具有氣體導引裝置的光罩盒的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明是有關于一種具有氣體導引裝置的光罩盒，其裝設有一氣體導引裝置，氣體導引裝置連通光罩盒的至少一進氣孔，并具有對應光罩盒的一第一氣體流動空間的一第一出氣開口及對應光罩盒的一第二氣體流動空間的一第二出氣開口。當進氣孔供應一高潔凈氣體至氣體導引裝置，高潔凈氣體流經(jīng)氣體導引裝置，并由第一出氣開口及第二出氣開口分別流至第一氣體流動空間及第二氣體流動空間，以使高潔凈氣體均勻分布于第一氣體流動空間及第二氣體流動空間，并提升對光罩的清潔效率及有效保護光罩并避免光罩與空氣接觸，所以減少高潔凈氣體的使用量，進而提升高潔凈氣體的充填效率。
【專利說明】具有氣體導引裝置的光罩盒

【技術領域】
[0001]本發(fā)明是有關于一種光罩盒，特別是指一種具有氣體導引裝置的光罩盒。

【背景技術】
[0002]近代半導體科技發(fā)展迅速，其中光學微影技術扮演重要的角色，只要是關于圖形定義，皆需仰賴光學微影技術。光學微影技術在半導體的應用上，是將設計好的線路制作成具有特定形狀可透光的光罩。利用曝光原理，則光源通過光罩投影至硅晶圓可曝光顯示特定圖案。由于任何附著于光罩上的塵埃顆粒(如微粒、粉塵或有機物)都會造成投影成像的質(zhì)量劣化，用于產(chǎn)生圖形的光罩必須保持絕對潔凈，因此在一般的晶圓制程中，都提供無塵室的環(huán)境以避免空氣中的顆粒污染。然而，目前的無塵室也無法達到絕對無塵的狀態(tài)。
[0003]現(xiàn)代的半導體制程皆利用抗污染的光罩盒進行光罩的保存與運輸，以使光罩保持潔凈。光罩盒在半導體制程中用于存放光罩，以利光罩在機臺之間的搬運與傳送，并隔絕光罩與大氣的接觸，避免光罩被雜質(zhì)污染而產(chǎn)生變化。因此，在先進的半導體廠中，通常會要求光罩盒的潔凈度要符合機械標準接口(Standard Mechanical Interface ;SMIF),也就是說保持潔凈度在Classl以下。故，為了使光罩盒的潔凈度符合機械標準接口，主要透過于光罩盒中充入高潔凈氣體。
[0004]目前光罩盒的底部具有至少一進氣孔，所以可從進氣孔填充一高潔凈氣體至光罩盒內(nèi)，而高潔凈氣體自然流動于光罩盒內(nèi)，大部分高潔凈氣體流動于光罩與光罩盒的底部間的空間，少部分的高潔凈氣體流動至光罩與光罩盒的頂部間的空間，導致高潔凈氣體于光罩盒內(nèi)分布不均勻，使高潔凈氣體對光罩的清潔效果不佳，如此必須持續(xù)填充高潔凈氣體至光罩盒內(nèi)，直到光罩清潔干凈為止，進而增加高潔凈氣體的使用量，并導致充氣高潔凈氣體至光罩盒內(nèi)的效率不佳。
[0005]有鑒于上述問題，本發(fā)明提供一種具有氣體導引裝置的光罩盒，其具有一氣體導引裝置，氣體導引裝置導引由光罩盒的進氣孔進入的一高潔凈氣體均勻分布于光罩與光罩盒的頂部間的空間及光罩與光罩盒的底部間的空間，并改善上述問題。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本發(fā)明的目的，在于提供一種具有氣體導引裝置的光罩盒，其具有至少一氣體導引裝置，氣體導引裝置導引由光罩盒的至少一進氣孔進入的一高潔凈氣體均勻分布于光罩的上下空間，有效提升高潔凈氣體清潔光罩的效率，進而減少高潔凈氣體的使用量，并提升高潔凈氣體的充填效率。
[0007]本發(fā)明提供一種具有氣體導引裝置的光罩盒，其包含:一底座，其具有至少一進氣孔；一蓋體，其罩設于該底座，并與該底座間具有一容置空間，該容置空間容置一光罩，該光罩分隔該容置空間為一第一氣體流動空間及一第二氣體流動空間；以及至少一氣體導引裝置，其設置于該底座，該氣體導引裝置具有一第一氣體導引流道、至少一第二氣體導引流道、至少一第三氣體導引流道、一第一出氣開口及一第二出氣開口，該第一氣體導引流道與該進氣孔相連通，該第二氣體導引流道及該第三氣體導引流道與該第一氣體導引流道相連通，該第一出氣開口與該第二氣體導引流道相連通，該第二出氣開口與該第三氣體導引流道相連通，該第一出氣開口對應該第一氣體流動空間，該第二出氣開口對應該第二氣體流動空間；其中該第一出氣開口的開口面積小于該第二出氣開口的開口面積，以使該第一氣體流動空間內(nèi)的一高潔凈氣體的流量與該第二氣體流動空間內(nèi)的該高潔凈氣體的流量相同。
