用于蒸鍍的加熱裝置和蒸鍍設(shè)備的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示裝置制作領(lǐng)域，尤其涉及一種用于蒸鍍的加熱裝置和蒸鍍設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]有機(jī)材料是0LED(0rganic Light-Emitting D1de，有機(jī)電激光顯示)元件穩(wěn)定性的重要保證，目前大世代線均采用蒸鍍方式成膜，這就要求蒸鍍加熱系統(tǒng)在保證穩(wěn)定的鍍率的同時(shí)，保持材料性能使其不因受熱而發(fā)生劣化。
[0003]現(xiàn)有的OLED線源蒸鍍?nèi)鐖D1所示，坩禍10內(nèi)放置蒸鍍原料，加熱源為纏繞并固定于坩禍10外部的加熱線11，工作時(shí)蒸鍍原料受熱氣化從噴嘴12中逸出，在襯底上成膜。這種整體加熱設(shè)計(jì)一方面提高了材料整體的加熱速率，但是另一方面也極易引起材料局部受熱過快造成噴濺，且隨著世代線的不斷擴(kuò)大，生產(chǎn)周期的不斷延長，坩禍的容積也在不斷擴(kuò)大，材料受熱不均現(xiàn)象會(huì)越發(fā)嚴(yán)重，噴濺現(xiàn)象也隨之變得越來越嚴(yán)重。另外，坩禍整體加熱的方式也會(huì)使得局部(主要是底部)的有機(jī)材料一直暴露于高熱環(huán)境中，因?yàn)闊岱纸庵惖脑蚨踊?br>[0004]而且，當(dāng)前有機(jī)材料成本較高，為保證材料利用率的基礎(chǔ)上，減少設(shè)備閑置時(shí)間，在蒸鍍過程中，某些時(shí)候會(huì)需要調(diào)整蒸鍍鍍率，此時(shí)便需要進(jìn)行降溫模式，但在降溫模式下，如果一次性關(guān)閉加熱源，會(huì)導(dǎo)致蒸鍍鍍率發(fā)生瞬間變化，后續(xù)需要更多時(shí)間進(jìn)行穩(wěn)定，如果使用緩慢降溫模式，也同樣面臨調(diào)整蒸鍍鍍率時(shí)間過久的問題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明提供一種用于蒸鍍的加熱裝置和蒸鍍設(shè)備，解決現(xiàn)有蒸鍍設(shè)備加熱不均蒸鍍材料易噴射、易發(fā)生性能劣化，蒸鍍鍍率調(diào)整時(shí)不宜穩(wěn)定的問題。
[0006]為達(dá)到上述目的，本發(fā)明的實(shí)施例采用如下技術(shù)方案:
[0007]本發(fā)明的實(shí)施例提供一種用于蒸鍍的加熱裝置，包括:坩禍，用于盛裝蒸鍍原料；可移動(dòng)加熱單元，設(shè)置于所述坩禍的外部且蒸鍍時(shí)高于蒸鍍原料;稱重傳感裝置，設(shè)置于所述坩禍的下方，用于稱重所述坩禍及坩禍內(nèi)蒸鍍原料的重量并輸出；控制器，用于接收所述稱重傳感裝置的輸出，根據(jù)所述坩禍及坩禍內(nèi)蒸鍍原料的重量計(jì)算所述坩禍內(nèi)蒸鍍原料的液位高度，并根據(jù)所述液位高度控制所述可移動(dòng)加熱單元到所述蒸鍍原料的高度。
[0008]可選地，所述可移動(dòng)加熱單元包括:加熱單元和用于驅(qū)動(dòng)所述加熱單元遠(yuǎn)離或靠近所述蒸鍍原料的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。
