專利名稱：應(yīng)用于等離子體裂解煤過(guò)程的淬冷裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型屬于化工設(shè)備領(lǐng)域，特別涉及一種應(yīng)用于等離子體裂解煤過(guò)程的淬冷
直O(jiān)
背景技術(shù)：
乙炔是一種非常重要的基本有機(jī)化工原料。目前乙炔的生產(chǎn)工藝主要有電石法、 天然氣部分氧化法等。電石法工藝成熟可靠，原料易得，技術(shù)門(mén)檻低。但是電石法存在耗能 高、污染環(huán)境嚴(yán)重等問(wèn)題。天然氣部分氧化法工藝雖然低污染，但技術(shù)復(fù)雜，資源少、投資成 本高。目前國(guó)內(nèi)乙炔生產(chǎn)仍以電石法為主。等離子體裂解煤制乙炔工藝具有流程短、低資 源消耗、環(huán)境友好等優(yōu)點(diǎn)，是煤直接轉(zhuǎn)化的一條有效途徑，具有很好的發(fā)展前景。等離子體裂解煤制乙炔工藝是將煤噴入溫度為3500 22000°C的等離子體中，經(jīng) 毫秒級(jí)反應(yīng)后生成產(chǎn)物乙炔等。而乙炔在高溫下不穩(wěn)定，上述反應(yīng)產(chǎn)物必須在毫秒級(jí)內(nèi)淬 冷至250°C以下，否則將使乙炔等反應(yīng)產(chǎn)物分解，降低其產(chǎn)率。淬冷器是等離子體裂解煤工 藝中的重要設(shè)備，對(duì)淬冷器的要求是快速、均勻、淬冷劑消耗量低。若淬冷劑在淬冷器內(nèi)的 分布不均勻，不僅會(huì)降低淬冷劑的效率，造成淬冷劑的浪費(fèi)；還會(huì)在淬冷器內(nèi)形成局部高溫 區(qū)，使部分裂解氣不能有效地淬冷，降低乙炔的收率。為了使淬冷劑與裂解氣充分接觸，提 高淬冷效率，必須使淬冷劑霧化。對(duì)于等離子體裂解煤制乙炔工藝，進(jìn)入淬冷器內(nèi)裂解氣的 流速高達(dá)100-300m/s，遠(yuǎn)大于淬冷劑液滴噴入速度，霧化后的淬冷劑液滴所能穿過(guò)裂解氣 的距離非常短，難以噴入裂解氣中心區(qū)域，使部分乙炔在高溫下分解，收率降低。而且隨著 裝置規(guī)模的增大，這個(gè)問(wèn)題越來(lái)越嚴(yán)重。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的是克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種應(yīng)用于等離子體裂解煤過(guò)程 的淬冷裝置。應(yīng)用于等離子體裂解煤過(guò)程的淬冷裝置包括裂解氣入口、淬冷器本體、淬冷器內(nèi) 芯、淬冷裝置筒體、淬冷器內(nèi)芯支柱、淬冷器內(nèi)芯霧化裝置、淬冷器本體霧化裝置、裂解氣出 口、本體淬冷劑入口管、內(nèi)芯淬冷劑入口管、第一淬冷劑通道、第二淬冷劑通道、環(huán)隙、支柱 內(nèi)管、空腔；淬冷裝置筒體上端設(shè)有淬冷器本體，淬冷裝置筒體內(nèi)設(shè)有淬冷器內(nèi)芯支柱，淬 冷器內(nèi)芯支柱內(nèi)設(shè)有環(huán)隙，淬冷器內(nèi)芯支柱下端對(duì)稱設(shè)有兩根內(nèi)芯淬冷劑入口管，并與環(huán) 隙相通，淬冷器內(nèi)芯支柱上端設(shè)有淬冷器內(nèi)芯，淬冷器內(nèi)芯為錐體，淬冷器內(nèi)芯頂端及錐面 上設(shè)有淬冷器內(nèi)芯霧化裝置，淬冷器內(nèi)芯內(nèi)設(shè)有第二淬冷劑通道，并與淬冷劑通道相通，淬 冷器本體包括裂解氣入口、淬冷器本體霧化裝置、本體淬冷劑入口管、第一淬冷劑通道，淬 冷器本體上端設(shè)有裂解氣入口，淬冷器本體內(nèi)壁為錐形，并與淬冷器內(nèi)芯之間形成一環(huán)形 通道，淬冷器本體內(nèi)壁設(shè)有霧化裝置，淬冷器本體內(nèi)設(shè)有第一淬冷劑通道，并與霧化裝置相 通，淬冷器本體外壁對(duì)稱設(shè)有兩根本體淬冷劑入口管，并與第一淬冷劑通道相通。