[0008]實施本發(fā)明產(chǎn)生的有益效果是:本發(fā)明的具有氣體導引裝置的光罩盒，于光罩盒內(nèi)設置至少一氣體導引裝置，透過氣體導引裝置導引由進氣孔所流入的高潔凈氣體均勻分布于光罩的上下空間，使高潔凈氣體可均勻地對光罩清潔，有效提升高潔凈氣體對光罩的清潔效率，以維持光罩盒于高潔度的狀態(tài)，避免光罩與外界的空氣接觸，同時減少高潔凈氣體的使用量，有效提升高潔凈氣體的充填效率。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0009]圖1為本發(fā)明的第一實施例的光罩盒的外觀圖；
[0010]圖2為本發(fā)明的第一實施例的光罩盒的組裝圖；
[0011]圖3為本發(fā)明的第一實施例的光罩盒的剖面圖；
[0012]圖4A為本發(fā)明的第一實施例的氣體導引裝置的外觀圖；
[0013]圖4B為本發(fā)明的第一實施例的氣體導引裝置的組裝圖；
[0014]圖4C為本發(fā)明的圖4A的A區(qū)域的局部放大圖；
[0015]圖5為本發(fā)明的第一實施例的光罩盒的使用狀態(tài)圖；
[0016]圖6A為本發(fā)明的第二實施例的氣體導引裝置的外觀圖；
[0017]圖6B為本發(fā)明的第二實施例的氣體導引裝置的組裝圖；
[0018]圖7為本發(fā)明的第二實施例的光罩盒的使用狀態(tài)圖；
[0019]圖8A為本發(fā)明的第三實施例的光罩盒的仰視圖；
[0020]圖8B為本發(fā)明的圖8A的B區(qū)域的局部放大圖；以及
[0021]圖8C為本發(fā)明的第三實施例的鎖扣件的示意圖。
[0022]【圖號對照說明】
[0023]I 光罩盒10 底座
[0024]10a第一側(cè)邊10b第二側(cè)邊
[0025]101第一表面102第二表面
[0026]104閂孔11 容置空間
[0027]111第一氣體流動空間 112第二氣體流動空間
[0028]12 蓋體121底面
[0029]122鎖扣件1221鎖扣部
[0030]1222轉(zhuǎn)動臂1223滾輪
[0031]123 安裝槽1231 缺口
[0032]13 定位件14 進氣孔
[0033]141充氣閥15 出氣孔
[0034]17 連接件18 限制件
[0035]181座體182限制擋片
[0036]2 光罩21 上表面
[0037]22 下表面3 氣體導引裝置
[0038]31 導引座體31a第一本體
[0039]311a 第一端312a 第二端
[0040]313a第一表面314a第二表面
[0041]315a貫孔316a第一容置槽
[0042]31b第二本體311b第一端
[0043]312b 第二端313b 第一表面
[0044]314b第二表面316b第二容置槽
[0045]317b支撐凸部32 覆蓋體
[0046]32a第一覆蓋部321a第一凹槽
[0047]323a支撐柱32b第二覆蓋部
[0048]321b第二凹槽321c第三凹槽
[0049]322a第一出氣開口322b第二出氣開口
[0050]33a第一氣體導引流道 33b第二氣體導引流道
[0051]33c第三氣體導引流道 4 高潔凈氣體

【具體實施方式】
[0052]為了使本發(fā)明的結(jié)構(gòu)特征及所達成的功效有更進一步的了解與認識，特用較佳的實施例及配合詳細的說明，說明如下:
[0053]習知光罩盒的底座具有至少一進氣孔，所以可透過進氣孔填充一高潔凈氣體至光罩盒內(nèi)，而高潔凈氣體從光罩盒的底座流入光罩盒內(nèi)，大部分高潔凈氣體自然流動于光罩盒的底座與容置于光罩盒的一光罩間的空間，少部分的高潔凈氣體流動至光罩與光罩盒的一蓋體間的空間，導致高潔凈氣體于光罩盒內(nèi)分布不均勻，使高潔凈氣體對光罩的清潔效果不佳，甚至高潔凈氣體無法完全阻隔外界空氣與光罩的接觸，如此必須持續(xù)填充高潔凈氣體至光罩盒內(nèi)，直到光罩清潔干凈為止，進而增加高潔凈氣體的使用量，而未能有效率對光罩盒進行高潔凈氣體填充。
