一種真空不連續(xù)濺鍍方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種真空不連續(xù)濺鍍方法。
【背景技術(shù)】
[0002]真空鍍一一真空濺鍍，也可稱磁控濺鍍，屬于高速低溫濺鍍法，在真空狀態(tài)充入惰性氣體氬氣(Ar)，并在塑膠基材(陽極)和金屬靶材(陰極)之間加上高壓直流電，由于輝光放電(glow discharge)產(chǎn)生的電子激發(fā)惰性氣體產(chǎn)生氬氣正離子，正離子向陰極革El材高速運動，將靶材原子轟出，沉積在塑膠基材上形成薄膜。所謂的低溫真空濺鍍(Sputtering)表面鍍膜處理，主要是在金屬、塑膠、玻璃或其他材質(zhì)表面予以鍍膜處理，在一個通電的高真空密閉容器中，注入少許惰性氣體(一般)，氣體將部分被離子化，并于容器內(nèi)形成高濃度電漿，此電漿中的離子被負(fù)電極所吸引而撞擊安裝于電極上面的靶材，進(jìn)行能量轉(zhuǎn)移并將靶材原子一顆顆擠出來，附著于基材上，即稱為真空濺鍍。濺鍍源由固態(tài)變?yōu)殡姖{態(tài)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]鑒于現(xiàn)有技術(shù)中存在的上述問題，本發(fā)明的主要目的在于解決現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，本發(fā)明提供一種成本低、高亮度、金屬質(zhì)感佳且節(jié)能環(huán)保的真空不連續(xù)濺鍍方法。
[0004]本發(fā)明提供了一種真空不連續(xù)濺鍍方法，包括以下步驟:
[0005]S1、裝配前處理:將素材表面雜質(zhì)以及灰塵用布擦拭干凈；
[0006]S2、裝配:將素材裝配于專用治具上，用以固定于流水線上，并按設(shè)計需求實現(xiàn)外觀和功能性的遮鍍；
[0007]S3、上線前處理:將掛件置于流水線上，自動進(jìn)入噴漆房；
[0008]S4、真空濺鍍:將掛件裝配于真空容器內(nèi)，容器中間裝配有適當(dāng)?shù)陌胁碾姌O，實現(xiàn)基材濺鍍，真空濺鍍的時間為10?20分鐘；
[0009]S5、噴面漆:噴面漆作用是為增強濺鍍表面性能，增加附著力和耐磨性，同時面漆可以用宇調(diào)節(jié)表面顏色，得到想要的效果；
[0010]可選的，還包括噴底漆，所述噴底漆設(shè)置在所述步驟S4真空濺鍍的前一道工序，所述噴底漆為在噴漆房內(nèi)對素材的表面進(jìn)行噴底漆處理。
[0011]可選的，還包括噴底漆和噴面漆時廢氣的排放:在所述噴底漆和噴面漆時設(shè)立獨立排放空間，通過活性炭過濾棉經(jīng)過2?4次過濾，再經(jīng)15?22cm厚度活性炭層排出。
[0012]本發(fā)明具有以下優(yōu)點和有益效果:本發(fā)明提供一種真空不連續(xù)濺鍍方法，本工藝不僅具有低成本、高亮度、金屬質(zhì)感佳的優(yōu)點，因有別于傳統(tǒng)水電鍍模式，因此具有環(huán)保(不需要使用水源；及沒有使用任何危害危化類物質(zhì)；更無有毒有害氣體的對空排放)、并具可回收等特性，材料可循環(huán)使用。