本技術(shù)涉及水冷結(jié)構(gòu)相關(guān)，具體為一種mpcvd化學(xué)氣相沉積設(shè)備的水冷結(jié)構(gòu)。

背景技術(shù)：

1、化學(xué)氣相沉積是一種利用氣態(tài)或蒸汽態(tài)的物質(zhì)在氣相或氣固界面上發(fā)生反應(yīng)生成固態(tài)沉積物的化工技術(shù)，化學(xué)氣相沉積技術(shù)在多個領(lǐng)域都有廣泛應(yīng)用，如復(fù)合材料制備、微電子學(xué)工藝、半導(dǎo)體光電技術(shù)、太陽能利用、光纖通信、超子導(dǎo)技術(shù)以及保護(hù)涂層等，化學(xué)氣相沉積設(shè)備中加入水冷結(jié)構(gòu)，主要是為了控制設(shè)備在工作過程中產(chǎn)生的熱量，確保設(shè)備的穩(wěn)定運行和延長其使用壽命。

2、在現(xiàn)有的化學(xué)氣相沉積設(shè)備的水冷結(jié)構(gòu)中，沒有將水資源進(jìn)行循壞，增加了水資源的消耗，對水資源的環(huán)保節(jié)能效果有一定的影響，因此需要提出一種mpcvd化學(xué)氣相沉積設(shè)備的水冷結(jié)構(gòu)。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本實用新型的目的在于提供一種mpcvd化學(xué)氣相沉積設(shè)備的水冷結(jié)構(gòu)，以解決上述背景技術(shù)中提出的問題。

2、為實現(xiàn)上述目的，本實用新型提供如下技術(shù)方案：一種mpcvd化學(xué)氣相沉積設(shè)備的水冷結(jié)構(gòu)，包括底板，所述底板的上方固定有有外殼，所述外殼的下方一側(cè)設(shè)置有進(jìn)水口，所述外殼的上方一側(cè)設(shè)置有出水口，所述外殼的內(nèi)側(cè)安裝有化學(xué)氣相沉積爐，所述化學(xué)氣相沉積爐的外側(cè)纏繞有冷卻管，所述外殼的上方安裝有端蓋，所述端蓋的上方貫穿有第一螺栓，所述進(jìn)水口的一側(cè)安裝有第一軟管，所述第一軟管的一側(cè)安裝有水泵，所述水泵的一側(cè)安裝有冷卻箱，所述出水口的一側(cè)安裝有第二軟管，所述第二軟管的一側(cè)安裝有冷卻板，所述冷卻板的兩側(cè)均固定有密封套，所述冷卻板的一側(cè)安裝有風(fēng)機(jī)，所述風(fēng)機(jī)的兩側(cè)均貫穿有第二螺栓，所述冷卻板的一側(cè)固定有散熱鰭片。

3、優(yōu)選的，所述端蓋通過第一螺栓與外殼螺紋連接，所述第一螺栓在端蓋的上方呈圓周分布。

4、優(yōu)選的，所述密封套以冷卻板的中軸線對稱設(shè)置，所述密封套的內(nèi)徑與第二軟管的外徑相吻合。

5、優(yōu)選的，所述風(fēng)機(jī)通過第二螺栓與冷卻板螺紋連接，所述第二螺栓以冷卻板的中軸線對稱設(shè)置。

6、優(yōu)選的，所述散熱鰭片在冷卻板的一側(cè)呈等間距設(shè)置，所述散熱鰭片與風(fēng)機(jī)配合使用。

7、優(yōu)選的，所述冷卻板的一側(cè)安裝有回流管，所述回流管的一側(cè)貫穿至冷卻箱的內(nèi)側(cè)。

8、優(yōu)選的，所述冷卻板的內(nèi)側(cè)開設(shè)有水槽，所述冷卻板的兩側(cè)均開設(shè)有螺孔。

9、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型的有益效果是：

10、1.該一種mpcvd化學(xué)氣相沉積設(shè)備的水冷結(jié)構(gòu)，通過冷卻板、風(fēng)機(jī)、第二螺栓、散熱鰭片、回流管和水槽的配合使用，在該裝置的使用過程中通過通過將水進(jìn)入冷卻板中的水槽里，打開風(fēng)機(jī)的開關(guān)，使得風(fēng)機(jī)和散熱鰭片配合對冷卻板中的水進(jìn)行降溫，接著冷卻后的水通過回流管進(jìn)入到冷卻箱中，通過水資源的再循環(huán)能夠?qū)崿F(xiàn)高效的水資源的利用，減少水資源的消耗，進(jìn)而節(jié)省了水資源，提高了水資源的環(huán)保節(jié)能效果；

11、2.該一種mpcvd化學(xué)氣相沉積設(shè)備的水冷結(jié)構(gòu)，通過冷卻板和密封套的設(shè)置，在該裝置的使用過程中通過將密封套固定在冷卻板的兩側(cè)，防止第二軟管和回流管的水從冷卻板的兩側(cè)連接處中泄漏出來，避免因泄漏導(dǎo)致的水冷結(jié)構(gòu)出現(xiàn)故障，使得水冷結(jié)構(gòu)對化學(xué)氣相沉積爐能夠進(jìn)行正常散熱，延長了水冷結(jié)構(gòu)的使用壽命；

