浮法玻璃制造裝置及浮法玻璃制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及浮法玻璃制造裝置及浮法玻璃制造方法。
【背景技術(shù)】
[0002]浮法玻璃制造裝置具有用于容納熔融金屬的浴槽，向浴槽內(nèi)的熔融金屬上連續(xù)地供給熔融玻璃，使熔融玻璃在熔融金屬上成形為板狀的玻璃帶(例如參照專(zhuān)利文獻(xiàn)I)。玻璃帶在熔融金屬的液面上流動(dòng)的同時(shí)逐漸變硬。玻璃帶在浴槽的下游區(qū)域自熔融金屬上被拉起，并被送往退火爐。玻璃帶在兩側(cè)緣部之間具有平坦部。由于玻璃帶的兩側(cè)緣部相比于玻璃帶的平坦部較厚，因此，在退火后被切除。由此，能夠獲得板厚大致均勻的浮法玻璃。
[0003]在浴槽的靠上游側(cè)的端部設(shè)有用于向浴槽內(nèi)的熔融金屬上供給熔融玻璃的供給部。由供給部供給到熔融金屬上的熔融玻璃形成朝向上游逆流的回流、和朝向下游的前流?；亓骼帽炒u及一對(duì)側(cè)磚改變朝向，且在前流的兩側(cè)合流。
[0004]背磚用于阻止自供給部供給熔融玻璃的供給位置朝向上游逆流的熔融玻璃的流動(dòng)。一對(duì)側(cè)磚用于擴(kuò)大自背磚朝向下游的熔融玻璃的寬度。在供給部與背磚之間設(shè)有加熱器，加熱器用于加熱背磚。由此，能夠改善背磚附近的熔融玻璃的流動(dòng)性。
_5] 現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0006]專(zhuān)利f獻(xiàn)
[0007]專(zhuān)利文獻(xiàn)1:日本特開(kāi)2007 - 131525號(hào)公報(bào)
[0008]以往以來(lái)，在供給部的下方存在氣體的淤積，從而存在因滯留的氣體導(dǎo)致加熱器持續(xù)劣化的問(wèn)題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0009]發(fā)明要解決的問(wèn)題
[0010]本發(fā)明即是鑒于上述課題而做成的，其目的主要在于提供一種能夠降低加熱器的更換頻率的浮法玻璃制造裝置。
_1] 用于解決問(wèn)題的方案
[0012]為了解決上述課題，根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施方式，提供一種浮法玻璃制造裝置，其包括:
[0013]浴槽，其用于容納熔融金屬；
[0014]供給部，其設(shè)于上述浴槽的靠上游側(cè)的端部，用于向上述浴槽內(nèi)的熔融金屬上供給熔融玻璃；
[0015]背磚，其用于阻止自上述供給部供給上述熔融玻璃的供給位置朝向上游逆流的熔融玻璃的流動(dòng)；
[0016]一對(duì)側(cè)磚，其用于擴(kuò)大自上述背磚朝向下游流動(dòng)的熔融玻璃的寬度；
[0017]加熱器，其配設(shè)于上述供給部與上述背磚之間；以及
[0018]一對(duì)側(cè)塊，其在上述供給部的下游側(cè)與上述供給部相鄰地設(shè)置，且載置于上述一對(duì)側(cè)磚上，其中，
[0019]上述加熱器具有發(fā)熱部、和以隔著該發(fā)熱部的方式設(shè)于該發(fā)熱部的兩側(cè)的供電部，
[0020]上述發(fā)熱部配設(shè)于上述一對(duì)側(cè)塊的寬度方向內(nèi)側(cè)。
[0021]發(fā)明的效果
[0022]根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施方式，提供一種能夠降低加熱器的更換頻率的浮法玻璃制造
目.ο
【附圖說(shuō)明】
[0023]圖1是表示本發(fā)明的一實(shí)施方式的浮法玻璃制造裝置的剖視圖，是沿圖2的I 一I線(xiàn)的剖視圖。
[0024]圖2是沿圖1的II 一 II線(xiàn)的剖視圖。
[0025]圖3是沿圖1的II1-1II線(xiàn)的剖視圖。
[0026]圖4是沿圖1的IV — IV線(xiàn)的剖視圖。
[0027]圖5是沿圖1的V — V線(xiàn)的剖視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0028]以下，參照【附圖說(shuō)明】用于實(shí)施本發(fā)明的實(shí)施方式。在各附圖中，對(duì)相同或相對(duì)應(yīng)的結(jié)構(gòu)標(biāo)注相同的附圖標(biāo)記并省略說(shuō)明。在本說(shuō)明書(shū)中，表示數(shù)值范圍的“?”是指包含其前后的數(shù)值。另外，在本說(shuō)明書(shū)中，所謂的“寬度方向”是指與熔融玻璃的流動(dòng)方向垂直的方向。