其應(yīng)用范圍涵括行動電話外殼、筆記型電腦EMIShielding(防電磁波干擾)鍍膜處理及外觀鍍膜、感溫棒表面處理、按鍵鍍膜鐳雕、觸控面板薄膜處理、導(dǎo)光板鍍膜處理、ITO導(dǎo)電玻璃薄膜處理、光電傳輸光柵處理、金屬反射膜、光學(xué)鏡片鍍膜、塑膠材料渡線路板、軟性PCB前段制成、液晶顯示器鍍膜處理、OLED鍍膜處理、PLED鍍膜處理、PDP鍍膜處理、DffDM鍍膜處理、微機光電材料及耐米材料等等，其用途極為廣泛；本工藝?yán)幂x光放電(glow discharge)將氬(Ar)氣離子撞擊革E材(target)表面，靶材的原子被彈出而堆積在基板表面形成薄膜。濺鍍薄膜的性質(zhì)、均勻度都比蒸鍍薄膜好，但是鍍膜速度卻比蒸鍍慢很多。新型的濺鍍設(shè)備幾乎都使用強力磁鐵將電子成螺旋狀運動以加速靶材周圍的氬氣離子化，造成靶與氬氣離子間的撞擊機率增加，提高濺鍍速率。一般金屬鍍膜大都釆用直流濺鍍，而不導(dǎo)電的陶磁材料則使用RF交流濺鍍，基本的原理是在真空中利用輝光放電(glow discharge)將氬氣離子撞擊靶材表面，電漿中的陽離子會加速沖向作為被濺鍍材的負(fù)電極表面，這個沖擊將使靶材的物質(zhì)飛出而沉積在基板上形成薄膜。
【具體實施方式】
[0013]下面將參照具體實施例對本發(fā)明作進(jìn)一步的說明。
[0014]本發(fā)明實施例的一種真空不連續(xù)濺鍍方法，包括以下步驟:S1、裝配前處理:將素材表面雜質(zhì)以及灰塵用布擦拭干凈；S2、裝配:將素材裝配于專用治具上，用以固定于流水線上，并按設(shè)計需求實現(xiàn)外觀和功能性的遮鍍；S3、上線前處理:將掛件置于流水線上，自動進(jìn)入噴漆房；S4、、真空濺鍍:將掛件裝配于真空容器內(nèi)，容器中間裝配有適當(dāng)?shù)陌胁碾姌O，實現(xiàn)基材濺鍍，真空濺鍍的時間為10?20分鐘；S5、噴面漆:噴面漆作用是為增強濺鍍表面性能，增加附著力和耐磨性，同時面漆可以用宇調(diào)節(jié)表面顏色，得到想要的效果；本工藝不僅具有低成本、高亮度、金屬質(zhì)感佳的優(yōu)點，因有別于傳統(tǒng)水電鍍模式，因此具有環(huán)保(不需要使用水源；及沒有使用任何危害危化類物質(zhì)；更無有毒有害氣體的對空排放)、并具可回收等特性，材料可循環(huán)使用。其應(yīng)用范圍涵括行動電話外殼、筆記型電腦EMIShielding(防電磁波干擾)鍍膜處理及外觀鍍膜、感溫棒表面處理、按鍵鍍膜鐳雕、觸控面板薄膜處理、導(dǎo)光板鍍膜處理、ITO導(dǎo)電玻璃薄膜處理、光電傳輸光柵處理、金屬反射膜、光學(xué)鏡片鍍膜、塑膠材料渡線路板、軟性PCB前段制成、液晶顯示器鍍膜處理、OLED鍍膜處理、PLED鍍膜處理、PDP鍍膜處理、DffDM鍍膜處理、微機光電材料及耐米材料等等，其用途極為廣泛；本工藝?yán)幂x光放電(glow discharge)將氬(Ar)氣離子撞擊革E材(target)表面，靶材的原子被彈出而堆積在基板表面形成薄膜。濺鍍薄膜的性質(zhì)、均勻度都比蒸鍍薄膜好，但是鍍膜速度卻比蒸鍍慢很多。新型的濺鍍設(shè)備幾乎都使用強力磁鐵將電子成螺旋狀運動以加速靶材周圍的氬氣離子化，造成靶與氬氣離子間的撞擊機率增加，提高濺鍍速率。一般金屬鍍膜大都釆用直流濺鍍，而不導(dǎo)電的陶磁材料則使用RF交流濺鍍，基本的原理是在真空中利用輝光放電(glow discharge)將氬氣離