拒水膜形成用組合物及其使用
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明設(shè)及拒水膜形成用組合物，使用該拒水膜形成用組合物形成的拒水膜，在 基體上的至少一部分具備該拒水膜的帶拒水膜基體，W及包括該帶拒水膜基體的運(yùn)輸器械 用物品。
【背景技術(shù)】
[0002] W往，在各種技術(shù)領(lǐng)域中，要求對基體的表面賦予拒水性。作為賦予拒水性的方 法，通常在基體的表面上形成拒水性的被膜，對設(shè)及形成該樣的被膜的組合物進(jìn)行技術(shù)開 發(fā)。尤其，在基體是汽車玻璃等運(yùn)輸器械用物品的基體的情況下，強(qiáng)烈要求組合物在對被膜 賦予拒水性之外還賦予稱為耐磨耗性或耐候性的耐久性。作為可形成耐久性優(yōu)異的拒水膜 的組合物，提出了將具有含氣聚離基的水解性硅烷化合物和具有含氣烷基的水解性硅烷化 合物組合而成的組合物（參照專利文獻(xiàn)1)。
[0003] 現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0004] 專利文獻(xiàn)
[0005] 專利文獻(xiàn)1;國際公開第2011/016458號公報(bào)

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006] 發(fā)明所要解決的技術(shù)問題
[0007] 根據(jù)本發(fā)明人的研究，發(fā)現(xiàn)專利文獻(xiàn)1具體公開的通過組合物形成的拒水膜的拒 水性優(yōu)異、耐磨耗性優(yōu)異，但在耐化學(xué)品性（耐堿性化學(xué)品性W及耐鹽水噴霧性）W及耐光 性的方面還有改善的余地。其中，發(fā)現(xiàn)作為具有含氣烷基的水解性硅烷化合物，在使用具有 鏈長短的含氣烷基（例如碳原子數(shù)6個(gè)W下的全氣烷基）的化合物的情況下，難W得到良 好的耐化學(xué)品性。
[000引本發(fā)明是鑒于上述觀點(diǎn)而形成的，其目的在于提供一種可形成耐化學(xué)品性W及耐 光性優(yōu)異的拒水膜的拒水膜形成用組合物。進(jìn)一步，其目的還在于提供使用該拒水膜形成 用組合物形成的拒水膜，在基體上的至少一部分具備該拒水膜的帶拒水膜基體，W及包括 該帶拒水膜基體的運(yùn)輸器械用物品。
[0009] 解決技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案
[0010] 本發(fā)明下構(gòu)成為技術(shù)要點(diǎn)。
[0011] [1] 一種拒水膜形成用組合物，其中，含有下述（A)的成分和下述炬）的成分，或含 有下述（A)的成分和下述炬）的成分的部分水解共縮合物；
[001引 （A)式（1) ;R"-Qi-SiRipXi3_p所表示的化合物及/或其部分水解縮合物，
[001引（式中，Rfi為基團(tuán)CiF2w(此處，1為1~6的整數(shù)），
[0014]Qi為碳原子數(shù)1~6的2價(jià)姪基，
[0015]Ri分別獨(dú)立地為碳原子數(shù)1~6的1價(jià)姪基，
[0016]公分別獨(dú)立地為哲基或者水解性基團(tuán)，
[0017]p為0~2的整數(shù)）
[001引 做式（2) ;Zi-Rf2-Z2所表示的、且數(shù)均分子量為2600W上的化合物及/或其部分 水解縮合物，
[0019] (式中，Rf2為-0-(CaF2a〇)n-(此處，a為1~6的整數(shù)，n為1W上的整數(shù)， 各-CaFsaO-單元可相同或不同），
[0020] 21^及22分別獨(dú)立地為1?口、或者基團(tuán)-92-{邸2邸61於。町-。)},-扎或任一方為基 團(tuán)-Q2_{CH2aUSiR2gX23_q)}r-H，
[0021] (此處，Rfs為基團(tuán)CmFam+i(此處，m為1~6的整數(shù)），
[002引 Q2為-(CH2)S-(此處，S為0~12的整數(shù)），或者含有選自醋鍵、離鍵、酷胺鍵、氨基 甲酸醋鍵W及亞苯基的1種W上的-(CH2),-，-C&-單元的一部分或者全部可被-CF2-單元 及/或-CFCFg-單元取代，
[0023] R2為氨原子、或者碳原子數(shù)1~6的1價(jià)姪基，該姪基可含有取代基，
