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一種中透淺藍(lán)色可彎鋼三銀低輻射鍍膜玻璃及制備工藝的制作方法

文檔序號:11928144閱讀:473來源:國知局

本發(fā)明涉及無機(jī)非金屬鍍膜玻璃技術(shù)領(lǐng)域,具體為一種中透淺藍(lán)色可彎鋼三銀低輻射鍍膜玻璃及制備工藝。



背景技術(shù):

磁控濺射鍍膜技術(shù)是目前工業(yè)鍍膜生產(chǎn)中最主要的技術(shù)之一,磁控濺射具有高速、低溫、低損傷等優(yōu)點(diǎn),沉積速率快,基片的溫度變化小,對膜層的損傷小等一系列優(yōu)點(diǎn)。以磁控濺射做為成膜技術(shù)生產(chǎn)的低輻射鍍膜玻璃,具有表面輻射率低、紅外反射率高、可見光透過率適中的特點(diǎn),它既可滿足建筑物良好的采光要求,又可有效地阻擋玻璃以輻射形式傳遞熱量,具有很好的隔熱性能,是在當(dāng)前技術(shù)條件下實(shí)現(xiàn)門窗節(jié)能的最佳材質(zhì),廣泛應(yīng)用于大面積建筑玻璃鍍膜行業(yè)。

現(xiàn)有技術(shù)中的LOW-E玻璃的生產(chǎn)工藝是在優(yōu)質(zhì)浮法基片上鍍制以Ag為功能層,包含介質(zhì)層和其它金屬層的多層膜系。若按照功能層銀的層數(shù)來進(jìn)行劃分,Low-E玻璃可以分為單銀Low-E玻璃、雙銀Low-E玻璃、三銀Low-E玻璃。目前,單銀、雙銀都是建筑玻璃領(lǐng)域比較成熟的節(jié)能方案,三銀節(jié)能玻璃節(jié)能效果優(yōu)于雙銀和單銀,但三銀玻璃膜層結(jié)構(gòu)復(fù)雜,工藝控制難度大,因而成本較高。而三銀的可鋼化膜系為保證膜層后續(xù)加工的穩(wěn)定性,保護(hù)層往往較厚,導(dǎo)致膜層顏色色度高,視覺效果較差。近年來市場上真正能夠量產(chǎn)三銀的廠家不多,且可供選擇的三銀品種也不如雙銀、單銀豐富。

現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn):

1)可鋼三銀膜層顏色較深,多為深綠色、深藍(lán)色或中性色泛紅。

2)傳統(tǒng)結(jié)構(gòu)三銀低輻射玻璃在后續(xù)熱加工中,功能銀層會出現(xiàn)霧化或氧化現(xiàn)象。

3)三銀Low-E玻璃膜層結(jié)構(gòu)復(fù)雜,工藝調(diào)試及加工生產(chǎn)控制難度大。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

針對以上問題,本發(fā)明提供了一種中透淺藍(lán)色可彎鋼三銀低輻射鍍膜玻璃及制備工藝,該玻璃的6mm單片透過率可達(dá)50%,玻面外觀顏色為淺藍(lán)色,清新自然,可鋼三銀鋼化后正側(cè)面顏色接近,本款膜系可做彎鋼產(chǎn)品與一款普通三銀(先鋼再鍍)配套使用,通過控制關(guān)鍵膜層厚度,降低生產(chǎn)成本,可以有效解決背景技術(shù)中的問題。

為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供如下技術(shù)方案:一種中透淺藍(lán)色可彎鋼三銀低輻射鍍膜玻璃,包括玻璃基片層和鍍膜層,所述鍍膜層自所述玻璃基片層向外依次復(fù)合有十八個(gè)膜層,其中第一層為SiNx層,第二層為ZnO層,第三層Ag層,第四層為NiCr層,第五層為AZO層,第六層為SiNx層,第七層為ZnO層,第八層為Ag層,第九層為NiCr層,第十層為AZO層,第十一層為ZnSnO層,第十二層為ZnO層,第十三層為SiNx層,第十四層為ZnO層,第十五層為Ag層,第十六層為NiCr層,第十七層為AZO層,第十八層為SiNx層。

優(yōu)選的,所述第一層和第二層作為第一電介質(zhì)組合層,所述第三層作為低輻射功能層,所述第四層作為第一阻擋保護(hù)層,所述第五層作為晶床介質(zhì)層,作為第六層和第七層作為第二電介質(zhì)組合層,所述第八層作為低輻射功能層,所述第九層作為第二阻擋保護(hù)層,所述第十層作為床介質(zhì)層,所述第十一層至第十四層作為第三電介質(zhì)組合層,所述第十五層作為低輻射功能層,所述第十六層作為第三阻擋保護(hù)層、作為第十七層作為晶床介質(zhì)層,所述第十八層作為第四電介質(zhì)層。

