本發(fā)明屬于玻璃蝕刻，尤其是涉及一種玻璃蝕刻液及玻璃蝕刻方法。

背景技術(shù)：

1、玻璃因其強度高、光學(xué)性能優(yōu)良、長期工作穩(wěn)定性好等優(yōu)點，在日常生活中被廣泛運用，如今，玻璃材料被廣泛應(yīng)用于手機、平板電腦、液晶顯示屏等電子產(chǎn)品中，作為觸摸面板的構(gòu)件、圖像顯示面板保護用的外罩玻璃，使用了玻璃基板。在玻璃的生產(chǎn)過程中，需要對玻璃基板進行蝕刻減薄處理。減薄過程中，需要將玻璃基板浸入含有玻璃蝕刻液的反應(yīng)池內(nèi)進行反應(yīng)，直至玻璃減薄至目標厚度。有的玻璃蝕刻液蝕刻速率快，容易出現(xiàn)蝕刻不均、凹凸點不良率高等問題。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、有鑒于此，本發(fā)明旨在提出一種玻璃蝕刻液及玻璃蝕刻方法，以解決上述問題。

2、為達到上述目的，本發(fā)明的技術(shù)方案是這樣實現(xiàn)的：

3、一種玻璃蝕刻液，包括如下重量份數(shù)的原料：氟化物20-40份、有機酸5-10份、鹽酸15-20份、表面活性劑1-5份、羧甲基纖維素1-3份、多元醇1-5份、三乙醇胺1-1.5份和水80-100份；其中，氟化物為質(zhì)量比為1:1:(0.4-0.7)的氟化鉀、氟化鈉和氟硅酸銨的混合物。

4、進一步，有機酸為質(zhì)量比為1:(1.5-3)的酒石酸和草酸。

5、進一步，表面活性劑為非離子型表面活性劑。

6、進一步，非離子型表面活性劑為脂肪酸山梨坦、聚山梨酯、聚氧乙烯脂肪酸酯中的一種或多種。

7、進一步，多元醇為甘油和/或木糖醇。

8、進一步，多元醇為質(zhì)量比為(2-3)：1的甘油和木糖醇。

9、進一步，鹽酸中的hcl的質(zhì)量百分含量為20～30％。

10、本發(fā)明還提供了一種玻璃蝕刻方法，該方法包括如下步驟：

11、1)將待蝕刻的玻璃依次用清洗劑和純水進行清洗并干燥；

12、2)將玻璃浸入如權(quán)利要求1-7任一項所述的蝕刻液中浸泡，控制蝕刻液的溫度為40-50℃，蝕刻時間為3-6h；

13、3)取出玻璃用清水沖洗,然后放入烘干箱內(nèi)烘干后取出。

14、相對于現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明所述的玻璃蝕刻液及玻璃蝕刻方法具有以下優(yōu)勢：

15、本發(fā)明所述的玻璃蝕刻液的氟化物采用氟化鉀、氟化鈉和氟硅酸銨配合，氟硅酸銨在蝕刻液中水解產(chǎn)生一定的sif62-離子，減緩蝕刻反應(yīng)速度，氟化鉀、氟化鈉主要提供氟離子，氟離子與有機酸和鹽酸的氫離子形成氫氟酸對玻璃進行蝕刻；同時配合羧甲基纖維素、多元醇、三乙醇胺，提高蝕刻的均勻性。

技術(shù)特征：

1.一種玻璃蝕刻液，其特征在于：包括如下重量份數(shù)的原料：氟化物20-40份、有機酸5-10份、鹽酸15-20份、表面活性劑1-5份、羧甲基纖維素1-3份、多元醇1-5份、三乙醇胺1-1.5份和水80-100份；其中，氟化物為質(zhì)量比為1:1:(0.4-0.7)的氟化鉀、氟化鈉和氟硅酸銨的混合物。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的玻璃蝕刻液，其特征在于：有機酸為質(zhì)量比為1:(1.5-3)的酒石酸和草酸。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的玻璃蝕刻液，其特征在于：表面活性劑為非離子型表面活性劑。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的玻璃蝕刻液，其特征在于：非離子型表面活性劑為脂肪酸山梨坦、聚山梨酯、聚氧乙烯脂肪酸酯中的一種或多種。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的玻璃蝕刻液，其特征在于：多元醇為甘油和/或木糖醇。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的玻璃蝕刻液，其特征在于：多元醇為質(zhì)量比為(2-3)：1的甘油和木糖醇。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的玻璃蝕刻液，其特征在于：鹽酸中的hcl的質(zhì)量百分含量為20～30％。

8.一種玻璃蝕刻方法，其特征在于：該方法包括如下步驟：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供了一種玻璃蝕刻液及玻璃蝕刻方法，包括如下重量份數(shù)的原料：氟化物20?40份、有機酸5?10份、鹽酸15?20份、表面活性劑1?5份、羧甲基纖維素1?3份、多元醇1?5份、三乙醇胺1?1.5份和水80?100份；其中，氟化物為質(zhì)量比為1∶1∶(0.4?0.7)的氟化鉀、氟化鈉和氟硅酸銨的混合物。本發(fā)明所述的玻璃蝕刻液的氟化物采用氟化鉀、氟化鈉和氟硅酸銨配合，氟硅酸銨在蝕刻液中水解產(chǎn)生一定的SiF62?離子，減緩蝕刻反應(yīng)速度，氟化鉀、氟化鈉主要提供氟離子，氟離子與有機酸和鹽酸的氫離子形成氫氟酸對玻璃進行蝕刻；同時配合羧甲基纖維素、多元醇、三乙醇胺，提高蝕刻的均勻性。

技術(shù)研發(fā)人員：姚仕軍,張成金,趙帥,曲培杰,袁寧,張楠,樊永順,谷鶴宇,李凱,李燕,王韓玉,紀執(zhí)娜,王揚
受保護的技術(shù)使用者：天津美泰真空技術(shù)有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/1/6