[0009]優(yōu)選地，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括:至少兩個(gè)立柱，其長度方向垂直于所述坩禍的底部；設(shè)置于所述立柱上的可移動(dòng)支架，所述加熱單元的兩個(gè)端部分別固定于兩個(gè)立柱的可移動(dòng)支架上;驅(qū)動(dòng)馬達(dá)，用于驅(qū)動(dòng)所述可移動(dòng)支架沿所述立柱移動(dòng)。
[0010]優(yōu)選地，所述加熱單元包括:加熱絲，貼靠于所述坩禍外壁。
[0011]優(yōu)選地，所述控制器具體用于控制所述可移動(dòng)加熱單元到所述蒸鍍原料的高度，使所述可移動(dòng)加熱單元到所述蒸鍍原料的高度保持恒定。
[0012]進(jìn)一步地，所述加熱裝置，還包括:溫度傳感裝置，用于測量所述蒸鍍原料的溫度；
[0013]所述溫度傳感裝置與所述控制器相連，所述控制器還用于根據(jù)所述蒸鍍原料的溫度控制所述可移動(dòng)加熱單元到所述蒸鍍原料的高度。
[0014]可選地，所述坩禍包括坩禍主腔體和設(shè)置于所述坩禍主腔體內(nèi)的坩禍本體，所述稱重傳感裝置設(shè)置于所述坩禍主腔體內(nèi)，且位于所述坩禍本體的下方。
[0015]可選地，所述稱重傳感裝置為半導(dǎo)體壓力傳感器。
[0016]本發(fā)明實(shí)施例還提供一種蒸鍍設(shè)備，包括任一項(xiàng)所述的加熱裝置。
[0017]本發(fā)明實(shí)施例提供的用于蒸鍍的加熱裝置和蒸鍍設(shè)備，在坩禍的外部蒸鍍原料的上方設(shè)置可移動(dòng)加熱單元，在坩禍的下方設(shè)置稱重傳感裝置，稱重傳感裝置稱重坩禍及坩禍內(nèi)蒸鍍原料的重量并輸出至控制器，由控制器根據(jù)坩禍及坩禍內(nèi)蒸鍍原料的重量計(jì)算坩禍內(nèi)蒸鍍原料的液位高度，并根據(jù)該液位高度控制上述可移動(dòng)加熱單元到蒸鍍原料的高度。本方案從上部加熱蒸鍍原料，并且可以通過控制可移動(dòng)加熱單元到蒸鍍原料的高度，控制蒸鍍原料的受熱程度，可以避局部(主要是底部)一直暴露于高熱環(huán)境中，受熱過快造成噴濺或者性能劣化，在調(diào)整蒸鍍鍍率時(shí)，可以直接通過調(diào)整控制可移動(dòng)加熱單元到蒸鍍原料的高度來實(shí)現(xiàn)，不存在蒸鍍鍍率調(diào)整時(shí)不宜穩(wěn)定的問題。
【附圖說明】
[0018]為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其它的附圖。
[0019]圖1為現(xiàn)有蒸鍍設(shè)備中的加熱裝置示意圖；
[0020]圖2為本發(fā)明實(shí)施例提供的用于蒸鍍的加熱裝置的示意圖；
[0021 ]圖3為本發(fā)明實(shí)施例提供的加熱裝置的工作示意圖；
[0022]圖4為本發(fā)明實(shí)施例提供的加熱裝置的俯視結(jié)構(gòu)示意圖。
[0023]附圖標(biāo)記
[0024]10_i甘禍，11-加熱線，12-噴嘴，13-可移動(dòng)加熱單兀，131-立柱，
[0025]132-可移動(dòng)支架，133-加熱絲，14-稱重傳感裝置，101-坩禍主腔體，
[0026]102-坩禍本體。
【具體實(shí)施方式】
[0027]本發(fā)明提供一種用于蒸鍍的加熱裝置和蒸鍍設(shè)備，解決現(xiàn)有蒸鍍設(shè)備加熱不均蒸鍍材料易噴射、易發(fā)生性能劣化，蒸鍍鍍率調(diào)整時(shí)不宜穩(wěn)定的問題。