[0054]有鑒于上述問題，本發(fā)明提供一種具有氣體導引裝置的光罩盒，其透過氣體導引裝置導引高潔凈氣體均勻分布于光罩與光罩盒的蓋體間的空間及光罩與光罩盒的底座間的空間，以提升高潔凈氣體清潔光罩的效率，并減少外界的空氣與光罩接觸的機會，如此不但降低高潔凈氣體的使用量，同時也提升高潔凈氣體的充填效率。
[0055]請參閱圖1、圖2及圖3，其是本發(fā)明的第一實施例的光罩盒的外觀圖、組裝圖及剖面圖；如圖所不，本實施例提供一種光罩盒I，光罩盒I包含一底座10及一蓋體12,蓋體12罩設于底座10，并與底座10間具有一容置空間11，容置空間11用以容置一光罩2，而底座10具有相對的二第一側(cè)邊10a及相對的二第二側(cè)邊100b。底座10朝向容置空間11的一第一表面101設有二定位件13，二定位件13相對設置并分別鄰近于底座10的二第一側(cè)邊10a0底座10具有二進氣孔14,每一進氣孔14從底座10朝向光罩盒I外部的一第二表面102貫穿至底座10的第一表面101，而本實施例的二進氣孔14鄰近二第二側(cè)邊10b之一者(如圖3中底座10右側(cè)的第二側(cè)邊100b)，每一進氣孔14內(nèi)更設有一充氣閥141。當光罩2設置于光罩盒I的底座10時,光罩2從二第二側(cè)邊10b之一者移動至另一第二側(cè)邊10b (即以圖3為例，從底座10的左側(cè)移動至右側(cè))，并設置于二定位件13，二定位件13頂持光罩2,并防止光罩2于二第一側(cè)邊10a之間產(chǎn)生位移。然后蓋體12罩設于底座10,使光罩2位于容置空間11內(nèi)。接著透過二進氣孔14充入一高潔凈氣體，充氣閥141過濾高潔凈氣體，并讓高潔凈氣體流入容置空間11，高潔凈氣體清潔位于容置空間11內(nèi)的光罩2及阻隔光罩2與外界的空氣接觸。
[0056]當光罩2設置于容置空間11內(nèi)時，光罩2將容置空間11劃分成一第一氣體流動空間111及一第二氣體流動空間112，第一氣體流動空間111指光罩2的一下表面22與底座10間的空間，第二氣體流動空間112指光罩2的一上表面21與蓋體12間的空間。為了使第一氣體流動空間111及第二氣體流動空間112的高潔凈氣體的流量相同，本實施例的光罩盒I主要設有二氣體導引裝置3，每一氣體導引裝置3設置于底座10，并位于二定位件13之間，且鄰近底座10的二第二側(cè)邊10b之一者。每一氣體導引裝置3覆蓋于對應的進氣孔14的上方，以與對應的進氣孔14連通，每一氣體導引裝置3導引由進氣孔14進入的高潔凈氣體流動至第一氣體流動空間111及第二氣體流動空間112，以使第一氣體流動空間111及第二氣體流動空間112內(nèi)的氣體流量相同。
[0057]下述詳細說明本實施例的氣體導引裝置3的細部結(jié)構(gòu)。請一并參閱圖4A至圖4C圖，其是本發(fā)明的第一實施例的氣體導引裝置的外觀圖、組裝圖及圖4A的A區(qū)遇的局部放大圖；如圖所示，本實施例的氣體導引裝置3包含一導引座體31及一覆蓋體32，導引座體31呈L字型，并具有一第一本體31a及一第二本體31b。當導引座體31設置于底座10的第一表面101時，第一本體31a設置于底座10的第一表面101，并具有一第一端311a及一第二端312a,第一端311a位于對應的進氣孔14的上方,第二端312a鄰近底座10的第二側(cè)邊10b ;第二本體31b亦具有一第一端311b及一第二端312b,第二本體31b的第一端311b設置于第一本體31a的第二端312a，而第二本體31b的第二端311b往遠離底座10的方向延伸，第二本體31b垂直于第一本體31a，以形成L字形的導引座體31。