所述的淬冷器本體還包括淬冷氣進(jìn)口管和淬冷氣通道，在淬冷劑通道外側(cè)設(shè)有淬冷氣通道，淬冷器本體外壁對(duì)稱設(shè)有兩根淬冷氣進(jìn)口管，淬冷氣通道與淬冷氣進(jìn)口管相連； 所述的空腔與淬冷器內(nèi)芯霧化裝置相通。所述的淬冷器內(nèi)芯霧化裝置、淬冷器本體霧化裝置為單介質(zhì)霧化噴嘴、雙介質(zhì)霧 化噴嘴或集成式霧化裝置。所述的集成式霧化裝置包括霧化裝置外壁、霧化裝置內(nèi)壁、導(dǎo)氣管、環(huán)隙、狹縫、收 縮段、混合部、擴(kuò)張孔；導(dǎo)氣管一端安裝在霧化裝置外壁上，并與淬冷氣體通道連通，導(dǎo)氣管 另一端伸入霧化裝置內(nèi)壁的開(kāi)孔中，并與霧化裝置內(nèi)壁形成環(huán)隙、狹縫及混合部，導(dǎo)氣管前 端具有收縮段，霧化裝置內(nèi)壁前端開(kāi)有擴(kuò)張孔，本體淬冷劑通道與環(huán)隙相連。所述的噴嘴或集成式霧化裝置為一層或多層布置，每層布置2個(gè)以上噴嘴或集成 式霧化裝置噴射孔。所述的淬冷器本體錐形內(nèi)壁的底角α為30-80度。所述的淬冷器內(nèi)芯的錐體底角β為30-80度。所述淬冷器內(nèi)芯霧化裝置淬冷劑出口中心軸與淬冷器內(nèi)芯的錐體夾角Y為 40-120 度。所述所述淬冷器本體霧化裝置的淬冷劑出口中心軸與淬冷器本體錐形內(nèi)壁夾角 θ 為 25-90 度。本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有的有益效果1、對(duì)于等離子體裂解煤制乙炔工藝，進(jìn)入淬冷器內(nèi)裂解氣的流速高達(dá)100_300m/ s，遠(yuǎn)大于淬冷劑液滴噴入速度，霧化后的淬冷劑液滴所能穿過(guò)裂解氣的距離非常短，難以 到達(dá)裂解氣中心區(qū)域，使部分乙炔在高溫下分解，收率降低。而且隨著裝置規(guī)模的增大，該 問(wèn)題越來(lái)越嚴(yán)重。本實(shí)用新型為環(huán)隙式結(jié)構(gòu)，淬冷劑分別從安裝在淬冷器本體及內(nèi)芯上的 霧化裝置噴入，較好地解決了這一問(wèn)題，提高了乙炔的收率。2、較好地解決了淬冷器的放大的問(wèn)題。本實(shí)用新型采用環(huán)隙式設(shè)計(jì)，當(dāng)裝置的處 理量增大時(shí)，可保持淬冷器本體與內(nèi)芯之間環(huán)形通道的寬度不變，通過(guò)相應(yīng)地增大環(huán)形的 內(nèi)外徑，增大淬冷器的流通面積。這樣淬冷劑液滴仍可貫穿裂解氣，與裂解氣充分地接觸， 提高淬冷效率，放大效應(yīng)較小。3、在淬冷器內(nèi)芯頂部裝有淬冷劑霧化裝置，該裝置不僅起到淬冷裂解氣的作用， 而且淬冷劑被裂解氣沖到淬冷器內(nèi)芯上，沿著器壁向下流，可以防止淬冷器內(nèi)芯被燒壞。4、淬冷劑流經(jīng)淬冷器本體、淬冷器內(nèi)芯及內(nèi)芯支柱內(nèi)的淬冷劑通道，可移走淬冷 器的熱量，起到降低淬冷器溫度的作用，防止淬冷器因溫度過(guò)高而燒壞。5、該發(fā)明既適用于單介質(zhì)淬冷，也適用于雙介質(zhì)淬冷。