[0029]圖1是表示本發(fā)明的一實(shí)施方式的浮法玻璃制造裝置的剖視圖，是沿圖2的I 一I線(xiàn)的剖視圖。圖2是沿圖1的II 一 II線(xiàn)的剖視圖。圖3是沿圖1的III 一 III線(xiàn)的剖視圖。圖4是沿圖1的IV — IV線(xiàn)的剖視圖。圖5是沿圖1的V — V線(xiàn)的剖視圖。
[0030]浮法玻璃制造裝置10向浴槽11內(nèi)的熔融金屬M(fèi)上連續(xù)地供給熔融玻璃G，使熔融玻璃G在熔融金屬M(fèi)上成形為板狀的玻璃帶。玻璃帶在熔融金屬M(fèi)上流動(dòng)的同時(shí)逐漸變硬。玻璃帶在浴槽11的下游區(qū)域自熔融金屬M(fèi)被拉起，并被送往退火爐。玻璃帶在兩側(cè)緣部之間具有平坦部。由于玻璃帶的兩側(cè)緣部相比于玻璃帶的平坦部較厚，因此，在退火后被切除。由此，能夠獲得板厚大致均勻的浮法玻璃。
[0031]浮法玻璃制造裝置10包括浴槽11、頂部12、前過(guò)梁(front lintel) 13、供給部14、一對(duì)絕熱塊19、一對(duì)支承塊21、金屬外殼23、背磚25、一對(duì)側(cè)磚27、加熱器29以及一對(duì)側(cè)塊31等。
[0032]如圖1所示，浴槽11用于容納熔融金屬M(fèi)。熔融金屬M(fèi)是普通的金屬為佳，例如是熔融錫或熔融錫合金為佳。
[0033]頂部12配設(shè)于浴槽11的上方，覆蓋浴槽11的上方空間。
[0034]前過(guò)梁13將浴槽11的上方空間分隔為上游側(cè)的流道出口(日文:只/《夕卜)(spout)空間和下游側(cè)的主空間。主空間與流道出口空間相比十分大。為了防止熔融金屬M(fèi)氧化，在主空間內(nèi)自頂部12的貫通孔供給有還原性氣體。還原性氣體例如能夠使用氫氣與氮?dú)獾幕旌蠚怏w。前過(guò)梁13限制還原性氣體自下游側(cè)的主空間流入上游側(cè)的流道出口空間。在流道出口空間或比流道出口空間靠上游側(cè)的位置存在鉑制或鉑合金制的構(gòu)件的情況下，能夠限制該構(gòu)件的劣化。
[0035]供給部14設(shè)于浴槽11的上游側(cè)的端部，向浴槽11內(nèi)的熔融金屬M(fèi)上供給熔融玻璃G。如圖1和圖3所示，供給部14具有流道出口唇板(spout lip) 15、配設(shè)于流道出口唇板15的兩側(cè)的一對(duì)側(cè)壁(side jamb) 16、以及插入于一對(duì)側(cè)壁16之間的調(diào)節(jié)件(tweel)17。
[0036]如圖1所示，流道出口唇板15—體地具有水平部15a、和自水平部15a的下游端向斜下方延伸的傾斜部15b。在流道出口唇板15上流動(dòng)的熔融玻璃G自?xún)A斜部15b的下游端投入到浴槽11內(nèi)。
[0037]如圖3所示，流道出口唇板15的下方的空間沿橫向擴(kuò)展到一對(duì)側(cè)壁16的下方和一對(duì)絕熱塊19的下方。另一方面，流道出口唇板15的上方的空間形成于一對(duì)側(cè)壁16之間。
[0038]如圖3所示，一對(duì)側(cè)壁16防止在流道出口唇板15上流動(dòng)的熔融玻璃G溢出到寬度方向外側(cè)。各側(cè)壁16—體地具有寬度方向內(nèi)側(cè)部16a和寬度方向外側(cè)部16b。各寬度方向內(nèi)側(cè)部16a的下表面沿流道出口唇板15的下表面形成，具有水平面和傾斜面。另一方面，寬度方向外側(cè)部16b的下表面與流道出口唇板15的水平部15a的下表面齊平。
[0039]如圖1所示，調(diào)節(jié)件17自頂部12向下方突出，并如圖3所示，插入于一對(duì)側(cè)壁16之間。調(diào)節(jié)件17相對(duì)于流道出口唇板15沿上下方向自由移動(dòng)。使與由流道出口唇板15、一對(duì)側(cè)壁16以及調(diào)節(jié)件17包圍的開(kāi)口部的大小相對(duì)應(yīng)的流量的熔融玻璃G被供給到浴槽11內(nèi)。調(diào)節(jié)件17的與熔融玻璃G之間的接觸面可以由鉑制或鉑合金制的保護(hù)膜覆蓋。
[0040]如圖3所示，一對(duì)絕熱塊19隔著一對(duì)側(cè)壁16。各絕熱塊19的下表面與各側(cè)壁16的寬度方向外側(cè)部16b的下表面齊平。
