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一種高純鎂橄欖石的濕法生產(chǎn)工藝的制作方法

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本發(fā)明屬于耐火材料生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種高純鎂橄欖石的濕法生產(chǎn)工藝。



背景技術(shù):

純鎂橄欖石是一種島狀結(jié)構(gòu)硅酸鹽礦物,化學(xué)分子式為Mg2SiO4,屬斜方晶系,具有熔點(diǎn)高、導(dǎo)熱系數(shù)低、不水化、化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定、耐金屬熔體和渣的侵蝕以及與大多數(shù)耐火材料相容性好的特點(diǎn)。但是,目前還未發(fā)現(xiàn)天然純鎂橄欖石?,F(xiàn)在生產(chǎn)的鎂橄欖石質(zhì)耐火材料,大多數(shù)采用天然鐵鎂橄欖石原料,屬于弱堿性耐火材料,主要化學(xué)組成為氧化鎂、氧化硅和氧化鐵,以鎂橄欖石(2Mg0-SiO2)為主晶相,并含有一定數(shù)量的鐵酸鎂。鎂橄欖石質(zhì)耐火材料具有一定的抗堿性熔渣能力,較高的耐火度和荷重軟化溫度,較強(qiáng)的抗氧化鐵侵蝕能力。但是,由于材料中含有8%以上的氧化鐵,在玻璃窯蓄熱室內(nèi)等部位使用時(shí)受氣氛影響極大,特別是在還原氣氛下氧化鎂將置換磚中的氧化鐵、氧化鋁生成鐵酸鎂、鎂鋁尖晶石、頑火輝石(MgO·SiO2),這些反應(yīng)伴隨24. 3% 的體積膨脹。含氧化鐵的鎂橄欖石耐火材料在使用過(guò)程中若經(jīng)歷氣氛變化,材料體積發(fā)生急變,造成結(jié)構(gòu)疏松,強(qiáng)度下降,從而導(dǎo)致材料過(guò)早損毀。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本發(fā)明的目的是提供一種高純鎂橄欖石的濕法生產(chǎn)工藝。

為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用的技術(shù)方案是,一種高純鎂橄欖石的濕法生產(chǎn)工藝,包括以下步驟:取主原料、木質(zhì)素磺酸鈣和水,密封研磨得泥漿a(泥漿a中顆粒的粒度500目篩余不大于5%),泥漿a經(jīng)脫水、成型、烘干和煅燒即得;所述木質(zhì)素磺酸鈣的加入量為主原料重量的0.1~0.5%,水的加入量為主原料重量的1.0~1.3倍;所述主原料由下述重量份數(shù)的原料組成:鎂質(zhì)原料50-60份、硅質(zhì)原料40-50份、鎂橄欖石5-10份。

所述鎂質(zhì)原料為輕燒鎂砂或燒結(jié)鎂砂,硅質(zhì)原料為硅石粉;鎂質(zhì)原料、硅質(zhì)原料的粒徑均不大于1mm。

所述泥漿a脫水、成型、烘干步驟為:泥漿a在壓濾機(jī)內(nèi)脫水得泥餅b;泥餅b經(jīng)真空擠泥機(jī)進(jìn)行真空練泥,經(jīng)擠壓、切割形成泥段c;將泥段c送至干燥機(jī)中烘干得泥料d。

所述壓濾機(jī)內(nèi)脫水時(shí)的壓力不大于2.5Mpa;真空擠泥機(jī)真空度不小于0.085Mpa。

所述干燥機(jī)中烘干時(shí)的烘干溫度250~280℃,烘干時(shí)間為60~90min。

所述所述煅燒在窯爐中進(jìn)行,條件為:煅燒溫度1700-1750℃,保溫時(shí)間15~30min,總煅燒時(shí)間10~15h。

和現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明濕法合成鎂橄欖石具有以下優(yōu)點(diǎn):1)采用濕法球磨機(jī)對(duì)原料進(jìn)行混煉、研磨,水的加入不僅改善了生產(chǎn)作業(yè)環(huán)境,能耗低,而且由于水分子在研磨中沿著物料毛細(xì)管壁或微裂紋擴(kuò)散至狹窄地區(qū),對(duì)裂紋的四壁產(chǎn)生約0.1MPa的壓力,使得物料更容易劈裂開,另外還可以促進(jìn)各種原料分布均勻,從而使得比表面積增大,反應(yīng)活性增強(qiáng);2)采用真空練泥機(jī)成型,可使泥料中的空氣體積由原來(lái)的7~10%降低到0.5~1%,組成更加均勻,可塑性和密度均得到增加,保證了成型后的坯體強(qiáng)度和煅燒后的體積密度;3)煅燒所得鎂橄欖石產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定,體積密度高于2.75g/cm3;經(jīng)XRD檢測(cè),鎂橄欖石含量在97%;顏色斷面為灰白色,質(zhì)地細(xì)膩,品質(zhì)好。

具體實(shí)施方式

以下通過(guò)實(shí)施例對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步的說(shuō)明,但本發(fā)明的保護(hù)范圍不限于此。