[0058]第一本體31a具有一第一表面313a及相對于第一表面313a的一第二表面314a,第一表面313a遠離底座10的第一表面101，第二表面314a與底座10的第一表面101接觸。第一本體31a的第一端311a具有一貫孔315a,貫孔315a貫穿第一本體31a的第一表面313a及第二表面314a，并對應進氣孔14，即與進氣孔14相連通。第一本體31a的第一表面313a具有一第一容置槽316a，第一容置槽316a的一端與貫孔315a相連通，其另一端往第二本體31b延伸。第二本體31b亦具有一第一表面313b及相對于第一表面313b的一第二表面314b，第一表面313b朝向底座10的內(nèi)部，并具有一第二容置槽316b。第二容置槽316b從第二本體31b的第一端311b往第二本體31b的第二端312b延伸，并與第一容置槽316a相連通。本實施例的第一本體31a與第二本體31b可為一體成型，于此不再贅述。
[0059]覆蓋體32覆蓋于導引座體31，所以覆蓋體32與導引座體31—樣呈L字型。覆蓋體32具有一第一覆蓋部32a及一第二覆蓋部32b,第一覆蓋部32a設置于第一本體31a,與第一本體31a的第一表面313a接觸的第一覆蓋部32a的表面具有一第一凹槽321a，本實施例的第一凹槽321a完全覆蓋第一本體31a的貫孔315a及第一容置槽316a，即第一凹槽321a的形狀符合貫孔315a與第一容置槽316a所構(gòu)成的形狀，然第一凹槽321a與貫孔315a及第一容置槽316a之間形成一第一氣體導引流道33a。
[0060]第二覆蓋部32b完全容置于第二容置槽316b內(nèi)，與第二本體31b接觸的第二覆蓋部32b的表面具有至少一第二凹槽321b及至少一第三凹槽321c，第二凹槽321b及第三凹槽321c與第一凹槽321a相連通。未與第二本體31b接觸的第二覆蓋部32b的表面具有一第一出氣開口 322a及一第二出氣開口 322b，第一出氣開口 322a對應第一氣體流動空間111，而第二出氣開口 322b位于第一出氣開口 322a的上方，并對應第二氣體流動空間112 (請參閱圖3)。第一出氣開口 322a與第二凹槽321b相連通，第二出氣開口 322b與第三凹槽321c相連通。當?shù)诙采w部32b容置于第二本體31b的第二容置槽316b內(nèi)時，第二凹槽321b及第三凹槽321c與第二容置槽316b間分別形成至少一第二氣體導引流道33b及至少一第三氣體導引流道33c，第二氣體導引流道33b及第三氣體導引流道33c分別與第一氣體導引流道33a相連通，另分別與第一氣體出口 322a及第二氣體出口 322b相連通。
[0061]再一并參閱圖5，其是本發(fā)明的第一實施例的光罩盒的使用狀態(tài)圖；如圖所示，當從光罩盒I的二進氣孔14填充高潔凈氣體4時，高潔凈氣體4從進氣孔14進入并流動至對應的氣體導引裝置3的第一氣體導引流道33a。然，高潔凈氣體4從第一氣體導引流道33a分別流入第二氣體導引流道33b及第三氣體導引流道33c。最后流入第二氣體導引流道33b的高潔凈氣體4從第一出氣開口 322a流至第一氣體流動空間111 ;同時地，流入第三氣體導引流道33c的高潔凈氣體4從第二出氣開口 322b流至第二氣體流動空間112。
[0062]本實施例的第一出氣開口 322a的開口面積小于第二出氣開口 322b的開口面積，于氣體流速及氣體流動至第一出氣開口 322a及第二出氣開口 322b的距離相同下，從第一出氣開口 322a流入第一氣體流動空間111的高潔凈氣體4的瞬間流量小于從第二出氣開口 322b進入第二氣體流動空間112的高潔凈氣體4的瞬間流量。另外，本實施例的第二氣體導引流道33b的長度小于第三氣體導引流道33c的長度,若第一出氣開口 322a的開口面積等于第二出氣開口 322b的開口面積，于相同的氣體流速及相同時間下，高潔凈氣體4從第一出氣開口 322a進入第一氣體流動空間111的流量多于高潔凈氣體4從第二出氣開口322b進入第二氣體流動空間112的流量。