[0041]如圖3所示，一對(duì)支承塊21在其與一對(duì)絕熱塊19之間隔著金屬外殼23，而自下方支承金屬外殼23。
[0042]金屬外殼23具有底壁部23a、和自底壁部23a的外緣向上方延伸的側(cè)壁部23b。底壁部23a例如形成為字母U字狀，如圖1和圖3所示，在底壁部23a上載置有流道出口唇板15的水平部15a、各側(cè)壁16的寬度方向外側(cè)部16b以及絕熱塊19等。
[0043]如圖5中箭頭所示，熔融玻璃G自供給部14供給熔融玻璃G的供給位置形成朝向上游逆流的回流、和朝向下游的前流?；亓靼c流道出口唇板15接觸的部分，包含因熔融玻璃G與流道出口唇板15反應(yīng)而產(chǎn)生的泡?；亓髂軌蚶帽炒u25及一對(duì)側(cè)磚27改變朝向，在前流的兩側(cè)合流。泡集中在玻璃帶的兩側(cè)緣部，能夠降低玻璃帶的平坦部的缺陷。
[0044]背磚25如圖1所示配設(shè)于流道出口唇板15的下方，如圖5所示阻止朝向上游逆流的熔融玻璃G的流動(dòng)。
[0045]如圖5所示，一對(duì)側(cè)磚27用于擴(kuò)大自背磚25朝向下游流動(dòng)的熔融玻璃G的寬度。一對(duì)側(cè)磚27相對(duì)于供給至熔融金屬M(fèi)上的熔融玻璃G的中心線(xiàn)傾斜，一對(duì)側(cè)磚27之間的間隔越朝向下游越寬。
[0046]如圖1所示，加熱器29配設(shè)于供給部14與背磚25之間，用于加熱背磚25。能夠改善背磚25附近的熔融玻璃G的流動(dòng)性。
[0047]如圖3和圖5所示，加熱器29具有發(fā)熱部29a、和以隔著發(fā)熱部29a的方式設(shè)于該發(fā)熱部29a兩側(cè)的供電部29b。供電部29b向發(fā)熱部29a供電。
[0048]加熱器29例如是碳化硅加熱器為佳。該情況下，供電部29b含有金屬硅等金屬材料，具有高于發(fā)熱部29a的導(dǎo)電率的導(dǎo)電率。
[0049]加熱器29是棒狀為佳，可以設(shè)為與熔融玻璃G的寬度方向平行。以使熔融玻璃G容易沿背磚25向?qū)挾确较蛲鈧?cè)流動(dòng)。
[0050]加熱器29可以是圓柱狀、圓筒狀中的任一形狀，但從原料成本的觀點(diǎn)來(lái)看，圓筒狀為佳。加熱器29的外徑例如為20mm?40mm。
[0051]加熱器29的開(kāi)孔率(日本工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)JIS R1634:1998)例如在25%以下，優(yōu)選在10%以下。若加熱器29的開(kāi)孔率在10%以下，則能夠抑制加熱器29由氣體導(dǎo)致的劣化。另外，JIS R1634:1998的內(nèi)容通過(guò)參照編入到本說(shuō)明書(shū)中。
[0052]如圖1、圖4、圖5所示，一對(duì)側(cè)塊31配設(shè)于供給部14與前過(guò)梁13之間。如圖2所示，一對(duì)側(cè)塊31在供給部14的下游側(cè)與上述供給部14相鄰地設(shè)置，且載置于一對(duì)側(cè)磚27上。各側(cè)塊31由耐熱磚等形成，如圖4所示，隔著金屬外殼23與側(cè)壁16和絕熱塊19相接觸。
[0053]如圖1和圖2所示，各側(cè)塊31具有貫通孔31a，自貫通孔31a向流道出口空間供給氣體。供給至流道出口空間的氣體例如可列舉有氮?dú)獾确腔钚詺怏w、還原性氣體等。還原性氣體例如使用氮?dú)馀c氫氣的混合氣體為佳。在向流道出口空間供給還原性氣體的情況下，供給至流道出口空間的還原性氣體的氫氣濃度(體積％)低于供給至主空間的還原性氣體的氫氣濃度(體積％)為佳。在流道出口空間或比流道出口空間靠上游側(cè)存在鉑制或鉑合金制的構(gòu)件的情況下，能夠抑制該構(gòu)件的劣化。
[0054]另外，在本實(shí)施方式中，供給至流道出口空間的氣體為自一對(duì)側(cè)塊31供給，但也可以自頂部12或一對(duì)側(cè)壁16供給。
[0055]流道出口空間由浴槽11、頂部12、前過(guò)梁13、調(diào)節(jié)件17、一對(duì)側(cè)壁16以及一對(duì)側(cè)塊31等包圍。在流道出口空間內(nèi)，氣體在一對(duì)側(cè)塊31之間通過(guò)，且在流道出口唇板15的上方與下方之間往來(lái)。
[0056]如圖5所示，在流道出口唇板15的下方存在寬度大于一對(duì)側(cè)塊31之間的間隔的空間。在該空間內(nèi)，在一對(duì)側(cè)塊31的寬度方向內(nèi)側(cè)形成有氣流，在比一對(duì)側(cè)塊31之間的間隙靠寬度方向外側(cè)的位置幾