圖1是本實(shí)用新型采用單介質(zhì)噴嘴時(shí)的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是本實(shí)用新型采用雙介質(zhì)噴嘴時(shí)的結(jié)構(gòu)示意圖圖3是本實(shí)用新型淬冷器本體采用集成式霧化裝置時(shí)的結(jié)構(gòu)示意圖圖4是集成式霧化裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。圖中，裂解氣入口 1、淬冷器本體2、淬冷器內(nèi)芯3、淬冷裝置筒體4、淬冷器內(nèi)芯支 柱5、淬冷器內(nèi)芯霧化裝置6、淬冷器本體霧化裝置7、裂解氣出口 8、淬冷劑入口管9和10、淬冷劑通道11和12、環(huán)隙13、淬冷氣進(jìn)口管14、支柱內(nèi)管15、淬冷氣通道16、空腔17、霧化 裝置外壁18、霧化裝置內(nèi)壁19、導(dǎo)氣管20、環(huán)隙21、狹縫22、收縮段23、混合部24、擴(kuò)張孔 25。
具體實(shí)施方式
如圖1 3所示，應(yīng)用于等離子體裂解煤過(guò)程的淬冷裝置包括裂解氣入口 1、淬冷 器本體2、淬冷器內(nèi)芯3、淬冷裝置筒體4、淬冷器內(nèi)芯支柱5、淬冷器內(nèi)芯霧化裝置6、淬冷 器本體霧化裝置7、裂解氣出口 8、淬冷劑入口管9和10、淬冷劑通道11和12、環(huán)隙13、支 柱內(nèi)管15、空腔17 ；淬冷裝置筒體4上端設(shè)有淬冷器本體2，淬冷裝置筒體4內(nèi)設(shè)有淬冷器 內(nèi)芯支柱5，淬冷器內(nèi)芯支柱5內(nèi)設(shè)有環(huán)隙13，淬冷器內(nèi)芯支柱5下端對(duì)稱設(shè)有兩根淬冷劑 入口管10，并與環(huán)隙13相通，淬冷器內(nèi)芯支柱5上端設(shè)有淬冷器內(nèi)芯3，淬冷器內(nèi)芯3為錐 體，淬冷器內(nèi)芯3頂端及錐面上設(shè)有淬冷器內(nèi)芯霧化裝置6，淬冷器內(nèi)芯3內(nèi)設(shè)有淬冷劑通 道12，并與淬冷劑通道13相通，淬冷器本體2包括裂解氣入口 1、淬冷器本體霧化裝置7、淬 冷劑入口管9、淬冷劑通道11，淬冷器本體2上端設(shè)有裂解氣入口 1，淬冷器本體2內(nèi)壁為錐 形，并與淬冷器內(nèi)芯3之間形成一環(huán)形通道，淬冷器本體2內(nèi)壁設(shè)有霧化裝置7，淬冷器本體 2內(nèi)設(shè)有淬冷劑通道11，并與霧化裝置7相通，淬冷器本體2外壁對(duì)稱設(shè)有兩根淬冷劑入口 管9，并與淬冷劑通道11相通。淬冷器本體2錐形內(nèi)壁的底角α為30-80度。淬冷器內(nèi)芯 3的錐體底角β為30-80度。淬冷器內(nèi)芯霧化裝置6的淬冷劑出口中心軸與淬冷器內(nèi)芯3 的錐體夾角Y為40-120度。淬冷器本體霧化裝置7的淬冷劑出口中心軸與淬冷器本體2 錐形內(nèi)壁夾角θ為25-90度。所述的淬冷器內(nèi)芯霧化裝置6、淬冷器本體霧化裝置7為單 介質(zhì)霧化噴嘴、雙介質(zhì)霧化噴嘴或集成式霧化裝置。當(dāng)采用雙介質(zhì)噴嘴或集成式霧化裝置時(shí)所述的淬冷器本體2還包括淬冷氣進(jìn)口 管14和淬冷氣通道16，在淬冷劑通道11外側(cè)設(shè)有淬冷氣通道16，淬冷器本體2外壁對(duì)稱 設(shè)有兩根淬冷氣進(jìn)口管14，淬冷氣通道16與淬冷氣進(jìn)口管14相連；所述的空腔17與淬冷 器內(nèi)芯霧化裝置6相通。所述的噴嘴或集成式霧化裝置為一層或多層布置，每層布置2個(gè) 以上噴嘴或集成式霧化裝置噴射孔。如圖4所示，所述的集成式霧化裝置包括霧化裝置外壁18、霧化裝置內(nèi)壁19、導(dǎo)氣 管20、環(huán)隙21、狹縫22、收縮段23、混合部24、擴(kuò)張孔25 ；導(dǎo)氣管20 —端安裝在霧化裝置外 壁18上，并與淬冷氣體通道16連通，導(dǎo)氣管20另一端伸入霧化裝置內(nèi)壁19的開(kāi)孔中，并 與霧化裝置內(nèi)壁19形成環(huán)隙21、狹縫22及混合部24，導(dǎo)氣管20前端具有收縮段23，霧化 裝置內(nèi)壁19前端開(kāi)有擴(kuò)張孔25，淬冷劑通道11與環(huán)隙21相連。