[0063]由上述可知，本實施例的第一出氣開口 322a的開口面積小于第二出氣開口 322b的開口面積，與第二氣體導引流道33b的長度小于第三氣體導引流道33c的長度等條件搭配下，即將上述兩種情況的結(jié)果綜合，使從第一出氣開口 322a流至第一氣體流動空間111內(nèi)的高潔凈氣體4的流量與從第二出氣開口 322b流至第二氣體流動空間112內(nèi)的高潔凈氣體4的流量一致，讓高潔凈氣體4均勻地清潔光罩2的各部位，以提升高潔凈氣體4對光罩2的清潔效率，當縮短對光罩2的清潔時間時，也同時減少高潔凈氣體4的供應時間，進而減少高潔凈氣體4的使用量，即表示透過氣體導引裝置3可有效率地充填高潔凈氣體4至光罩盒I內(nèi)。
[0064]然而，本實施例的第一出氣開口 332a及第二出氣開口 332b分別為狹長的一矩形孔，使高潔凈氣體4從第一出氣開口 332a及第二出氣開口 332b流至第一氣體流動空間111及第二氣體流動空間112的氣壓增加，以使高潔凈氣體4噴射于第一氣體流動空間111及第二氣體流動空間112，并使高潔凈氣體4快速地流動至第一氣體流動空間111及第二氣體流動空間112，而且第一出氣開口 332a及第二出氣開口 322b為狹長的矩形孔，從第一出氣開口 332a及第二出氣開口 322b流出的高潔凈氣體4可大面積的分布于第一氣體流動空間Ill及第二氣體流動空間112，進而有效提升充填高潔凈氣體4至光罩盒I的效率。
[0065]同時，光罩盒I的底座10更包含至少一出氣孔15，出氣孔15相對于二進氣孔14，出氣孔15鄰近另一第二側(cè)邊10b (以圖5為例，即位于底座10的左側(cè))。當光罩2設置于底座10時，二進氣孔14與出氣孔15位于光罩2的兩側(cè)，使從二進氣孔14進入的高潔凈氣體4通過二氣體導引裝置3導引至第一氣體流動空間111及第二氣體流動空間112，高潔凈氣體4從第一氣體流動空間111及第二氣體流動空間112的一端流動至其另一端，即高潔凈氣體4通過光罩2的一上表面21及一下表面22。當高潔凈氣體4通過光罩2時，高潔凈氣體4與光罩2的殘留物混合，而含有殘留物的高潔凈氣體4流動至出氣孔15，并從出氣孔15排出，以有效保持光罩盒I內(nèi)維持高潔度。
[0066]然而,第一本體31a的第一端311a位于對應的進氣孔14的上方,第一本體31a的貫孔315a對應進氣孔14，貫孔315a的孔徑須大于或等于進氣孔14的孔徑。從進氣孔14流入的高潔凈氣體4可完全流入貫孔315a，而高潔凈氣體4完全流入第一氣體導引流道33a，然高潔凈氣體4沿第一氣體導引流道33a進入第二氣體導引流道33b及第三氣體導引流道33c，并從與第二氣體導引流道33b的第一出氣開口 322a及與第三氣體導引流道33c的第二出氣開口 322b分別流入第一氣體流動空間111及第二氣體流動空間112，如此避免高潔凈氣體4的流失，更減少高潔凈氣體4的使用量，并提升高潔凈氣體4填充至光罩盒I內(nèi)的效率。
[0067]此外，設置于第一本體31a的第一覆蓋部32a的第一凹槽321a對應進氣孔14的側(cè)壁呈圓弧形。當高潔凈氣體4從進氣孔14進入氣體導引裝置3時，高潔凈氣體4呈發(fā)散狀并自由流動于第一氣體導引流道33a，即部分的高潔凈氣體4往第二氣體導引流道33b及第三氣體導引流道33c流動，部分的高潔凈氣體4接觸到呈圓弧形的側(cè)壁，高潔凈氣體4將沿著圓弧形的側(cè)壁流動，并使高潔凈氣體4改往第二氣體導引流道33b及第三氣體導引流道33c流動，如此導引高潔凈氣體4的流動，并確使從進氣孔14流入的高潔凈氣體4完全地提供至光罩盒I內(nèi)，也可減少高潔凈氣體4的使用量，并提升高潔凈氣體4填充至光罩盒I內(nèi)的效率。
[0068]然本實施例的光罩盒I更包含一連接件17，連接件17的兩端分別連接每一氣體導引裝置3的第一本體31a，使二第一本體31a透過連接件17的連接而形成單一組件，如此可同時裝設二氣體導引裝置3的二第一本體31a于底座10的第一表面101。然連接件17可與二第一本體31a —體成形，如此減少零件數(shù)量，有效簡化組裝程序。本實施例的氣體導引裝置3又具有定位光罩2于光罩盒I內(nèi)并防止光罩2脫離二定位件13的功能，當光罩2設置于底座10的二定位件13時，而每一氣體導引裝置3的第二本體31b的第一表面311b抵接于光罩2的側(cè)邊，如此防止光罩2因光罩盒I于運送過程中所產(chǎn)生的震動或晃動而于光罩盒I內(nèi)產(chǎn)生位移，所以將習知光罩盒I用于抵接光罩2的側(cè)邊的限制件更換為本實施例的氣體導引裝置3，而本實施例的氣體導引裝置3可視為具有氣體導引功能的限制件。