12、3.該一種mpcvd化學(xué)氣相沉積設(shè)備的水冷結(jié)構(gòu)，通過散熱鰭片和風(fēng)機(jī)的設(shè)置，在該裝置的使用過程中通過打開風(fēng)機(jī)的開關(guān)，使得散熱鰭片和風(fēng)機(jī)配合對冷卻板中的水進(jìn)行散熱，散熱鰭片和風(fēng)機(jī)的同時散熱加快了冷卻板中的水的冷卻，提高了散熱效率。

技術(shù)特征：

1.一種mpcvd化學(xué)氣相沉積設(shè)備的水冷結(jié)構(gòu)，包括底板(1)，其特征在于：所述底板(1)的上方固定有有外殼(2)，所述外殼(2)的下方一側(cè)設(shè)置有進(jìn)水口(3)，所述外殼(2)的上方一側(cè)設(shè)置有出水口(4)，所述外殼(2)的內(nèi)側(cè)安裝有化學(xué)氣相沉積爐(5)，所述化學(xué)氣相沉積爐(5)的外側(cè)纏繞有冷卻管(6)，所述外殼(2)的上方安裝有端蓋(7)，所述端蓋(7)的上方貫穿有第一螺栓(8)，所述進(jìn)水口(3)的一側(cè)安裝有第一軟管(9)，所述第一軟管(9)的一側(cè)安裝有水泵(10)，所述水泵(10)的一側(cè)安裝有冷卻箱(11)，所述出水口(4)的一側(cè)安裝有第二軟管(12)，所述第二軟管(12)的一側(cè)安裝有冷卻板(13)，所述冷卻板(13)的兩側(cè)均固定有密封套(14)，所述冷卻板(13)的一側(cè)安裝有風(fēng)機(jī)(15)，所述風(fēng)機(jī)(15)的兩側(cè)均貫穿有第二螺栓(16)，所述冷卻板(13)的一側(cè)固定有散熱鰭片(17)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種mpcvd化學(xué)氣相沉積設(shè)備的水冷結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述端蓋(7)通過第一螺栓(8)與外殼(2)螺紋連接，所述第一螺栓(8)在端蓋(7)的上方呈圓周分布。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種mpcvd化學(xué)氣相沉積設(shè)備的水冷結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述密封套(14)以冷卻板(13)的中軸線對稱設(shè)置，所述密封套(14)的內(nèi)徑與第二軟管(12)的外徑相吻合。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種mpcvd化學(xué)氣相沉積設(shè)備的水冷結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述風(fēng)機(jī)(15)通過第二螺栓(16)與冷卻板(13)螺紋連接，所述第二螺栓(16)以冷卻板(13)的中軸線對稱設(shè)置。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種mpcvd化學(xué)氣相沉積設(shè)備的水冷結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述散熱鰭片(17)在冷卻板(13)的一側(cè)呈等間距設(shè)置，所述散熱鰭片(17)與風(fēng)機(jī)(15)配合使用。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種mpcvd化學(xué)氣相沉積設(shè)備的水冷結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述冷卻板(13)的一側(cè)安裝有回流管(18)，所述回流管(18)的一側(cè)貫穿至冷卻箱(11)的內(nèi)側(cè)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種mpcvd化學(xué)氣相沉積設(shè)備的水冷結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述冷卻板(13)的內(nèi)側(cè)開設(shè)有水槽(19)，所述冷卻板(13)的兩側(cè)均開設(shè)有螺孔(20)。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)公開了一種MPCVD化學(xué)氣相沉積設(shè)備的水冷結(jié)構(gòu)，包括底板，所述底板的上方固定有有外殼，所述外殼的下方一側(cè)設(shè)置有進(jìn)水口，所述外殼的上方一側(cè)設(shè)置有出水口，所述外殼的內(nèi)側(cè)安裝有化學(xué)氣相沉積爐，所述化學(xué)氣相沉積爐的外側(cè)纏繞有冷卻管；該一種MPCVD化學(xué)氣相沉積設(shè)備的水冷結(jié)構(gòu)，通過冷卻板、風(fēng)機(jī)、第二螺栓、散熱鰭片、回流管和水槽的配合使用，在該裝置的使用過程中通過通過將水進(jìn)入冷卻板中的水槽里，打開風(fēng)機(jī)的開關(guān)，使得風(fēng)機(jī)和散熱鰭片配合對冷卻板中的水進(jìn)行降溫，接著冷卻后的水通過回流管進(jìn)入到冷卻箱中，通過水資源的再循環(huán)能夠?qū)崿F(xiàn)高效的水資源的利用，減少水資源的消耗，進(jìn)而節(jié)省了水資源，提高了水資源的環(huán)保節(jié)能效果。

技術(shù)研發(fā)人員：梁奇,湯磊,陳波
受保護(hù)的技術(shù)使用者：北京芯美達(dá)科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240527
技術(shù)公布日：2025/1/9