優(yōu)選的,所述第一層和第十八層的厚度均為15-20nm。

優(yōu)選的,所述第二層和第十四層的厚度均為5-10nm。

優(yōu)選的,所述第三層的厚度為3.5-7.5nm。

優(yōu)選的,所述第四層的厚度為0.5-1nm。

優(yōu)選的,所述第五層的厚度為5-8nm。

優(yōu)選的,所述第六層的厚度為40-50nm。

優(yōu)選的,所述第七層的厚度為5-15nm。

優(yōu)選的,所述第八層的厚度為10-15nm。

優(yōu)選的,所述第九層和第十六層的厚度為1-2nm。

優(yōu)選的,所述第十層和第十七層的厚度為5-8nm。

優(yōu)選的,所述第十一層和第十二層的厚度為25-30nm。

優(yōu)選的,所述第十三層的厚度為30-35nm。

優(yōu)選的,所述第十五層的厚度為6-10nm。

優(yōu)選的,所述總膜層厚度為230-260nm。

另外本發(fā)明還設(shè)計(jì)了一種中透淺藍(lán)色可彎鋼三銀低輻射鍍膜玻璃的制備工藝,通過磁控濺射鍍膜技術(shù)在預(yù)清洗過的潔凈玻璃表面鍍上低輻射功能膜層,玻璃在高真空的等離子體氛圍中成膜,通過多層中間層復(fù)合疊加技術(shù)改善膜層透過色,使膜層鋼化后透過色接近中性,減少透過色對玻面顏色的干擾。

與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明的有益效果是:該玻璃的6mm單片鋼化后透過率可達(dá)50%,玻面外觀顏色為淺藍(lán)色,清新自然,透過色接近中性,透過色-3≤a*<0、b*接近零,可鋼三銀鋼化后正側(cè)面顏色接近,本款膜系可做彎鋼產(chǎn)品與一款普通三銀(先鋼再鍍)配套使用。

附圖說明

圖1為本發(fā)明結(jié)構(gòu)示意圖;

圖中:1-SiNx層,2-ZnO層,3-Ag層,4-NiCr層,5-AZO層,6-SiNx層,7-ZnO層,8-Ag層,9-NiCr層,10-AZO層,11-ZnSnO-層,12-ZnO層,13-SiNx層,14-ZnO層,15-Ag層,16-為NiCr層,17-AZO層,18-SiNx層;Clean glass-玻璃基片層。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖,對本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例?;诒景l(fā)明中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實(shí)施例,都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

實(shí)施例:

請參閱圖1,本發(fā)明提供一種技術(shù)方案:一種中透淺藍(lán)色可彎鋼三銀低輻射鍍膜玻璃,包括玻璃基片層和鍍膜層,所述鍍膜層自所述玻璃基片層向外依次復(fù)合有十八個(gè)膜層,其中第一層為SiNx層1,第二層為ZnO層2,第三層Ag層3,第四層為NiCr層4,第五層為AZO層5,第六層為SiNx層6,第七層為ZnO層7,第八層為Ag層8,第九層為NiCr層9,第十層為AZO層10,第十一層為ZnSnO層11,第十二層為ZnO層12,第十三層為SiNx層13,第十四層為ZnO層14,第十五層為Ag層15,第十六層為NiCr層16,第十七層為AZO層17,第十八層為SiNx層18。

其制備方法為:采用離線鍍膜技術(shù),通過磁控濺射鍍膜技術(shù)在預(yù)清洗過的潔凈玻璃表面鍍上低輻射功能膜層,玻璃在高真空的等離子體氛圍中成膜,磁控濺射具有高速、低溫、低損傷等優(yōu)點(diǎn),通過多層中間層(ZnSnO、ZnO、SiNx、ZnO)復(fù)合疊加技術(shù)改善膜層透過色,使膜層鋼化后透過色接近中性,減少透過色對玻面顏色的干擾。

所述第一層和第二層作為第一電介質(zhì)組合層,所述第三層作為低輻射功能層,所述第四層作為第一阻擋保護(hù)層,所述第五層作為晶床介質(zhì)層,作為第六層和第七層作為第二電介質(zhì)組合層,所述第八層作為低輻射功能層,所述第九層作為第二阻擋保護(hù)層,所述第十層作為床介質(zhì)層,所述第十一層至第十四層作為第三電介質(zhì)組合層,所述第十五層作為低輻射功能層,所述第十六層作為第三阻擋保護(hù)層、作為第十七層作為晶床介質(zhì)層,所述第十八層作為第四電介質(zhì)層。

每層膜靶材及工藝技術(shù)要求如下表所示:

本款三銀膜系以一款常規(guī)三銀膜系(我司命名為LB56S)顏色為藍(lán)本,反復(fù)調(diào)節(jié)膜層厚度,使得鋼化后顏色與該款三銀接近,故本款可鋼三銀膜系可用于彎弧玻璃生產(chǎn)與常規(guī)三銀配套使用。其鋼化后結(jié)構(gòu)為6+12A+6時(shí),性能參數(shù)如下:

通過反復(fù)實(shí)驗(yàn)確定的較穩(wěn)定各膜層工藝氣體比例,2、為保證膜層穩(wěn)定性及顏色的可調(diào)性所設(shè)計(jì)的膜層結(jié)構(gòu),3、通過軟件設(shè)計(jì)及工藝調(diào)試、實(shí)驗(yàn)確定的各膜層厚度,該膜層厚度有益于減少調(diào)試時(shí)各層的拐點(diǎn),第二電介質(zhì)組合層到第四電介質(zhì)組合層調(diào)試規(guī)律與普通雙銀接近,有利于生產(chǎn)工藝的控制。

經(jīng)過測試,本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于,1、6mm單片透過率可達(dá)50%,玻面外觀顏色為淺藍(lán)色,透過色接近中性,透過色-3≤a*<0、b*接近零,清新自然,2、可鋼三銀鋼化后正側(cè)面顏色接近,△a*<0.5;3、本款膜系可做彎鋼產(chǎn)品與一款普通三銀(先鋼再鍍)配套使用。

以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已,并不用以限制本發(fā)明,凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進(jìn)等,均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。

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