[0069]然本實施例的覆蓋體32使用軟性材質(zhì)，因此第二覆蓋部32b的厚度小于或等于第二本體31b的第二容置槽316b的高度，即設有第一出氣開口 322a及第二出氣開口 322b的第二覆蓋部32b的表面低于第二本體31b的第一表面311b。當光罩2設置于光罩盒I內(nèi)時，光罩2的側(cè)邊抵接于第二本體31b的第一表面311b，第二本體31b的第一表面311b支撐光罩2,使光罩2未壓縮第二覆蓋部32b與第二本體31b間的第二氣體導引流道33b及第三氣體導引流道33c，以使高潔凈氣體順暢地流動于第二氣體導引流道33b及第三氣體導引流道33c。同時，本實施例的第一覆蓋部32a也具有一支撐柱323a，支撐柱323a設置于第一凹槽321a內(nèi)，并對應進氣孔14內(nèi)的充氣閥141。當?shù)谝桓采w部32a安裝于第一本體31a時，支撐柱323a抵接于充氣閥141的表面，并未覆蓋進氣孔14，如此維持第一覆蓋部32a與第一本體31a間所形成的第一氣體導引流道33a的空間，使高潔凈氣體也可順暢地流動于第一氣體導引流道33a。
[0070]請參閱圖6A至圖6B，其是本發(fā)明的第二實施例的氣體導引裝置的外觀圖及組裝圖；如圖所示，本實施例與上述實施例不同在于，上述實施例的光罩盒I具有二氣體導引裝置3，每一氣體導引裝置3對應一個進氣孔14，而本實施例的光罩盒I僅設置一個氣體導引裝置3，此氣體導引裝置3同時對應二進氣孔14。因本實施例的氣體導引裝置3必須同時對應二進氣孔14，所以導引本體31及覆蓋體32的結(jié)構(gòu)與上述實施例不同。
[0071]本實施例的導引本體31的第一本體31a具有二貫孔315a，二貫孔315a分別對應二進氣孔14。第一本體31a的第一表面313a具有呈T字型的第一容置槽316a，第一容置槽316a與二貫孔315a相連通。然覆蓋體32的第一覆蓋部32a亦具有與第一容置槽316a及二貫孔315a相對應的第一凹槽321a。請一并參閱圖7，當覆蓋體32設置于導引本體31時，第一覆蓋部32a設置于第一本體31a,第一凹槽321a對應二貫孔315a及第一容置槽316a,并與二貫孔315a及第一容置槽316a間形成第一氣體導引流道33a。第一氣體導引流道33a與第二氣體導引流道33b及第三氣體導引流道33c相連通。本實施例的氣體導引裝置3與上述實施例的氣體導引裝置3的差異在于結(jié)構(gòu)不同，其功能完全相同，于此不再贅述。
[0072]本實施例的氣體導引裝置3更包含二限制件18，二限制件18包含一座體181及一限制擋片182，限制擋片182設置于座體181上。二限制件18設置于第一本體31a上，即每一限制件18的座體181設置于第一本體31a，二限制件18分別位于導引本體31的第二本體31b的兩側(cè)。當光罩2設置于光罩盒I內(nèi)時，每一限制擋片182抵接于光罩2的側(cè)邊，以避免光罩2于光罩盒I內(nèi)產(chǎn)生位移。然本實施例的二限制擋片182至鄰近的第二側(cè)邊10b的距離大于第二覆蓋部32b至鄰近的第二側(cè)邊10b的距離，及第二覆蓋部32b較二限制擋片182靠近第二側(cè)邊100b，如此使光罩2不會直接抵接于第二覆蓋部32b，以避免第二覆蓋部32b往第二本體31b壓縮，而縮小第二氣體導引流道33b及第三氣體導引流道33c的空間，使高潔凈氣體順暢地流動于第二氣體導引流道33b及第三氣體導引流道33c。
