一種可鋼化三銀low-e玻璃及制備方法
【專利說(shuō)明】
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種鍍膜玻璃，更具體地說(shuō)是一種可鋼化三銀LOW-E玻璃，本發(fā)明還涉及一種玻璃的制備方法。
【【背景技術(shù)】】
[0002]玻璃是在當(dāng)代的生產(chǎn)和生活中扮演著重要角色，鍍膜玻璃廣泛應(yīng)用，但是現(xiàn)有的鍍膜玻璃膜層容易劃傷，抗熱性能差，光透過(guò)率低，反射率高，遮陽(yáng)系數(shù)高，鋼化后顏色偏差大。
【
【發(fā)明內(nèi)容】
】
[0003]本發(fā)明目的是克服了現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種膜層抗機(jī)械劃傷能力強(qiáng)及耐熱性能好，透過(guò)率高，反射率低，遮陽(yáng)系數(shù)小，鋼化后顏色偏差小的可鋼化三銀LOW-E玻璃。本發(fā)明還提供一種可鋼化三銀LOW-E玻璃的制備方法。
[0004]本發(fā)明是通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:
[0005]一種可鋼化三銀LOW-E玻璃，包括有玻璃基片1，在所述的玻璃基片I的復(fù)合面上由內(nèi)到外依次相鄰地復(fù)合有二十個(gè)膜層，其特征在于:其中第一膜層即最內(nèi)層為SiNJl21，第二膜層為T1Jl 22，第三膜層為ZnO層23，第四膜層為NiCr層24，第五膜層為Ag層25，第六層膜為NiCr層26，第七膜層為T1jl 27，第八膜層為ZnO 2層28，第九膜層為NiCr層29，第十膜層為Ag層210，第^^一膜層為NiCr層211，第十二膜層為T1jl 212，第十三膜層為2]102層213，第十四膜層為NiCr層214，第十五層為Ag層215，第十六層為NiCr層216，第十七層為T1Jl 217，第十八層為ZnO層218，第十九層為SiN Jl 219，第二十層即最外層為SiC層220。
[0006]一種制備可鋼化三銀LOW-E玻璃的方法，其特征在于包括如下步驟:
[0007](I)磁控濺射SiNjl，用交流中頻電源、氮?dú)庾鞣磻?yīng)氣體濺射半導(dǎo)體材料，使用純度為99.9%的Si靶作濺射；
[0008](2)磁控濺射T1Jl，用中頻交流電源、氬氣作主反應(yīng)氣體的濺射半導(dǎo)體材料陶瓷Ti革巴；
[0009](3)磁控濺射ZnO層，用中頻交流電源濺射陶瓷Zn靶；
[0010](4)磁控濺射NiCr層，用直流電源、氬氣作主反應(yīng)氣體的金屬濺射；
[0011](5)磁控濺射Ag層，用直流電源、氬氣作主反應(yīng)氣體的金屬濺射；
[0012](6)磁控濺射NiCr層，用直流電源、氬氣作主反應(yīng)氣體的金屬濺射；
[0013](7)磁控濺射T1Jl，用中頻交流電源、氬氣作主反應(yīng)氣體的濺射半導(dǎo)體材料陶瓷Ti革巴；
[0014](8)磁控濺射ZnOjl，用中頻交流電源濺射，氧氣作主反應(yīng)氣體的氬氣作輔助反應(yīng)濺射；
[0015](9)磁控濺射NiCr層，用直流電源、氬氣作主反應(yīng)氣體的金屬濺射；
[0016](10)磁控濺射Ag層，用直流電源、氬氣作主反應(yīng)氣體的金屬濺射；
[0017](11)磁控濺射NiCr層，用直流電源、氬氣作主反應(yīng)氣體的金屬濺射；
[0018](12)磁控濺射T1Jl，用中頻交流電源、氬氣作主反應(yīng)氣體的濺射半導(dǎo)體材料陶瓷Ti靶；
[0019](13)磁控濺射ZnOJl，用中頻交流電源濺射，氧氣作主反應(yīng)氣體的氬氣作輔助反應(yīng)濺射；
[0020](14)磁控濺射NiCr層，用直流電源、氬氣作主反應(yīng)氣體的金屬濺射；
[0021](15)磁控濺射Ag層，用直流電源、氬氣作主反應(yīng)氣體的金屬濺射；
[0022](16)磁控濺射NiCr層，用直流電源、氬氣作主反應(yīng)氣體的金屬濺射；
[0023](17)磁控濺射T1Jl，用中頻交流電源、氬氣作主反應(yīng)氣體的濺射；
[0024](18)磁控濺射ZnO層，用中頻交流電源濺射，氧氣作主反應(yīng)氣體的氬氣作輔助反應(yīng)濺射；
[0025](19)磁控濺射SiNjl，用中頻交流電源、氮?dú)庾髦鞣磻?yīng)氣體濺射半導(dǎo)體材料，使用純度為99.9%的Si靶作濺射；
[0026](20)磁控濺射SiC層，用中頻交流電源，氬氣作主反應(yīng)氣體濺射半導(dǎo)體陶瓷SiC靶。
[0027]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明有如下優(yōu)點(diǎn):
[0028]1、本玻璃使用SiC作頂膜進(jìn)一步提高鍍膜層的抗機(jī)械劃傷能力及耐熱性能，與SiNJ莫組合使用使膜層的硬度進(jìn)一步提高，降低了加工的難度，更方便加工，SiC與SiN ,光學(xué)性能接近。
