固定基臺和蒸鍍設(shè)備的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種固定基臺和蒸鍍設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]在有機(jī)發(fā)光二極管(Organic Light-Emitting D1de，簡稱0LED)顯示產(chǎn)品制作領(lǐng)域，采用蒸鍍的方法制作OLED產(chǎn)品是相對比較成熟的一種方法。
[0003]在使用蒸鍍方法制作OLED顯示產(chǎn)品時，需要在待處理基板的周邊區(qū)域設(shè)置一些雙面膠，然后利用雙面膠帶將待處理基板固定在固定基臺的下方，接著在待處理基板遠(yuǎn)離固定基臺一側(cè)設(shè)置相應(yīng)的金屬掩膜版，最后將上述固定基臺、待處理基板和金屬掩模版一起移動至蒸鍍槽的上方，以在待處理基板遠(yuǎn)離固定基臺的一側(cè)蒸鍍出的相應(yīng)膜層。
[0004]然而，由于待處理基板僅僅是在周邊區(qū)域與固定基臺粘附固定，而中間區(qū)域并沒有與固定基臺產(chǎn)生作用力。在蒸鍍過程中，待處理基板受其自身重力的影響，其中間區(qū)域會發(fā)生相應(yīng)的形變；與此同時，隨著蒸鍍過程的進(jìn)行，待處理基板表面的溫度也會發(fā)生相應(yīng)的變化，該溫度的變化也會導(dǎo)致待處理基板產(chǎn)生一定的形變。其中，當(dāng)待處理基板產(chǎn)生形變后，可能會導(dǎo)致蒸鍍出的圖形偏移預(yù)定位置，從而導(dǎo)致最終生產(chǎn)出的產(chǎn)品為次品。更重要的是，當(dāng)待處理基板所產(chǎn)生的形變過大后，會導(dǎo)致待處理基板出現(xiàn)碎片的現(xiàn)象。
[0005]目前，本領(lǐng)域中并沒有一個能夠有效的減小待處理基板在蒸鍍過程中的形變量的方法，其原因在于，由于整個蒸鍍工藝的環(huán)境是封閉環(huán)境，操作人員無法實時獲取到待處理基板在蒸鍍過程中的形變量數(shù)據(jù)，因此沒有相應(yīng)的支撐數(shù)據(jù)進(jìn)行研究。因此，如何在蒸鍍過程中實時檢測待處理基板的形變量是本領(lǐng)域亟需解決的技術(shù)問題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本發(fā)明提供一種固定基臺和蒸鍍設(shè)備，可有效的對蒸鍍過程中的待處理基板的形變量進(jìn)行測量。
[0007]為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的提供了一種固定基臺，用于在待處理基板進(jìn)行蒸鍍過程中將所述待處理基板進(jìn)行固定，所述固定基臺朝向所述待處理基板的一側(cè)設(shè)置有至少一個凹槽通道，所述凹槽通道內(nèi)設(shè)置有至少一個形變測量單元，所述形變測量單元用于在蒸鍍過程中測量所述待處理基板上與所述形變測量單元的相對應(yīng)的區(qū)域的形變量。
[0008]可選地，所述凹槽通道內(nèi)設(shè)置有運(yùn)動單元，所述運(yùn)動單元與所述形變測量單元連接;
[0009]所述運(yùn)動單元用于驅(qū)動所述形變測量單元在所述凹槽通道內(nèi)運(yùn)動。
[0010]可選地，所述運(yùn)動單元包括:設(shè)置于所述凹槽通道內(nèi)的導(dǎo)軌和與所述測量單元連接的驅(qū)動結(jié)構(gòu)；
[0011]所述驅(qū)動結(jié)構(gòu)用于驅(qū)動所述形變測量單元沿所述導(dǎo)軌運(yùn)動。
[0012]可選地，還包括:位置獲取單元；
[0013]所述位置獲取單元用于獲所述形變測量單元在運(yùn)動過程中的位置信息。
[0014]可選地，所述凹槽通道包括:至少一條沿第一方向延伸的第一子凹槽和至少一條沿第二方向延伸的第二子凹槽；
[0015]任意一個所述第一子凹槽與至少一個所述第二子凹槽連通，任意一個第二子凹槽與至少一個所述第一子凹槽連通。
[0016]可選地，所述固定基臺上的凹槽通道的數(shù)量為多個，全部所述形變測量單元在所述固定基臺上均勾分布。
[0017]可選地，所述固定基臺上的所述形變測量單元單元的數(shù)量為多個，全部所述形變測量單元在所述固定基臺上均勻分布。
[0018]可選地，還包括:報警單元，報警單元與形變測量單元連接；
[0019]報警單元用于在比較出所述形變測量單元獲取到待處理基板上相應(yīng)位置的形變量超過預(yù)設(shè)閾值時進(jìn)行報警。
[0020]可選地，所述形變測量單元包括:力學(xué)傳感器和計算單元；
[0021]所述力學(xué)傳感器上設(shè)置有探針，所述力學(xué)傳感器用于在所述探針與所述待處理基板接觸時獲取所述探針與所述待處理基板之間的接觸作用力；