實(shí)施例1

一種高純鎂橄欖石的濕法生產(chǎn)工藝,包括以下步驟:取主原料、木質(zhì)素磺酸鈣和水,密封研磨10h得泥漿a,泥漿a中顆粒的粒度500目篩余1%(指質(zhì)量百分比,下同),泥漿a在壓濾機(jī)內(nèi)脫水10min得泥餅b,壓濾脫水壓力為1.8MPa;泥餅b經(jīng)真空擠泥機(jī)進(jìn)行真空練泥(真空度為0.085MPa),經(jīng)擠壓、切割形成直徑20mm、長(zhǎng)度50mm的圓柱形泥段c;將泥段c送至干燥機(jī)中烘干得泥料d;將泥料d送至回轉(zhuǎn)窯中進(jìn)行煅燒即得;所述木質(zhì)素磺酸鈣的加入量為主原料重量的0.3%,水的加入量為主原料重量的1.2倍;所述主原料由下述重量份數(shù)的原料組成:鎂質(zhì)原料60份、硅質(zhì)原料40份、鎂橄欖石5份。

所述鎂質(zhì)原料為燒結(jié)鎂砂,硅質(zhì)原料為硅石粉;鎂質(zhì)原料、硅質(zhì)原料的粒徑均不大于1mm。

所述干燥機(jī)中烘干時(shí)的烘干溫度250℃,烘干時(shí)間為80min。

所述煅燒條件為:煅燒溫度1730℃,保溫時(shí)間15min,總煅燒時(shí)間15h。

本實(shí)施例出窯后得到高純鎂橄欖石,經(jīng)檢測(cè)所得高純鎂橄欖石的體積密度為2.80g/cm3。XRD檢測(cè)鎂橄欖石含量為97%,體積密度的測(cè)定參照GB/T2999-2002。

實(shí)施例2

一種高純鎂橄欖石的濕法生產(chǎn)工藝,包括以下步驟:取主原料、木質(zhì)素磺酸鈣和水,密封研磨研磨10h得泥漿a,泥漿a中顆粒的粒度500目篩余5%,泥漿a在壓濾機(jī)內(nèi)脫水得泥餅b,壓濾脫水壓力為2.2Mpa;泥餅b經(jīng)真空擠泥機(jī)進(jìn)行真空練泥(真空度為0.085MPa),經(jīng)擠壓、切割形成直徑20mm、長(zhǎng)度50mm的圓柱形泥段c;將泥段c送至干燥機(jī)中烘干得泥料d;將泥料d送至回轉(zhuǎn)窯中進(jìn)行煅燒即得;所述木質(zhì)素磺酸鈣的加入量為主原料重量的0.5%,水的加入量為主原料重量的1.0倍;所述主原料由下述重量份數(shù)的原料組成:鎂質(zhì)原料55份、硅質(zhì)原料40份、鎂橄欖石5份。

所述鎂質(zhì)原料為輕燒鎂砂,硅質(zhì)原料為硅石粉;鎂質(zhì)原料、硅質(zhì)原料的粒徑均不大于1mm。

所述干燥機(jī)中烘干時(shí)的烘干溫度280℃,烘干時(shí)間為70min。

所述煅燒條件為:煅燒溫度1700℃,保溫時(shí)間20min,總煅燒時(shí)間12h。

本實(shí)施例出窯后得到高純鎂橄欖石,經(jīng)檢測(cè)所得高純鎂橄欖石的體積密度為2.76g/cm3。XRD檢測(cè)鎂橄欖石含量為96.8%,體積密度的測(cè)定參照GB/T2999-2002。

實(shí)施例3

一種高純鎂橄欖石的濕法生產(chǎn)工藝,包括以下步驟:取主原料、木質(zhì)素磺酸鈣和水,密封研磨10h得泥漿a,泥漿a中顆粒的粒度500目篩余4%,泥漿a在壓濾機(jī)內(nèi)脫水得泥餅b,壓濾脫水壓力為2.2Mpa;泥餅b經(jīng)真空擠泥機(jī)進(jìn)行真空練泥(真空度為0.085MPa),經(jīng)擠壓、切割形成直徑20mm、長(zhǎng)度50mm的圓柱形泥段c;將泥段c送至干燥機(jī)中烘干得泥料d;將泥料d送至回轉(zhuǎn)窯中進(jìn)行煅燒即得;所述木質(zhì)素磺酸鈣的加入量為主原料重量的0.1%,水的加入量為主原料重量的1.3倍;所述主原料由下述重量份數(shù)的原料組成:鎂質(zhì)原料50份、硅質(zhì)原料40份、鎂橄欖石10份。

所述鎂質(zhì)原料為燒結(jié)鎂砂,硅質(zhì)原料為硅石粉;鎂質(zhì)原料、硅質(zhì)原料的粒徑均不大于1mm。

所述干燥機(jī)中烘干時(shí)的烘干溫度260℃,烘干時(shí)間為85min。

所述煅燒條件為:煅燒溫度1720℃,保溫時(shí)間30min,總煅燒時(shí)間10h。

本實(shí)施例出窯后得到高純鎂橄欖石,經(jīng)檢測(cè)所得高純鎂橄欖石的體積密度為2.78g/cm3。XRD檢測(cè)鎂橄欖石含量為96.5%,體積密度的測(cè)定參照GB/T2999-2002。

上述高純鎂橄欖石濕法生產(chǎn)工藝中真空練泥也可以根據(jù)要求,擠壓成型為其它形狀。另外,本發(fā)明高純鎂橄欖石也適用于在隧道窯,倒焰窯等常見(jiàn)窯爐中煅燒生產(chǎn)。

上述實(shí)施例僅用于說(shuō)明而非限制本發(fā)明的技術(shù)方案,任何對(duì)本發(fā)明進(jìn)行的等同替換及不脫離本發(fā)明精神和范圍的修改或局部替換,其均應(yīng)涵蓋在本發(fā)明權(quán)利要求保護(hù)的范圍之內(nèi)。

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