分布示意圖。圖7為與圖5的導光板相比較的另一導光板的出光面的亮度分布示意圖。主要元件符號說明導光板模仁100成型面12網(wǎng)點凹陷14霧化區(qū)域16第一側(cè)17第二側(cè)18模具200定模21動模22注料口25流道26澆口24模腔23導光板300入光面31出光面32反射面33側(cè)面34光學圖案結(jié)構(gòu)35網(wǎng)點351霧化區(qū)域35具體實施例方式下面將結(jié)合圖式對本發(fā)明作進一步詳細說明。請參閱圖1，本發(fā)明第一實施方式提供的一種導光板模仁100包括成型面12、位于成型面12上的多個網(wǎng)點凹陷14及位于成型面12上的兩個霧化區(qū)域16。該導光板模仁100的材料為不銹鋼。該成型面12為鏡面，其用于成型導光板300 的反射面33 (底面，參圖5)。該多個網(wǎng)點凹陷14是由激光加工該成型面12所形成。該第一側(cè)17與該第二側(cè) 18位于該導光板模仁100的相背兩側(cè)。本實施方式中，每個霧化區(qū)域16的表面粗糙度為0. 5-0. 7微米。該霧化區(qū)域16 是由噴砂加工該成型面所形成。霧化區(qū)域16包括多個微網(wǎng)點凹陷。霧化區(qū)域16的表面粗糙度越大，微網(wǎng)點凹陷的密度越高。同一單位面積內(nèi)，該微網(wǎng)點凹陷的密度比該網(wǎng)點凹陷14的密度大。兩個霧化區(qū)域16是分別位于靠近第二側(cè)18的導光板模仁100的兩個角落。該霧化區(qū)域16包圍該多個網(wǎng)點凹陷14的若干網(wǎng)點凹陷14。噴砂制程主要可調(diào)參數(shù)包含噴砂材料、噴射高度、掃瞄間距(噴嘴移動間距)、噴嘴移動速度及噴射壓力等(參表1)。在此，標的工件為鋼制的導光板模仁100，所以噴砂材料選擇切削力較大的碳化硅(SiC)，以避免因霧化區(qū)域16的微網(wǎng)點凹陷深度不足而使射出成型時導光板300的反射面圖案的轉(zhuǎn)寫性不佳。噴射高度控制有效圓徑范圍也同時影響適當掃瞄間距的選擇，采取合適之高度與間距并固定參數(shù)，通過速度與壓力的搭配來得到所需粗糙度。表1噴砂參數(shù)
權(quán)利要求
1.一種導光板模仁，其特征在于，該模仁包括成型面、位于該成型面上由激光加工該成型面所形成的多個網(wǎng)點凹陷及位于該底面上由噴砂加工該成型面所形成的至少一個霧化區(qū)域，該成型面用于成型導光板的反射面，該至少一個霧化區(qū)域包括多個微網(wǎng)點凹陷，同一單位面積內(nèi)，該微網(wǎng)點凹陷的密度比該網(wǎng)點凹陷的密度大。
2.如權(quán)利要求1所述的導光板模仁，其特征在于，該至少一個霧化區(qū)域的表面粗糙度為0. 5-0. 7微米。
3.如權(quán)利要求1所述的導光板模仁，其特征在于，該至少一個霧化區(qū)域包圍該多個網(wǎng)點凹陷的若干網(wǎng)點凹陷。
4.一種導光板制造方法，其包括提供如權(quán)利要求1所述的導光板模仁；將該導光板模仁固定于模具中；向該模具中注入成型材料；冷卻該模具中的該成型材料；及脫模以得到導光板。
5.如權(quán)利要求4所述的導光板制造方法，其特征在于，該至少一個霧化區(qū)域的表面粗糙度為0. 5-0. 7微米。
6.一種導光板，其改良在于，該導光板由如權(quán)利要求5所述的導光板制造方法制得，該導光板包括反射面及位于該反射面上的多個網(wǎng)點及位于該反射面上的至少一個霧化區(qū)域， 該至少一個霧化區(qū)域包括多個微網(wǎng)點，同一單位面積內(nèi)，該微網(wǎng)點的密度比該網(wǎng)點的密度大。
7.如權(quán)利要求6所述的導光板，其特征在于，該導光板還包括入光面、出光面及側(cè)面， 該入光面連接該出光面及該反射面，該側(cè)面連接該出光面與該反射面，該入光面與該側(cè)面位于該導光板相背的兩側(cè)。
8.如權(quán)利要求7所述的導光板，其特征在于，相對于該入光面，該至少一個霧化區(qū)域靠近該側(cè)面。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種導光板模仁，其包括成型面、位于該成型面上由激光加工該成型面所形成的多個網(wǎng)點凹陷及位于該底面上由噴砂加工該成型面所形成的至少一個霧化區(qū)域，該成型面用于成型導光板的反射面，該至少一個霧化區(qū)域包括多個微網(wǎng)點凹陷，同一單位面積內(nèi)，該微網(wǎng)點凹陷的密度比該網(wǎng)點凹陷的密度大。本發(fā)明還涉及一種導光板制造方法及一種由該方法制造的導光板。
文檔編號B29C33/76GK102529026SQ20101061129
公開日2012年7月4日 申請日期2010年12月29日 優(yōu)先權(quán)日2010年12月29日
發(fā)明者許嘉麟 申請人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司