[0022]所述計算單元用于根據(jù)所述接觸作用力計算出所述待處理基板上與所述探針相接觸的位置的形變量。
[0023]可選地，當(dāng)所述形變測量單元單元為多個時，全部所述力學(xué)傳感器對應(yīng)一個計算單元。
[0024]為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明還提供了一種蒸鍍設(shè)備，包括:固定基臺，該固定基臺采用上述的固定基臺。
[0025]本發(fā)明具有以下有益效果:
[0026]本發(fā)明提供了一種固定基臺和蒸鍍設(shè)備，其中，該固定基臺用于在待處理基板進(jìn)行蒸鍍過程中將待處理基板進(jìn)行固定，該固定基臺朝向待處理基板的一側(cè)設(shè)置有至少一個凹槽通道，凹槽通道內(nèi)設(shè)置有至少一個形變測量單元，形變測量單元用于在蒸鍍過程中測量待處理基板上與形變測量單元的相對應(yīng)的區(qū)域的形變量。本發(fā)明的技術(shù)方案通過在固定基臺朝向待處理基板的一側(cè)設(shè)置凹槽通道，同時在凹槽通道內(nèi)設(shè)置相應(yīng)的形變測量單元，從而可在不影響蒸鍍過程的前提下，對待處理基板的形變量進(jìn)行測量。
【附圖說明】
[0027]圖1為本發(fā)明實施例一提供的一種固定基臺的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0028]圖2為圖1所示固定基臺與待處理基板進(jìn)行固定后的截面示意圖；
[0029]圖3為固定基臺上凹槽通道的數(shù)量為多個時的示意圖。
【具體實施方式】
[0030]為使本領(lǐng)域的技術(shù)人員更好地理解本發(fā)明的技術(shù)方案，下面結(jié)合附圖對本發(fā)明提供的一種固定基臺和蒸鍍設(shè)備進(jìn)行詳細(xì)描述。
[0031]圖1為本發(fā)明實施例一提供的一種固定基臺的結(jié)構(gòu)示意圖，圖2為圖1所示固定基臺與待處理基板進(jìn)行固定后的截面示意圖，如圖1和圖2所示，該固定基臺I用于在待處理基板8進(jìn)行蒸鍍過程中將待處理基板8進(jìn)行固定，該固定基臺I朝向待處理基板8的一側(cè)設(shè)置有至少一個凹槽通道2，凹槽通道2內(nèi)設(shè)置有至少一個形變測量單元3，形變測量單元3用于在蒸鍍過程中測量待處理基板8上與形變測量單元3的相對應(yīng)的區(qū)域的形變量。
[0032]需要說明的是，本實施例中的待處理基板8可以為玻璃基板。
[0033]本發(fā)明的技術(shù)方案通過在固定基臺I朝向待處理基板8的一側(cè)設(shè)置凹槽通道2，同時在凹槽通道2內(nèi)設(shè)置相應(yīng)的形變測量單元3，從而可在不影響蒸鍍過程的前提下，對待處理基板8的形變量進(jìn)行測量。
[0034]本實施例中，可選地，形變測量單元3包括:力學(xué)傳感器31和計算單元32。其中，力學(xué)傳感器31上設(shè)置有探針7，力學(xué)傳感器31用于在探針7與待處理基板8接觸時獲取探針7與待處理基板8之間的接觸作用力；計算單元32用于根據(jù)接觸作用力計算出待處理基板8上與探針7相接觸的位置的形變量。
[0035]在利用形變測量單元3檢測待處理基板8上述某一位置形變量時，僅需將形變測量單元3移至與該待檢測位置相對應(yīng)該的位置。此時，玻璃基板會使得力學(xué)傳感器31上的探針7發(fā)生一定的形變，即探針7與待處理基板8之間存在一個接觸作用力，力學(xué)傳感器31通過相應(yīng)的運(yùn)算可以得出該接觸作用力的具體值；接著力學(xué)傳感器31將該接觸作用力的相關(guān)數(shù)據(jù)發(fā)送至計算單元32，然后計算單元32根據(jù)預(yù)先存儲的關(guān)系映射表，查詢出與該接觸作用力相對應(yīng)的形變量值，查詢出的形變量值即為待處理基板8上待檢測位置的形變量值。
[0036]需要說明的是，上述關(guān)系映射表中存儲有不同的接觸作用力及各接觸作用力對應(yīng)的待檢測位置的形變量值。其中，該關(guān)系映表中的數(shù)據(jù)可以通過提前實驗獲取到，具體獲取過程此處不進(jìn)行詳細(xì)描述。
[0037]此外，由于力學(xué)傳感器31為一個測量精度較高的器件，其完全可以勝任毫米量級的形變量測量，因此本實施例中利用力學(xué)傳感器31與計算單元32以獲取形變量的方式為本實施例中的一種優(yōu)選實施方式。在本實施例中，形變測量單元3還可以采用其他能夠測量距離或長度的傳感器，來測量待處理基板8上某一位置與固定基臺I下表面之間的間距，從而獲取到待處理基板8上相應(yīng)位置的形變量，此處不再一一舉例說明。
[0038]可選地，該固定基臺I還包括:報警單元6，報警單元6與形變測量單元3連接，報警單元6用于在比較出形變測量單元3獲取到待處理基板8上相應(yīng)位置