[0024] X2分別獨(dú)立地為哲基或者水解性基團(tuán)，
[002引 q為0~2的整數(shù)，
[0026] r為1~20的整數(shù)）。
[0027] [2]如[1]所述的拒水膜形成用組合物，其中，式（2)所表示的化合物的數(shù)均分子 量為 2800 ~10000。
[002引 閒如山或者凹所述的拒水膜形成用組合物，其中，式似中的Zi為Rn，Z2為 基團(tuán)-QM畑2邸儀護(hù)斯-。)}r-H(該里，Rf\Q2、R2、X2、qW及r與山所定義的相同）。
[0029] [句如山~閒中任一項(xiàng)所述的拒水膜形成用組合物，其中，式似中的RK ^S -0-也址- w-(CF(CF3)CF20)"5-(CF2CF20)w-(CF20)w-(該里，nl，n2,n3,n4,n5,n6W及n7 分別獨(dú)立地 為0W上的整數(shù)，111、112、113、114、115、116^及117的總計(jì)在1^上，各重復(fù)單元可^嵌段方式 存在，也可W無規(guī)方式存在）所表示的基團(tuán)。
[0030] 閒如M所述的拒水膜形成用組合物，其中，式似中的Rf2為基 團(tuán)-0-(CF2CF20-CF2CF2CF2CF20)"8(該里，n8為1W上的整數(shù)）所表示的基團(tuán)。
[003U [6]如閒所述的拒水膜形成用組合物，其中，式似所表示的化合物為式（2'）：
[003引Rf3' -0- (CF2CF2O-CF2CF2CF2CF2O)n8_Q2' -C&C&SiX]'3[003引（式中，Rf3' 為CFs或者CF3CF2-，
[0034] Q2' 為-CFsCFaO-CFaCFaCFa-CW)NH-CH2-或者-CF2CF2O-CF2CF2CF2CH2-O-CH2-，
[0035] X2'分別獨(dú)立地為烷氧基、面素原子或者異氯酸醋基，
[0036] nS為上的整數(shù)）
[0037] 所表示的化合物。
[003引 [7]如[1]~[6]中任一項(xiàng)所述的拒水膜形成用組合物，其中，組合物中的來 源于式（1)所表示的化合物的部分和來源于式（2)所表示的化合物的部分的質(zhì)量比為 0. 9 : 0. 1 ~0. 1 : 0. 9。
[0039] [引一種拒水膜，其中，使用[1]~[7]中任一項(xiàng)所述的拒水膜形成用組合物形成。
[0040] [9] 一種帶拒水膜基體，其中，基體上的至少一部分具備上述[引所述的拒水膜。
[0041] [10]如[9]所述的帶拒水膜基體，其中，在基體和拒水膜之間具備含有二氧化娃 的底膜。
[0042][山如[10]所述的帶拒水膜基體，其中，底膜為使用含有式（3) ;SiY4
[0043](式中，Y分別獨(dú)立地為烷氧基、面素原子或者異氯酸醋基）所表示的化合物、或者 其部分水解縮合物的底膜形成用組合物形成的膜。
[0044][切如[9]~[山中任一項(xiàng)所述的帶拒水膜基體，其中，基體包括玻璃。
[0045][切一種運(yùn)輸器械用物品，其中，包括上述[9]~[切中任一項(xiàng)所述的帶拒水膜 基體。
[0046] 發(fā)明的效果
[0047] 如果采用本發(fā)明，則可提供可形成耐化學(xué)品性（耐堿性化學(xué)品性W及耐鹽水噴霧 性）W及耐光性優(yōu)異的拒水膜的拒水膜形成用組合物。進(jìn)一步，如果采用本發(fā)明，則可提供 使用該拒水膜形成用組合物形成的拒水膜，在基體上的至少一部分具備該拒水膜的帶拒水 膜基體，W及包括該帶拒水膜基體的運(yùn)輸器械用物品。
【具體實(shí)施方式】
[0048] 下面對本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行說明。但是，本發(fā)明不應(yīng)被解釋為局限于下述說明。
[0049] 本說明書中，式子所表示的化合物或者基團(tuán)也標(biāo)記為帶有該式子的編號的化合物 或者基團(tuán)，例如式（1)所表示的化合物也標(biāo)記為化合物（1)。本說明書中，「來源于化合物 (1)的部分」是對化合物（1)的部分水解縮合物W及化合物（1)和其他水解性硅烷化合物 的部分水解縮聚物中的來源于化合物（1)的單元和未反應(yīng)的化合物（1)進(jìn)行總稱的術(shù)語。 [(K)加][拒水膜形成用組合物]
