S230執(zhí)行完后再執(zhí)行步驟S210，即反復(fù)執(zhí)行S210?S230，直到測得的偏移量不大于預(yù)定誤差。
[0045]進(jìn)一步地，由于像素點的偏移具有整體性，選取陣列基板上預(yù)定數(shù)量的像素點作為樣本進(jìn)行測量。具體地，按著像素排列的直線性和像素的有效性，在所述陣列基板上每個有效像素陣列中選取至少三個在同一直線上的像素點作為樣本進(jìn)行測量。
[0046]測試點位排列位置如圖3所示，具有a、b、c和d四個像素陣列的陣列基板，在橫向和縱向都可以確保像素的直線型，排除因為個別點位存在較大的偏差影響絕對坐標(biāo)的測試和調(diào)整。進(jìn)一步地，兩條直線型的測試會使測試更加精確、快捷。例如:在每個屏幕(cell)的有效區(qū)域內(nèi)選取，選取的三個像素點位于同一直線上，共計兩條直線兩條直線相比較于一條直線測試可以更好的反應(yīng)有效區(qū)的像素位置、更具有可代表性，像素點共計六個，若有50個屏幕(cell)，則共計300個像素點，不但測試更加精確、快捷，而且相對于對整個陣列基板的像素點進(jìn)行測量，減少了測量次數(shù)，提高測量效率。
[0047]步驟S120中，所述預(yù)定誤差值為1.5微米，即偏移量不超過1.5微米。
[0048]其中，還包括將移動陣列基板后的陣列基板上的對位孔、厚度測試區(qū)域在所述絕對坐標(biāo)系下的坐標(biāo)傳輸至張網(wǎng)機，將對位孔、厚度測試區(qū)域等輸入張網(wǎng)機后，可以提高對位精度，降低因為制作工藝引起的誤差。
[0049]進(jìn)一步地，還包括存儲移動陣列基板后的像素點在絕對坐標(biāo)系下的坐標(biāo)，以后對于同樣規(guī)格的陣列基板，張網(wǎng)機直接用該保存的坐標(biāo)值制作MFA。
[0050]本發(fā)明還提供了一種用于制作掩模集成框架的對位系統(tǒng)，如圖4所示包括:
[0051]坐標(biāo)系建立單元410，用于以金屬框架的中心為坐標(biāo)原點建立絕對坐標(biāo)系，所述金屬框架的中心與以作為基準(zhǔn)的陣列基板的中心重合。
[0052]移動控制單元420，用于控制所述陣列基板移動，使像素點在絕對坐標(biāo)系下的坐標(biāo)與所述預(yù)設(shè)的理論值的偏移量小于預(yù)定誤差值。
[0053]坐標(biāo)傳輸單元430，用于將移動陣列基板后的像素點在絕對坐標(biāo)系下的坐標(biāo)傳輸至張網(wǎng)機。
[0054]移動控制單元420的具體結(jié)構(gòu)如圖5所示，包括:。
[0055]偏移量測量單元510，用于測量所述陣列基板上的像素點在絕對坐標(biāo)系下的坐標(biāo)與預(yù)設(shè)的理論值的偏移量。
[0056]判斷移動單元520，用于當(dāng)判斷偏移量大于所述預(yù)定誤差值時控制所述陣列基板向像素點偏移的反方向移動所述偏移量的距離。
[0057]進(jìn)一步地，所述偏移量測量單元具體用于在所述陣列基板上每個有效像素陣列中選取至少三個在同一直線上的像素點作為樣本進(jìn)行測量。
[0058]其中，所述預(yù)定誤差值為1.5微米。
[0059]其中，所述坐標(biāo)傳輸單元還用于將移動陣列基板后的陣列基板上的對位孔、厚度測試區(qū)域在所述絕對坐標(biāo)系下的坐標(biāo)傳輸至張網(wǎng)機。
[0060]其中，該系統(tǒng)還包括:坐標(biāo)存儲單元，用于存儲移動陣列基板后的像素點在絕對坐標(biāo)系下的坐標(biāo)。
[0061]以上實施方式僅用于說明本發(fā)明，而并非對本發(fā)明的限制，有關(guān)技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍的情況下，還可以做出各種變化和變型，因此所有等同的技術(shù)方案也屬于本發(fā)明的范疇，本發(fā)明的專利保護(hù)范圍應(yīng)由權(quán)利要求限定。
【主權(quán)項】