[0073]同時地，因第二覆蓋部32b的第二凹槽321b及第三凹槽321c的面積較大，即第二覆蓋部32b的中空區(qū)域較多，所以可于第二本體31b的第二容置槽316b內(nèi)設置至少一支撐凸部317b，支撐凸部317b對應第二覆蓋部32b的第二凹槽321b，并支撐第二凹槽321b，以維持第二凹槽321b與第二本體31b間所形成的第二氣體導引流道33b的空間，使高潔凈氣體可順暢地流動于第二氣體導引流道33b內(nèi)。本實施例與上述實施例一樣于第一覆蓋部31a也有設置支撐柱322a，于此不再贅述。
[0074]請參閱圖8A至圖SC，其是本發(fā)明的第三實施例的光罩盒的仰視圖、圖8A的B區(qū)域的局部放大圖及鎖扣件的示意圖；如圖所示，本實施例的光罩盒I與上述實施例的光罩盒不同在于，光罩盒I的蓋體12的底面121更設有復數(shù)鎖扣件122，而底座10的第二表面102設有復數(shù)閂孔104，該些閂孔104對應該些鎖扣件122。當蓋體12設置于底座10時，該些鎖扣件122扣設于底座10的該些閂孔104，使該些鎖扣件122夾持于底座10，以固定蓋體12于底座10。
[0075]每一鎖扣件122具有一鎖扣部1221及一轉(zhuǎn)動臂1222，轉(zhuǎn)動臂1222的一端連接鎖扣部1221，轉(zhuǎn)動臂1222樞接于對應的蓋體12的一安裝槽123內(nèi)，安裝槽123具有至少一缺口 1231，缺口 1231對應底座10的閂孔104，并供鎖扣部1221設置。當蓋體12設置于底座10時，鎖扣部1221先往蓋體12的外側(cè)移動，并帶動轉(zhuǎn)動臂1222轉(zhuǎn)動，然后蓋體12設置于底座10，同時釋放鎖扣部1221，轉(zhuǎn)動臂1222帶動鎖扣部1221往對應的閂孔104移動而使鎖扣部1221扣設閂孔104內(nèi)。當蓋體12脫離底座10時，亦先帶動鎖扣部1221往蓋體12的外側(cè)移動并脫離閂孔104，使底座10脫離蓋體12，的后釋放鎖扣部1221，轉(zhuǎn)動臂1222帶動鎖扣部1221回復至原始位直。
[0076]本實施例中，每一鎖扣部1221與閂孔104接觸的表面更具有一滾輪1223，當鎖扣部1221扣設于對應的閂孔104時，滾輪1223隨著鎖扣部1221的移動而滾動，滾輪1223與閂孔104的側(cè)壁接觸并滾入對應的閂孔104內(nèi)。本實施例的每一鎖扣件122的鎖扣部1221透過滾輪1223的設置而減少與對應的閂孔104間的接觸面積，進而減少鎖扣部1221與閂孔104間的摩擦力，并使鎖扣部1221可順暢地進入或退出閂孔104。
[0077]本實施例的閂孔104與滾輪1223接觸的表面更設有至少一導引凸部1041，導引凸部1041與滾輪1223接觸的表面為一斜面，如此更減少滾輪1223與閂孔104間的接觸面積，有效減少滾輪1223與閂孔104間的摩擦力，使鎖扣部1221更順暢地進入或退出閂孔104，并增加該些鎖扣件122的該些鎖扣部1221對底座10的夾持力，使蓋體12穩(wěn)固地固定于底座10上，有效提升蓋體12與底座10間的氣密性。
[0078]由上述可知，本發(fā)明提供一種具有氣體導引裝置的光罩盒，于光罩盒內(nèi)設置至少一氣體導引裝置，透過氣體導引裝置導引由進氣孔所流入的高潔凈氣體均勻分布于光罩的上下空間，使高潔凈氣體可均勻地對光罩清潔，有效提升高潔凈氣體對光罩的清潔效率，以維持光罩盒于高潔度的狀態(tài)，避免光罩與外界的空氣接觸，同時減少高潔凈氣體的使用量，有效提升高潔凈氣體的充填效率。且本發(fā)明的氣體導引裝置具有防止光罩于光罩盒內(nèi)產(chǎn)生位移的功效。另外本發(fā)明的光罩盒的鎖扣件具有滾輪，以減少鎖扣件與對應的閂孔間的摩擦，使鎖扣件可順暢地進出閂孔。
[0079]上文僅為本發(fā)明的較佳實施例而已，并非用來限定本發(fā)明實施的范圍，凡依本發(fā)明權利要求范圍所述的形狀、構(gòu)造、特征及精神所為的均等變化與修飾，均應包括于本發(fā)明的權利要求范圍內(nèi)。
【權利要求】