[0051] 本發(fā)明的拒水膜形成用組合物包括（A)化合物（1)及/或其部分水解縮合物（即， 選自化合物（1)及其部分水解縮合物的至少1種），或包括上述（A)成分和上述炬）成分 的部分水解共縮合物。通過本發(fā)明的組合物而形成的拒水膜由于炬）成分的全氣亞烷基的 鏈長長，因此即使暴露在堿性化學(xué)品或鹽水中，也可防止堿或鹽水對基材和拒水劑的結(jié)合 處的浸入，從而可保持維持拒水性的結(jié)構(gòu)，并且即使遇光分解也由于炬）成分的全氣亞燒 基的鏈長長而可保持維持拒水性的結(jié)構(gòu)。另一方面，由于不具有離鍵，因而可與耐光性強(qiáng)的 (A)成分并用，可高效地發(fā)揮耐候性。
[0052] < (A)化合物（1)及/或其部分水解縮合物〉
[005引對化合物（1)進(jìn)行說明?；衔铮?)用上述式（1)表示。
[0化4] 上述式中的R"為基團(tuán)CiF2w(此處，1為1~6的整數(shù)），可W是直鏈狀也可W是 支鏈狀。其中，從耐候性的方面考慮，優(yōu)選直鏈狀的基團(tuán)CF3(CF2)i_i(此處，1如上所述）， 更優(yōu)選CFs仲2) 3-、CFs仲2) 4-、或者CFs仲2) 5-、特別優(yōu)選CFs仲2) 5-。
[0化5] 上述式中的Qi為碳原子數(shù)1~6的2價(jià)姪基，作為姪基可例舉直鏈狀或者支 鏈狀的亞烷基、具有酷胺基的亞烷基、具有離基的亞烷基等。其中，從耐候性的方面考 慮，優(yōu)選碳原子數(shù)1~6的直鏈狀的亞烷基團(tuán)-(CH2)t-(此處，t為1~6的整數(shù)），更優(yōu) 選-(og2-、- (C&) 3-、或者-(og4-，特別優(yōu)選-(og廠。
[0化6] 上述式中的Ri為碳原子數(shù)1~6的1價(jià)姪基，作為姪基可例舉直鏈狀或者支鏈狀 的烷基。其中，入手容易性的方面考慮，優(yōu)選碳原子數(shù)1~4的直鏈狀或者支鏈狀烷基，更 優(yōu)選甲基或者己基。在存在多個(gè)的情況下，Ri可W相同，也可W不同，從入手容易性的方面 考慮優(yōu)選相同。
[0057] 上述式中的公為哲基或者水解性基團(tuán)。此處，水解性基團(tuán)只要是可通過Si-Xi的水 解形成Si-OH的基團(tuán)即可，例如可例舉烷氧基、酷氧基、酬目虧基、鏈締氧基、氨基、氨基氧基、 酷胺基、異氯酸醋基、面素原子等。公優(yōu)選哲基、烷氧基（例如碳原子數(shù)1~4的烷氧基）、 異氯酸醋基、或者面素原子（例如，氯原子），更優(yōu)選甲氧基、己氧基、或者氯原子，特別優(yōu)選 甲氧基。在存在多個(gè)的情況下，公可W相同，也可W不同，從入手容易性的方面考慮優(yōu)選相 同。
[0化引上述式中的P為0~2的整數(shù)，從密合性、耐久性的方面考慮，優(yōu)選0或者1，更優(yōu) 選0。
[0059] 作為化合物（1)，例如可例舉W下化合物。式中，l、t、X\Ri的例示化及優(yōu)選形態(tài) 如上所述。
[0060] 式（1-1) ;CF3(CF2)i_r(CH2)t-SiXi3
[0061] 式（1-。；CF3(CF2)i_r(CH2)t-SiRiXi2
[0062] 化合物（1)可W單獨(dú)或2種W上并用。化合物（1)能夠通過通常的制作方法進(jìn)行 制造，或者能夠商業(yè)獲得。
[0063] (A)成分可W是化合物（1)，也可W是化合物（1)的部分水解縮合物，或是它們的 混合物?；旌衔锟蒞是含有未反應(yīng)的化合物（1)的化合物（1)的部分水解縮合物。
[0064] 本說明書中，化合物（1)該樣的水解性硅烷化合物的部分水解縮合物是指在溶劑 中，在酸催化劑或堿催化劑等催化劑和水的存在下，該化合物所具有的水解性基團(tuán)的全部 或者一部分水解，接著通過脫水縮合生成的低聚物（聚合物）。作為酸催化劑，可例舉鹽酸、 硝酸、己酸、硫酸、磯酸、橫酸、甲橫酸、對甲苯橫酸等，作為堿催化劑，可例舉氨氧化鋼、氨氧 化鐘、氨等。另外，通過使用該些催化劑的水溶液，還能夠使水解所必須的水存在于反應(yīng)體 系中。部分水解縮合物的縮合度（聚合度）優(yōu)選調(diào)整為生成物可溶解于溶劑中的程度。
[0065] <炬）數(shù)均分子量2600W上的化合物（2)及/或其部分水解縮合物〉
[0066] 對化合物（2)進(jìn)行說明?；衔铮?)是上述式（2)所表示的、在其一個(gè)末端或者 兩個(gè)末端上具有與娃鍵合的哲基及/或水解性基團(tuán)的化