高蝕刻速率無殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種高蝕刻速率無殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置，屬于電子化學(xué)品生產(chǎn)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域。
【背景技術(shù)】
[0002]近年來，人們對半導(dǎo)體裝置、液晶顯示器的需求量不斷增加的同時(shí)，對于這些裝置所具有的配線、電極等的微小化、高性能化的要求也越來越嚴(yán)格，而蝕刻的效果能直接導(dǎo)致電路板制造工藝的好壞，影響高密度細(xì)導(dǎo)線圖像的精度和質(zhì)量。為了解決蝕刻液組合物蝕刻鋁材料過程中，對蝕刻速率慢、難以控制蝕刻角度和不同金屬層的蝕刻量而造成的多層配線的半導(dǎo)體裝置的配線的斷路、短路，得到較高的成品率。為保證其穩(wěn)定性及蝕刻的平滑度及精度，在蝕刻液中需要加入多種組分。而常規(guī)的生產(chǎn)方法是將蝕刻液中的各組份在同一容器中一起混合，其分散混合性能差，蝕刻液雜質(zhì)含量多，且多種強(qiáng)酸直接共混存在較大的安全隱患，不能滿足使用需求。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實(shí)用新型的目的在于克服上述不足，提供一種分散混合性好、雜質(zhì)含量少、操作安全的高蝕刻速率無殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置。
[0004]本實(shí)用新型的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的:一種高蝕刻速率無殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置，它包括磷酸儲罐、醋酸儲罐、第一混合罐、硝酸儲罐、第二混合罐、配料罐、去離子水儲罐、陰離子表面活性劑儲罐、聚氧乙烯型非離子表面活性劑儲罐、第三混合罐、氯化鉀儲罐、硝酸鉀儲罐、過濾器和成品罐；
[0005]所述磷酸儲罐和醋酸儲罐分別與第一混合罐進(jìn)口相連接；
[0006]所述第一混合罐出口、硝酸儲罐出口分別與第二混合罐進(jìn)口相連接；
[0007]所述陰離子表面活性劑儲罐、聚氧乙烯型非離子表面活性劑儲罐分別與第三混合罐進(jìn)口相連；
[0008]所述第二混合罐出口、第三混合罐出口、離子水儲罐出口、氯化鉀儲罐出口、硝酸鉀儲罐出口分別與配料罐進(jìn)口相連；
[0009]所述配料罐出口與過濾器進(jìn)口相連接，所述過濾器出口與成品罐相連接。
[0010]所述第一混合罐、第二混合罐和配料罐內(nèi)壁均為聚四氟乙烯。
[0011]所述第一混合罐、第二混合罐、配料罐和第三混合罐內(nèi)均設(shè)有攪拌器。
[0012]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果是:
[0013]本實(shí)用新型高蝕刻速率無殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置，將磷酸與醋酸在第一混合罐中充分?jǐn)嚢杌旌暇鶆?，然后在第二混合罐中與硝酸充分?jǐn)嚢杌旌暇鶆蚝螅龠M(jìn)入配料罐中混合，將陰離子表面活性劑和聚氧乙烯型非離子表面活性劑在第三混合罐混合后再進(jìn)入配料罐中，與氯化鉀、硝酸鉀、去離子水一起在配料罐中混合均勻，然后過濾后封裝。其分散混合均有性好、且操作安全性好，產(chǎn)品雜質(zhì)含量少。
【附圖說明】
[0014]圖1為本實(shí)用新型高蝕刻速率無殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0015]其中:
[0016]磷酸儲罐1、醋酸儲罐2、第一混合罐3、硝酸儲罐4、第二混合罐5、配料罐6、去離子水儲罐7、陰離子表面活性劑儲罐8、聚氧乙烯型非離子表面活性劑儲罐9、第三混合罐10、氯化鉀儲罐11、硝酸鉀儲罐12、過濾器13、成品罐14。
【具體實(shí)施方式】
[0017]參見圖1，本實(shí)用新型涉及的一種高蝕刻速率無殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置，主要由磷酸儲罐1、醋酸儲罐2、第一混合罐3、硝酸儲罐4、第二混合罐5、配料罐6、去離子水儲罐7、陰離子表面活性劑儲罐8、聚氧乙烯型非離子表面活性劑儲罐9、第三混合罐10、氯化鉀儲罐11、硝酸鉀儲罐12、過濾器13和成品罐14組成；
[0018]所述磷酸儲罐I和醋酸儲罐2分別與第一混合罐3進(jìn)口相連接；
[0019]所述第一混合罐3出口、硝酸儲罐4出口分別與第二混合罐5進(jìn)口相連接；