本實(shí)用新型的工作過(guò)程如下 當(dāng)本實(shí)用新型采用雙介質(zhì)噴嘴時(shí)等離子體裂解煤生成的裂解氣的溫度高于 15000C，從裂解氣入口 1進(jìn)入淬冷裝置。淬冷劑分為兩路，一路由淬冷劑入口管9進(jìn)入淬冷 器本體2內(nèi)，經(jīng)通道11進(jìn)入噴嘴，霧化后噴入裂解氣中；另一路由由淬冷劑入口管10進(jìn)入 淬冷器內(nèi)芯支柱內(nèi)的環(huán)隙13中，經(jīng)淬冷器內(nèi)芯中的通道12進(jìn)入噴嘴，霧化后噴入裂解氣 中；淬冷劑入口管9和10分別為對(duì)稱的兩根，可以使淬冷劑較均勻地進(jìn)入各個(gè)噴嘴。淬冷 劑與裂解氣充分接觸，毫秒級(jí)內(nèi)將裂解氣從1500°C以上淬冷到250°C以下，淬冷后的裂解 氣及未汽化的淬冷劑從出口 8排出。[0030]當(dāng)本實(shí)用新型采用雙介質(zhì)噴嘴時(shí)等離子體裂解煤生成的裂解氣的溫度高于 15000C，從裂解氣入口 1進(jìn)入淬冷裝置。淬冷劑分為兩路，一路由淬冷劑入口管9進(jìn)入淬冷 器本體2內(nèi)，經(jīng)通道11進(jìn)入噴嘴；一路由由淬冷劑入口管10進(jìn)入淬冷器內(nèi)芯支柱內(nèi)的環(huán)隙 13中，經(jīng)淬冷器內(nèi)芯中的通道12進(jìn)入噴嘴。淬冷氣分為兩路，一路由淬冷氣進(jìn)口管14經(jīng) 淬冷器本體內(nèi)的淬冷氣通道16進(jìn)入雙介質(zhì)噴嘴，與淬冷劑一起噴入裂解氣中；一路由支柱 5中內(nèi)管15經(jīng)空腔17進(jìn)入安裝在淬冷器內(nèi)芯雙介質(zhì)噴嘴中，與淬冷劑一起噴入裂解氣中， 毫秒級(jí)內(nèi)將裂解氣從1500°C以上淬冷到250°C以下，淬冷后的裂解氣從出口 8排出。采用 雙介質(zhì)霧化噴嘴，淬冷劑霧化效果好，可以更有效的與裂解氣充分接觸，提高淬冷速率，降 低乙炔的分解損失。同時(shí)由于淬冷劑高度霧化，可以控制使其完全蒸發(fā)，便于通過(guò)調(diào)節(jié)淬冷 劑流量控制淬冷后裂解氣的溫度。 集成式霧化裝置的霧化原理類似于雙介質(zhì)噴嘴，其工作過(guò)程為淬冷劑由淬冷劑 入口管9進(jìn)入淬冷器本體2內(nèi)的通道11中，經(jīng)集成式霧化裝置內(nèi)壁19與導(dǎo)氣管20之間的 環(huán)隙21、狹縫22進(jìn)入混合部24 ；淬冷氣由淬冷氣進(jìn)氣管14進(jìn)入淬冷器本體2中，經(jīng)淬冷氣 通道16進(jìn)入導(dǎo)氣管20中，經(jīng)過(guò)收縮段23，被加速后進(jìn)入混合部24，與淬冷劑混合，經(jīng)擴(kuò)張 段25噴入裂解氣中，形成霧化。高度霧化的淬冷劑與裂解氣充分接觸，在毫秒級(jí)內(nèi)將裂解 氣從1500°C以上淬冷到250°C以下，淬冷后的裂解氣從出口 8排出。采用集成式霧化裝置， 不僅可以使淬冷劑高度地霧化，還可以在相同大小的淬冷器內(nèi)布置更多的淬冷劑噴出口， 這樣淬冷劑在淬冷器內(nèi)的分布更均勻，與裂解氣的接觸更充分，淬冷效果更好，從而可以提 高乙炔的收率。等離子體裂解煤過(guò)程中，進(jìn)入淬冷器內(nèi)裂解氣的流速高達(dá)100-300m/s，遠(yuǎn)大于霧 化后的淬冷劑液滴的噴入速度，淬冷劑所能穿過(guò)裂解氣的距離非常短，大部分在淬冷器邊 上就隨裂解氣流出淬冷段，無(wú)法到達(dá)裂解氣中心區(qū)域，致使一部分裂解氣未得到有效地淬 冷，乙炔收率降低。