1.一種具有氣體導引裝置的光罩盒，其特征在于，其包含: 一底座，其具有至少一進氣孔； 一蓋體，其罩設于該底座，并與該底座間具有一容置空間，該容置空間容置一光罩，該光罩分隔該容置空間為一第一氣體流動空間及一第二氣體流動空間；以及 至少一氣體導引裝置，其設置于該底座，該氣體導引裝置具有一第一氣體導引流道、至少一第二氣體導引流道、至少一第三氣體導引流道、一第一出氣開口及一第二出氣開口，該第一氣體導引流道與該進氣孔相連通，該第二氣體導引流道及該第三氣體導引流道與該第一氣體導引流道相連通，該第一出氣開口與該第二氣體導引流道相連通，該第二出氣開口與該第三氣體導引流道相連通，該第一出氣開口對應該第一氣體流動空間，該第二出氣開口對應該第二氣體流動空間； 其中該第一出氣開口的開口面積小于該第二出氣開口的開口面積，以使該第一氣體流動空間內(nèi)的一高潔凈氣體的流量與該第二氣體流動空間內(nèi)的該高潔凈氣體的流量相同。
2.如權利要求1所述的具有氣體導引裝置的光罩盒，其特征在于，其中該氣體導引裝置包含: 一導引本體，其設置于該底座，并位于該進氣孔的上方；以及 一覆蓋體，其設置于該導引本體，并與該導引本體間形成該第一氣體導引流道、該第二氣體導引流及該第三氣體導引流道，該第一出氣開口及該第二出氣開口設置于該覆蓋體。
3.如權利要求2所述的具有氣體導引裝置的光罩盒，其特征在于，其中該導引本體包含: 一第一本體，其設置于該底座，并位于該進氣孔的上方，該第一本體具有至少一貫孔及一第一容置槽，該貫孔對應該進氣孔，該第一容置槽與該貫孔相連通；以及 一第二本體，其設置該第一本體，該第二本體具有一第二容置槽，該第二容置槽與該第一容置槽相連通。
4.如權利要求3所述的具有氣體導引裝置的光罩盒，其特征在于，其中該覆蓋體包含: 一第一覆蓋部，其設置于該第一本體，該第一覆蓋部具有一第一凹槽，該第一凹槽對應第一容置槽及該貫孔，并形成該第一氣體導引流道；以及 一第二覆蓋部，其容置于該第二容置槽內(nèi)，該第二覆蓋部具有至少一第二凹槽及至少一第三凹槽，該第二凹槽及該第三凹槽對應該第二容置槽，并分別形成該第二氣體導引流道及該第一氣體導引流道。
5.如權利要求4所述的具有氣體導引裝置的光罩盒，其特征在于，其中該第一覆蓋部具有至少一支撐柱，該支撐柱位于該第一凹槽內(nèi)，并抵接于該進氣孔內(nèi)的一充氣閥的表面。
6.如權利要求4所述的具有氣體導引裝置的光罩盒，其特征在于，其中該第二本體的該第二容置槽內(nèi)設有至少一支撐凸部，該支撐凸部對應該第二覆蓋部的該第二凹槽，并支撐該第二覆蓋部。
7.如權利要求1所述的具有氣體導引裝置的光罩盒，其特征在于，其中該第一出氣開口與該第二出氣開口分別為一矩形孔。
8.如權利要求4所述的具有氣體導引裝置的光罩盒，其特征在于，更包含: 至少一限制件，其包含一座體及一限制擋片，該座體設置于該第一本體，該限制擋片設置于該座體，并抵接于該光罩的側(cè)邊。
9.如權利要求8所述的具有氣體導引裝置的光罩盒，其特征在于，其中該限制擋片與鄰近該限制擋片的該底座的一第二側(cè)邊間的距離大于該第二覆蓋部與該第二側(cè)邊間的距離。
10.如權利要求4所述的具有氣體導引裝置的光罩盒，其特征在于，其中該第二覆蓋部的厚度小于或等于該第二容置槽的高度，該第二容置槽的兩側(cè)的表面抵接于該光罩的側(cè)邊。
11.如權利要求1所述的具有氣體導引裝置的光罩盒，其特征在于，更包含: 復數(shù)鎖扣件，其分別樞設于該蓋體的復數(shù)安裝槽，每一鎖扣件包含: 一轉(zhuǎn)動臂，其一端樞接于對應的該安裝槽；以及 一鎖扣部，其連接該轉(zhuǎn)動臂的另一端，該轉(zhuǎn)動臂隨著該鎖扣部轉(zhuǎn)動，該鎖扣部扣設于該底座的一閂孔，其中該鎖扣部與該閂孔接觸的表面嵌設有一滾輪。
12.如權利要求11所述的具有氣體導引裝置的光罩盒，其特征在于，其中該閂孔與該滾輪接觸的表 面設有至少一導引凸部，該導引凸部與該滾輪接觸的表面為一斜面。
【文檔編號】B65D81/20GK104071464SQ201310151706
【公開日】2014年10月1日 申請日期:2013年4月18日 優(yōu)先權日:2013年3月26日
【發(fā)明者】呂保儀, 林添瑞 申請人:家登精密工業(yè)股份有限公司