[0028]下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述。
[0029]本發(fā)明實(shí)施例提供一種用于蒸鍍的加熱裝置，如圖2所示，該裝置包括:坩禍10，用于盛裝蒸鍍原料;可移動(dòng)加熱單元13，設(shè)置于坩禍10的外部且蒸鍍時(shí)高于蒸鍍原料的上方；稱重傳感裝置14，設(shè)置于坩禍10的下方，用于稱重坩禍10及坩禍內(nèi)蒸鍍原料的重量并輸出；控制器(圖中未示出)，用于接收稱重傳感裝置14的輸出，根據(jù)坩禍10及坩禍內(nèi)蒸鍍原料的重量計(jì)算坩禍10內(nèi)蒸鍍原料的液位高度，并根據(jù)液位高度控制可移動(dòng)加熱單元13到蒸鍍原料的高度。
[0030]本實(shí)施例所述可移動(dòng)加熱單元13設(shè)置于坩禍10的外部，且蒸鍍時(shí)位于蒸鍍原料的上方，從上向下加熱蒸鍍原料，坩鍋10內(nèi)蒸鍍原料受熱均勻，可避免因底部蒸鍍原料一直暴露于高熱環(huán)境中，受熱過快造成噴濺或者性能劣化。稱重傳感裝置14設(shè)置于坩禍10的下方，并與控制器通過信號(hào)線相連(或者通過無線通信方式相連)，用于稱重坩禍10及坩禍10內(nèi)蒸鍍原料的重量并輸出至控制器。所述稱重傳感裝置14可以為半導(dǎo)體壓力傳感器，將坩禍10及坩禍10內(nèi)蒸鍍原料的重量轉(zhuǎn)化為電信號(hào)輸出，用以通過控制器控制移動(dòng)加熱單元13?？刂破髟O(shè)置于蒸鍍腔室的外部，接收稱重傳感裝置14的輸出，根據(jù)坩禍10及坩禍10內(nèi)蒸鍍原料的重量計(jì)算坩禍10內(nèi)蒸鍍原料的液位高度，然后據(jù)此控制可移動(dòng)加熱單元13的位置，調(diào)整可移動(dòng)加熱單元13到蒸鍍原料的高度。
[0031]控制器對(duì)可移動(dòng)加熱單元13到蒸鍍原料的高度的控制方案存在多種，本領(lǐng)域技術(shù)人員可根據(jù)實(shí)際情況進(jìn)行設(shè)置。例如，一種可選地實(shí)施方式為，控制器控制可移動(dòng)加熱單元13到蒸鍍原料的高度，使可移動(dòng)加熱單元13到蒸鍍原料的高度保持恒定，一方面可以獲得穩(wěn)定的蒸鍍鍍率，另一方面成膜條件(主要是溫度)不會(huì)因材料的消耗發(fā)生大的變化，制成的薄膜質(zhì)量更佳。另外一種可選的控制方案是，控制器計(jì)算目前坩禍10內(nèi)蒸鍍原料的液位高度，并根據(jù)輸入的蒸鍍鍍率及目前蒸鍍原料的液位高度，計(jì)算如果要達(dá)到要求的蒸鍍鍍率，可移動(dòng)加熱單元13到蒸鍍原料之間需要的高度設(shè)置值，然后將該設(shè)置值轉(zhuǎn)變?yōu)榭梢苿?dòng)加熱單元13可識(shí)別的指令，傳送給移動(dòng)加熱單元13。其中，上述計(jì)算過程可利用預(yù)先輸入的數(shù)據(jù)及公式，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以根據(jù)具體應(yīng)用情況進(jìn)行設(shè)置，此處不再詳細(xì)敘述?？刂破鳛槟軐?shí)現(xiàn)上述控制功能的邏輯器件，具有一定的存儲(chǔ)和編程功能，例如單片機(jī)。
[0032]本實(shí)施例所述加熱裝置利用質(zhì)量反