而且隨著裝置規(guī)模的增大，該問(wèn)題越來(lái)越嚴(yán)重。本實(shí)用新型為環(huán)隙式結(jié) 構(gòu)，淬冷器本體2的內(nèi)壁與淬冷器內(nèi)芯3均為錐形，構(gòu)成一環(huán)形通道，且內(nèi)芯3頂端密封，裂 解氣只能從該環(huán)形通道流過(guò)，淬冷劑分別從安裝在淬冷器本體2與淬冷器內(nèi)芯3上的霧化 裝置噴入，較好地解決了這一問(wèn)題，提高了乙炔的收率。當(dāng)裝置的處理量增大時(shí)，可保持環(huán) 形通道的寬度不變，通過(guò)相應(yīng)地增大環(huán)形的內(nèi)外徑，增大淬冷器的流通面積。這樣淬冷劑 液滴仍可貫穿裂解氣，與裂解氣充分地接觸，提高淬冷效率，因此本實(shí)用新型的放大效應(yīng)較 小。
權(quán)利要求一種應(yīng)用于等離子體裂解煤過(guò)程的淬冷裝置，其特征在于包括裂解氣入口(1)、淬冷器本體(2)、淬冷器內(nèi)芯(3)、淬冷裝置筒體(4)、淬冷器內(nèi)芯支柱(5)、淬冷器內(nèi)芯霧化裝置(6)、淬冷器本體霧化裝置(7)、裂解氣出口(8)、本體淬冷劑入口管(9)、內(nèi)芯淬冷劑入口管(10)、第一淬冷劑通道(11)、第二淬冷劑通道(12)、環(huán)隙(13)、支柱內(nèi)管(15)、空腔(17)；淬冷裝置筒體(4)上端設(shè)有淬冷器本體(2)，淬冷裝置筒體(4)內(nèi)設(shè)有淬冷器內(nèi)芯支柱(5)，淬冷器內(nèi)芯支柱(5)內(nèi)設(shè)有環(huán)隙(13)，淬冷器內(nèi)芯支柱(5)下端對(duì)稱設(shè)有兩根內(nèi)芯淬冷劑入口管(10)，并與環(huán)隙(13)相通，淬冷器內(nèi)芯支柱(5)上端設(shè)有淬冷器內(nèi)芯(3)，淬冷器內(nèi)芯(3)為錐體，淬冷器內(nèi)芯(3)頂端及錐面上設(shè)有淬冷器內(nèi)芯霧化裝置(6)，淬冷器內(nèi)芯(3)內(nèi)設(shè)有第二淬冷劑通道(12)，并與環(huán)隙(13)相通，淬冷器本體(2)包括裂解氣入口(1)、淬冷器本體霧化裝置(7)、本體淬冷劑入口管(9)、第一淬冷劑通道(11)，淬冷器本體(2)上端設(shè)有裂解氣入口(1)，淬冷器本體(2)內(nèi)壁為錐形，并與淬冷器內(nèi)芯(3)之間形成一環(huán)形通道，淬冷器本體(2)內(nèi)壁設(shè)有霧化裝置(7)，淬冷器本體(2)內(nèi)設(shè)有第一淬冷劑通道(11)，并與霧化裝置(7)相通，淬冷器本體(2)外壁對(duì)稱設(shè)有兩根本體淬冷劑入口管(9)，并與第一淬冷劑通道(11)相通。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種應(yīng)用于等離子體裂解煤過(guò)程的淬冷裝置，其特征在于 所述的淬冷器本體(2)還包括淬冷氣進(jìn)口管(14)和淬冷氣通道(16)，在第一淬冷劑通道 (11)外側(cè)設(shè)有淬冷氣通道(16)，淬冷器本體(2)外壁對(duì)稱設(shè)有兩根淬冷氣進(jìn)口管(14)，淬 冷氣通道(16)與淬冷氣進(jìn)口管(14)相連；所述的空腔(17)與淬冷器內(nèi)芯霧化裝置(6)相ο
