專利名稱：柔性卷繞鍍膜機(jī)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及在柔性基材上進(jìn)行卷繞鍍膜的設(shè)備。
低輻射膜系是一種應(yīng)用廣泛的膜系。通常，它是以玻璃為基材進(jìn)行鍍膜。其鍍膜設(shè)備的主體是水平設(shè)置的相互獨立的靶室。每一靶室完成一膜層的鍍膜。顯然，用此種設(shè)備進(jìn)行鍍膜，其生產(chǎn)是不能連續(xù)的，生產(chǎn)效率不高。并且鍍膜的尺寸受到靶室尺寸大小的限制。另一方面，現(xiàn)有技術(shù)中有進(jìn)行柔性卷繞鍍膜的設(shè)備，如日本真空株式會社生產(chǎn)的柔性卷繞鍍膜機(jī)。該設(shè)備主要包括卷繞室，鍍膜室和輔助裝置。卷繞室由收卷輥，放卷輥等組成，完成柔性基材的收放過程；鍍膜室主要由蒸發(fā)源和供氣管組成，完成鍍膜工藝；輔助裝置包括抽氣裝置，冷卻裝置等。但是這種設(shè)備只能夠鍍一層膜。
本實用新型目的是提供一種能在柔性基材上實現(xiàn)低輻射膜連續(xù)鍍的設(shè)備。
本實用新型技術(shù)方案是在鍍膜室中圍繞冷卻輥設(shè)置有多個磁控濺射靶，每兩個磁控濺射靶之間設(shè)置有隔離槽，該隔離槽與抽氣裝置連通，在隔離槽上設(shè)有排氣孔與靶室相通；隔離槽與冷卻輥之間的距離不大于10mm；每一磁控濺射靶配有獨立的布?xì)夤堋?br> 在柔性基材上鍍低輻射膜，必須采用卷繞式多靶位連續(xù)鍍，而且膜系中各層要求界面清晰，其中的金屬層(大多是Ag)務(wù)必不能氧化，因此要求氣氛的控制和隔離成了本裝置的關(guān)鍵問題。本實用新型中，卷繞室和鍍膜室是隔離的。由于隔離槽與冷卻輥之間的距離不大于10mm，加上每一磁控濺射靶配有獨立的布?xì)夤芎透綦x槽上開設(shè)的排氣孔，使得各靶室之間不串氣，可順利實現(xiàn)多層的連續(xù)鍍。至于靶室的數(shù)量由具體的鍍膜工藝決定。例如，對于TiO2-Ag-TiO2膜系，至少需要三個靶室。
進(jìn)一步的改進(jìn)是針對靶室內(nèi)的氣流控制，本實用新型中在隔離槽中設(shè)有抽氣隧道，該抽氣隧道與抽氣裝置連通，抽氣隧道上開設(shè)有排氣孔與隔離槽相通。這樣，減少了抽氣裝置對靶室內(nèi)氣氛的影響，這樣的設(shè)計能增加供氣的均勻性，提高膜層的質(zhì)量。
在每一隔離槽與冷卻輥之間還設(shè)有定擋板。該定擋板遮擋在膜層之上，使得卷繞的膜層在通過定擋板所覆蓋的這一段時，不會有鍍膜形成，也就是進(jìn)一步保證了各膜層之間的界面清晰。
在對鍍層監(jiān)控方面，本實用新型采用直接測量膜層光學(xué)性質(zhì)的探頭，而不是傳統(tǒng)的對膜層厚度進(jìn)行測量的方法。在卷繞鍍過程中，分別監(jiān)控各層膜厚度是無法實施的，并且監(jiān)控系統(tǒng)將非常復(fù)雜。而通過監(jiān)控膜層的最終性能，能反映各膜層厚的情況，以便能隨時有效地調(diào)整膜層厚度。
本實用新型提供的柔性卷繞鍍膜機(jī)，能實現(xiàn)在柔性基材上進(jìn)行低輻射膜的連續(xù)鍍。


圖1是本實用新型實施例的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是本實用新型實施例中隔離槽的剖視圖；圖3是本實用新型實施例中隔離槽的截面圖。
實施例如
圖1所示，本實用新型實施例由卷繞室2和鍍膜室17等組成，卷繞室2與鍍膜室17之間用中隔板9隔開。卷繞室2中設(shè)置有收卷輥3和放卷輥1，各自配置有一組導(dǎo)向輥6，張力輥7，壓輥8，在靠近放卷輥1的一側(cè)設(shè)有離子清洗器18，對鍍膜前的柔性基材進(jìn)行清洗。在靠近收卷輥3的一側(cè)設(shè)有測量膜層透光率的監(jiān)控探頭4。卷繞室2的外殼上開有觀察窗5。鍍膜室17中設(shè)置有冷卻輥15，圍繞冷卻輥設(shè)置有5個磁控濺射靶10。各靶的靶源根據(jù)實際鍍膜工藝要求而定。每一磁控濺射靶10配有獨立的布?xì)夤?3。兩靶之間設(shè)置有隔離槽14。隔離槽14與冷卻輥15之間設(shè)有定擋板11。在隔離槽14上與靶室12相接觸的面和與冷卻輥15相對的面上各設(shè)有一排抽氣孔21，22，23，如圖2，3中所示。在隔離槽14內(nèi)還設(shè)有抽氣隧道16。在抽氣隧道16上也開設(shè)有一排抽氣孔20。該抽氣隧道16與抽氣裝置相通。
權(quán)利要求1.柔性卷繞鍍膜機(jī)，包括卷繞室和鍍膜室以及輔助裝置，其特征在于在鍍膜室中圍繞冷卻輥設(shè)置有多個磁控濺射靶，每兩個磁控濺射靶之間設(shè)置有隔離槽，該隔離槽與抽氣裝置聯(lián)通，在隔離槽上設(shè)有排氣孔與靶室相通；隔離槽與冷卻輥之間的距離不大于10mm；每一磁控濺射靶配有獨立的布?xì)夤堋?br> 2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的柔性卷繞鍍膜機(jī)，其特征在于在隔離槽中設(shè)有抽氣隧道，該抽氣隧道上也開設(shè)有排氣孔與隔離槽相通；抽氣隧道與抽氣裝置相通。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的柔性卷繞鍍膜機(jī)，其特征在于在卷繞室中設(shè)置有直接測量所鍍膜系透光率的探頭。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的柔性卷繞鍍膜機(jī)，其特征在于在每一隔離槽與冷卻輥之間設(shè)有一定擋板。
專利摘要本實用新型涉及一種柔性卷繞鍍膜機(jī)。它是由卷繞室,鍍膜室以及輔助裝置組成;在鍍膜室中圍繞冷卻輥設(shè)置有多個磁控濺射靶。兩個靶之間設(shè)置有隔離槽,隔離槽與抽氣裝置相通,隔離槽與冷卻輥之間的距離不大于10mm;每個靶配置有獨立的布?xì)夤堋１緦嵱眯滦蛯崿F(xiàn)了在柔性材料上進(jìn)行低輻射膜的連續(xù)鍍。
文檔編號C23C14/56GK2339589SQ98231060
公開日1999年9月22日 申請日期1998年7月15日 優(yōu)先權(quán)日1998年7月15日
發(fā)明者彭傳才, 黃廣連, 曹志剛, 胡云慧, 余圣發(fā), 魏敏, 李京增 申請人:長沙國防科技大學(xué)八達(dá)薄膜電子技術(shù)研究所