1.一種用于制作掩模集成框架的對位方法，其特征在于，包括: 以金屬框架的中心為坐標(biāo)原點建立絕對坐標(biāo)系，所述金屬框架的中心與以作為基準(zhǔn)的陣列基板的中心重合； 控制所述陣列基板移動，使像素點在絕對坐標(biāo)系下的坐標(biāo)與所述預(yù)設(shè)的理論值的偏移量小于預(yù)定誤差值； 將移動陣列基板后的像素點在絕對坐標(biāo)系下的坐標(biāo)傳輸至張網(wǎng)機。2.如權(quán)利要求1所述的用于制作掩模集成框架的對位方法，其特征在于，所述控制所述陣列基板移動使像素點在絕對坐標(biāo)系下的坐標(biāo)與所述預(yù)設(shè)的理論值的偏移量小于預(yù)定誤差值的步驟包括: 測量所述陣列基板上的像素點在絕對坐標(biāo)系下的坐標(biāo)與預(yù)設(shè)的理論值的偏移量； 當(dāng)判斷偏移量大于所述預(yù)定誤差值時控制所述陣列基板向像素點偏移的反方向移動所述偏移量的距尚。3.如權(quán)利要求2所述的用于制作掩模集成框架的對位方法，其特征在于，所述測量所述陣列基板上的像素點在絕對坐標(biāo)系下的坐標(biāo)與預(yù)設(shè)的理論值的偏移量包括:在所述陣列基板上每個有效像素陣列中選取至少三個在同一直線上的像素點作為樣本進(jìn)行測量。4.如權(quán)利要求1所述的用于制作掩模集成框架的對位方法，其特征在于，所述預(yù)定誤差值為1.5微米。5.如權(quán)利要求1所述的用于制作掩模集成框架的對位方法，其特征在于，還包括將移動陣列基板后的陣列基板上的對位孔、厚度測試區(qū)域在所述絕對坐標(biāo)系下的坐標(biāo)傳輸至張網(wǎng)機。6.如權(quán)利要求1?5所述的用于制作掩模集成框架的對位方法，其特征在于，還包括存儲移動陣列基板后的像素點在絕對坐標(biāo)系下的坐標(biāo)。7.一種用于制作掩模集成框架的對位系統(tǒng)，其特征在于，包括: 坐標(biāo)系建立單元，用于以金屬框架的中心為坐標(biāo)原點建立絕對坐標(biāo)系，所述金屬框架的中心與以作為基準(zhǔn)的陣列基板的中心重合； 移動控制單元，用于控制所述陣列基板移動，使像素點在絕對坐標(biāo)系下的坐標(biāo)與所述預(yù)設(shè)的理論值的偏移量小于預(yù)定誤差值； 坐標(biāo)傳輸單元，用于將移動陣列基板后的像素點在絕對坐標(biāo)系下的坐標(biāo)傳輸至張網(wǎng)機。8.如權(quán)利要求7所述的用于制作掩模集成框架的對位系統(tǒng)，其特征在于，所述移動控制單元包括: 偏移量測量單元，用于測量所述陣列基板上的像素點在絕對坐標(biāo)系下的坐標(biāo)與預(yù)設(shè)的理論值的偏移量； 判斷移動單元，用于當(dāng)判斷偏移量大于所述預(yù)定誤差值時控制所述陣列基板向像素點偏移的反方向移動所述偏移量的距離。9.如權(quán)利要求8所述的用于制作掩模集成框架的對位系統(tǒng)，其特征在于，所述偏移量測量單元具體用于在所述陣列基板上每個有效像素陣列中選取至少三個在同一直線上的像素點作為樣本進(jìn)行測量。10.如權(quán)利要求7所述的用于制作掩模集成框架的對位系統(tǒng)，其特征在于，所述預(yù)定誤差值為1.5微米。11.如權(quán)利要求7所述的用于制作掩模集成框架的對位系統(tǒng)，其特征在于，所述坐標(biāo)傳輸單元還用于將移動陣列基板后的陣列基板上的對位孔、厚度測試區(qū)域在所述絕對坐標(biāo)系下的坐標(biāo)傳輸至張網(wǎng)機。12.如權(quán)利要求7?11中任一項所述的用于制作掩模集成框架的對位系統(tǒng)，其特征在于，還包括:坐標(biāo)存儲單元，用于存儲移動陣列基板后的像素點在絕對坐標(biāo)系下的坐標(biāo)。
【專利摘要】本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種用于制作掩模集成框架的對位方法，包括：以金屬框架的中心為坐標(biāo)原點建立絕對坐標(biāo)系，所述金屬框架的中心與以作為基準(zhǔn)的陣列基板的中心重合；控制所述陣列基板移動，使像素點在絕對坐標(biāo)系下的坐標(biāo)與所述預(yù)設(shè)的理論值的偏移量小于預(yù)定誤差值；將移動陣列基板后的像素點在絕對坐標(biāo)系下的坐標(biāo)傳輸至張網(wǎng)機。本發(fā)明減小了利用mother glass制作MFA時對位的偏差，降低了最終用該MFA蒸鍍出來的顯示器件會存在不良的風(fēng)險。
【IPC分類】C23C14/24, C23C14/04
【公開號】CN104894510
【申請?zhí)枴緾N201510272246
【發(fā)明人】張新建
【申請人】京東方科技集團(tuán)股份有限公司, 鄂爾多斯市源盛光電有限責(zé)任公司
【公開日】2015年9月9日
【申請日】2015年5月25日