[0020]所述陰離子表面活性劑儲罐8、聚氧乙烯型非離子表面活性劑儲罐9分別與第三混合罐10進(jìn)口相連；
[0021]所述第二混合罐5出口、第三混合罐10出口、離子水儲罐7出口、氯化鉀儲罐11出口、硝酸鉀儲罐12出口分別與配料罐6進(jìn)口相連；
[0022]所述配料罐6出口與過濾器13進(jìn)口相連接，所述過濾器13出口與成品罐10相連接。
[0023]所述第一混合罐3、第二混合罐5和配料罐6內(nèi)壁均為聚四氟乙烯；
[0024]所述第一混合罐3、第二混合罐5、配料罐6和第三混合罐10內(nèi)均設(shè)有攪拌器。
[0025]本裝置制得的高蝕刻速率無殘留酸性鋁蝕刻液，大大改善了之前的蝕刻角度。采用本發(fā)明的蝕刻液對鋁金屬膜蝕刻時(shí)，由于表面活性劑的加入，使液體更容易進(jìn)入光刻膠的底部，從而使形成的蝕刻角度在40~80度之間，基本無側(cè)蝕現(xiàn)象，深孔刻蝕能力(ΙΟΟμπι，形成具有所需要形狀的配線跟電極。單用陰離子表面活性劑，如十二烷基苯磺酸，在蝕刻時(shí)，發(fā)泡顯著，易造成蝕刻圖形的缺陷，而加入聚氧乙烯型非離子表面活性劑時(shí)，對發(fā)泡具有抑制作用，提高了產(chǎn)品的良率。
[0026]在現(xiàn)有磷酸、醋酸、硝酸混合而成的鋁蝕刻液的基礎(chǔ)上，加入無機(jī)鹽添加劑:硝酸鉀和氯化鉀，同時(shí)表面活性劑的加入，可以改善蝕刻液對金屬膜層的潤濕和腐蝕均勻性，即改善蝕刻后表面的平整度，減少側(cè)蝕刻量。與現(xiàn)有鋁蝕刻液相比，對金屬鋁蝕刻速率高，反應(yīng)穩(wěn)定，無殘留，基本無側(cè)蝕現(xiàn)象。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種高蝕刻速率無殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置，其特征在于:它包括磷酸儲罐(I)、醋酸儲罐(2)、第一混合罐(3)、硝酸儲罐(4)、第二混合罐(5)、配料罐(6)、去離子水儲罐(7)、陰離子表面活性劑儲罐(8)、聚氧乙烯型非離子表面活性劑儲罐(9)、第三混合罐(10),氯化鉀儲罐(11)、硝酸鉀儲罐(12),過濾器(13)和成品罐(14); 所述磷酸儲罐(I)和醋酸儲罐(2)分別與第一混合罐(3)進(jìn)口相連接； 所述第一混合罐(3)出口、硝酸儲罐(4)出口分別與第二混合罐(5)進(jìn)口相連接；所述陰離子表面活性劑儲罐(8)、聚氧乙烯型非離子表面活性劑儲罐(9)分別與第三混合罐(10)進(jìn)口相連； 所述第二混合罐(5)出口、第三混合罐(10)出口、離子水儲罐(7)出口、氯化鉀儲罐(11)出口、硝酸鉀儲罐(12)出口分別與配料罐(6)進(jìn)口相連； 所述配料罐(6)出口與過濾器(13)進(jìn)口相連接，所述過濾器(13)出口與成品罐(10)相連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高蝕刻速率無殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置，其特征在于:所述第一混合罐(3)、第二混合罐(5)和配料罐(6)內(nèi)壁均為聚四氟乙烯。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種高蝕刻速率無殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置，其特征在于:所述第一混合罐(3)、第二混合罐(5)、配料罐(6)和第三混合罐(10)內(nèi)均設(shè)有攪拌器。
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種高蝕刻速率無殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置，其特征在于：它包括磷酸儲罐（1）、醋酸儲罐（2）、第一混合罐（3）、硝酸儲罐（4）、第二混合罐（5）、配料罐（6）、去離子水儲罐（7）、陰離子表面活性劑儲罐（8）、聚氧乙烯型非離子表面活性劑儲罐（9）、第三混合罐（10）、氯化鉀儲罐（11）、硝酸鉀儲罐（12）、過濾器（13）和成品罐（14）。本實(shí)用新型高蝕刻速率無殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置，分散混合均有性好、且操作安全性好，產(chǎn)品雜質(zhì)含量少。
【IPC分類】C23F1-20
【公開號】CN204369992
【申請?zhí)枴緾N201420808219
【發(fā)明人】戈士勇
【申請人】江陰潤瑪電子材料股份有限公司
【公開日】2015年6月3日
【申請日】2014年12月19日