[0029]2、本玻璃利用SiNx作基膜，提高膜層的硬度，可防止納離子的注入破壞銀層，使整個(gè)膜層在高溫下耐熱性更好，機(jī)械性更好，具有可見(jiàn)光高透過(guò)及對(duì)中遠(yuǎn)紅外線高反射的特性。
[0030]3、本玻璃鋼化后透光率T(透過(guò)透明或半透明體的光通量與其入射光通量的百分率)彡65%，輻射率< 0.03，反射率< 15，遮陽(yáng)系數(shù)SCS 0.4。本玻璃輻射率< 0.03，輻射率是某物體的單位面積輻射的熱量同單位面積黑體在相同溫度、相同條件下輻射熱量之比。輻射率定義是某物體吸收或反射熱量的能力。玻璃的輻射率越接近于零，其絕熱性能就越好。
[0031 ] 4、本玻璃鋼可合成中空使用，可滿足異地鋼化、中空加工使用。
[0032]5、本玻璃鋼化后顏色偏差較小，a* = -3.5?_4，b* = -4.5?-5.5。
【【附圖說(shuō)明】】
[0033]圖1是本發(fā)明結(jié)構(gòu)示意圖。
【【具體實(shí)施方式】】
[0034]—種可鋼化三銀LOW-E玻璃，包括有玻璃基片1，在所述的玻璃基片I的復(fù)合面上由內(nèi)到外依次相鄰地復(fù)合有二十個(gè)膜層，其中第一膜層即最內(nèi)層為SiNJl 21，第二膜層為T1Jl 22，第三膜層為ZnO層23，第四膜層為NiCr層24，第五膜層為Ag層25，第六層膜為NiCr層26，第七膜層為T1Jl 27，第八膜層為ZnO 2層28，第九膜層為NiCr層29，第十膜層為Ag層210，第^^一膜層為NiCr層211，第十二膜層為T1jl 212，第十三膜層為ZnO 2層213，第十四膜層為NiCr層214，第十五層為Ag層215，第十六層為NiCr層216，第十七層為T1jl 217，第十八層為ZnO層218，第十九層為SiNjl 219，第二十層即最外層為SiC層 220。
[0035]所述最內(nèi)層SiNJl 21，即氮化硅層；SiNx是一種非常堅(jiān)硬的材料，利用SiNx作基膜，提高膜層的硬度，可防止納離子的注入破壞銀層，使整個(gè)膜層在高溫下耐熱性更好，機(jī)械性更好，具有可見(jiàn)光高透過(guò)及對(duì)中遠(yuǎn)紅外線高反射的特性。SiNJl 21的厚度為15?25nm，優(yōu)選20nm，nm是納米，Im = 109nm。第十九膜層SiNjl^ 219的厚度為20?35nm，優(yōu)選 28nm。
[0036]所述的第二層1102層22，即鈦的氧化物——二氧化鈦。采用高折射率η = 2.5的T12是為了提高玻璃的透光率，降低銀層的面電阻，減少銀的消耗，又可以減少LOW-E熱處理后產(chǎn)生光散射，而且玻璃呈中性顏色，1102膜表面非常光滑，因而改善了銀膜的導(dǎo)電率。所述第二膜層的T1Jl 22的厚度為20?35nm，優(yōu)選28nm。第七層膜層T1jl 27的厚度為15?35nm，第十二膜層T1jl 212的厚度為15?30nm，第十七膜層T1 2層217的厚度為 25 ?35nm。
[0037]所述第三層ZnO層23，即氧化鋅層，是減反射的金屬氧化物層，同時(shí)進(jìn)一步提高膜層的可見(jiàn)光透過(guò)率和隔熱性。氧化鋅ZnO可用作介質(zhì)層，降低玻璃的溫度是對(duì)銀層的損害，作為鍍膜玻璃介質(zhì)層，不但保護(hù)了銀層，也提高了可見(jiàn)光通過(guò)的同時(shí)對(duì)紅外線有高的反射，以達(dá)到保溫及隔熱的效果。ZnO層具有增透作用。所述第三膜層的ZnO層23的厚度為5?15nm，第十八層ZnO層218的厚度為10?20nm。
[0038]所述第四膜層NiCr層24，即鎳鉻金屬層，作為Ag層的保護(hù)層及平整層，提高耐氧化性能防止Ag層的氧化。所述第四膜層NiCr層24、第六膜層NiCr層26、第九膜層NiCr層29、第^^一膜層NiCr層211、第十四膜層NiCr層214、第十六層NiCr層216的厚度均為2?5nm。優(yōu)選為3nm。
[0039]所述第五層Ag層24，即金屬銀層，功能層，金屬銀提供了較低的輻射率，起環(huán)保節(jié)能的作用。所述第五膜層Ag層25、第十膜層Ag層210、第十五膜層Ag層215的厚度均為5 ?1nm0
[0040]所述第八膜層ZnOJl 28，即氧化鋅層，是減反射的金屬氧化物層，同時(shí)進(jìn)一步提高膜層的可見(jiàn)光透過(guò)率和隔熱性。氧化鋅ZnO可用作介質(zhì)層，降低玻璃的溫度是對(duì)銀層的損害，作為鍍膜玻璃介質(zhì)層，不但保護(hù)了銀層，也提高了可見(jiàn)光通過(guò)的同時(shí)對(duì)紅外線有高的反射，以達(dá)到保溫或隔熱的效果。所述第八膜層ZnOJl 28、第十三膜層ZnOJl 213的厚度均為5?15nm。
[0041]所述最外