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種應(yīng)用于等離子體裂解煤過(guò)程的淬冷裝置，其特征在于所 述的淬冷器內(nèi)芯霧化裝置(6)、淬冷器本體霧化裝置(7)為單介質(zhì)霧化噴嘴、雙介質(zhì)霧化噴 嘴或集成式霧化裝置。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述一種應(yīng)用于等離子體裂解煤過(guò)程的淬冷裝置，其特征在于所述 的集成式霧化裝置包括霧化裝置外壁(18)、霧化裝置內(nèi)壁(19)、導(dǎo)氣管(20)、環(huán)隙(21)、 狹縫(22)、收縮段(23)、混合部(24)、擴(kuò)張孔(25)；導(dǎo)氣管(20) —端安裝在霧化裝置外壁(18)上，并與淬冷氣體通道(16)連通，導(dǎo)氣管(20)另一端伸入霧化裝置內(nèi)壁(19)的開(kāi)孔 中，并與霧化裝置內(nèi)壁(19)形成環(huán)隙(21)、狹縫(22)及混合部(24)，導(dǎo)氣管(20)前端具有 收縮段(23)，霧化裝置內(nèi)壁(19)前端開(kāi)有擴(kuò)張孔(25)，第一淬冷劑通道(11)與環(huán)隙(21) 相連。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種應(yīng)用于等離子體裂解煤過(guò)程的淬冷裝置，其特征在于所 述的噴嘴或集成式霧化裝置為一層或多層布置，每層布置2個(gè)以上噴嘴或集成式霧化裝置 噴射孔。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種應(yīng)用于等離子體裂解煤過(guò)程的淬冷裝置，其特征在于所 述的淬冷器本體(2)錐形內(nèi)壁的底角α為30-80度。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種應(yīng)用于等離子體裂解煤過(guò)程的淬冷裝置，其特征在于所 述的淬冷器內(nèi)芯(3)的錐體底角β為30-80度。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種應(yīng)用于等離子體裂解煤過(guò)程的淬冷裝置，其特征在于所 述淬冷器內(nèi)芯霧化裝置(6)淬冷劑出口中心軸與淬冷器內(nèi)芯(3)的錐體夾角Y為40-120 度。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種應(yīng)用于等離子體裂解煤過(guò)程的淬冷裝置，其特征在于所 述所述淬冷器本體霧化裝置(7)淬冷劑出口中心軸與淬冷器本體(2)錐形內(nèi)壁夾角θ為 25-90 度。
專利摘要本實(shí)用新型公開(kāi)了一種等離子體裂解煤過(guò)程的淬冷裝置。它包括裂解氣入口，淬冷器本體，淬冷器內(nèi)芯，淬冷器內(nèi)芯支柱，淬冷裝置筒體，淬冷器內(nèi)芯霧化裝置，淬冷器本體霧化裝置，裂解氣出口，淬冷劑入口管，淬冷劑通道，淬冷氣進(jìn)口管，淬冷氣通道。該淬冷裝置為環(huán)隙式，淬冷器本體的內(nèi)壁與淬冷器內(nèi)芯均為錐形，構(gòu)成一環(huán)形通道，且內(nèi)芯頂端密封，裂解氣只能從該環(huán)形通道流過(guò)；分別在淬冷器內(nèi)芯與淬冷器本體上安裝淬冷劑霧化裝置，霧化裝置可以采用單介質(zhì)噴嘴、雙介質(zhì)噴嘴或集成式霧化裝置。本實(shí)用新型較好地解決了等離子體裂解煤淬冷過(guò)程中淬冷劑無(wú)法到達(dá)裂解氣中心區(qū)域所導(dǎo)致的乙炔收率降低的問(wèn)題，且放大效應(yīng)較小。
文檔編號(hào)C07C7/00GK201704232SQ20102018734
公開(kāi)日2011年1月12日 申請(qǐng)日期2010年5月11日 優(yōu)先權(quán)日2010年5月11日
發(fā)明者任其龍, 何潮洪, 吳忠標(biāo), 王鵬, 榮剛, 鄧國(guó)安, 陳豐秋, 陳新志 申請(qǐng)人:浙江大學(xué)