本公開涉及紅外鍍膜，更具體地涉及一種硫化鋅基底反射1064nm波長同時透射7.7-10.5μm波段的雙頻光學薄膜的制備方法。

背景技術：

技術實現(xiàn)思路

1、鑒于背景技術中存在的問題，本公開的一目的在于提供一種硫化鋅基底反射1064nm波長同時透射7.7-10.5μm波段的雙頻光學薄膜的制備方法，其能夠用于實現(xiàn)在1064nm波長的高反射率和在7.7-10.5μm波段的高透過率。

2、本公開的另一目的在于提供一種硫化鋅基底反射1064nm波長同時透射7.7-10.5μm波段的雙頻光學薄膜的制備方法，其能夠符合gjb2485a-2019驗收。

3、由此，一種硫化鋅基底反射1064nm波長同時透射7.7-10.5μm波段的雙頻光學薄膜的制備方法包括步驟：s1，鍍前針對作為鏡片的硫化鋅基底的陪鍍片和產(chǎn)品進行清潔及ybf3、znse兩種膜料準備工作；s2，清潔處理好的鏡片放入工裝夾具，放好鏡片的工裝夾具掛入鍍膜機的腔體內，抽真空烘烤以及膜料預熔；s3，離子源清洗鏡片；s4，在真空條件下在鏡片的第一面依次鍍制第一層ybf3膜層、第二層znse膜層、第三層ybf3膜層、第四層znse膜層、第五層ybf3膜層、第六層znse膜層、第七層ybf3膜層、第八層znse膜層、第九層ybf3膜層、第十層znse膜層、第十一層ybf3膜層、第十二層znse膜層、第十三層ybf3膜層、第十四層znse膜層、第十五層ybf3膜層、第十六層znse膜層、第十七層ybf3膜層、第十八層znse膜層，十八層膜層構成高反射膜系，十八層膜層均使用離子源輔助沉積；s5，鍍后恒溫保持；s6，冷卻取件；s7，重復步驟s1至步驟s3；s8，在真空條件下在鏡片的第二面依次鍍制第一層ybf3膜層、第二層znse膜層、第三層ybf3膜層、第四層znse膜層、第五層ybf3膜層、第六層znse膜層，六層膜層構成增透膜系，六層膜層均使用離子源輔助沉積；s9，重復步驟s5和步驟s6。

4、本公開的有益效果如下。

5、在根據(jù)本公開的硫化鋅基底反射1064nm波長同時透射7.7-10.5μm波段的雙頻光學薄膜的制備方法，通過采用ybf3、znse兩種膜料、ybf3和znse在第一面形成交替的第一層至第十八層(即(lh)p，p＝9，l代表低折射率的ybf3，h代表高折射率的znse)構成的高反射膜系、ybf3和znse在第二面形成交替的第一層至第六層(即(lh)q，q＝3，l代表低折射率的ybf3，h代表高折射率的znse)構成的增透膜系，如測試過程所驗證地，能夠用于實現(xiàn)在1064nm波長的高反射率和在7.7-10.5μm波段的高透過率，例如，在1064nm波長的反射率為超過99％，在7.7-10.5μm波段的平均透過率超過97.3％

6、在根據(jù)本公開的硫化鋅基底反射1064nm波長同時透射7.7-10.5μm波段的雙頻光學薄膜的制備方法，通過采用ybf3、znse兩種膜料、通過采用ybf3、znse兩種膜料、ybf3和znse在第一面形成交替的第一層至第十八層且第一層至第十八層均使用離子源輔助沉積、以及ybf3和znse在第二面形成交替的第一層至第六層且第一層至第六層均使用離子源輔助沉積，能夠符合gjb2485a-2019驗收。

技術特征：

1.一種硫化鋅基底反射1064nm波長同時透射7.7-10.5μm波段的雙頻光學薄膜的制備方法，其特征在于，包括步驟：

2.根據(jù)權利要求1所述的硫化鋅基底反射1064nm波長同時透射7.7-10.5μm波段的雙頻光學薄膜的制備方法，其特征在于，

3.根據(jù)權利要求1所述的硫化鋅基底反射1064nm波長同時透射7.7-10.5μm波段的雙頻光學薄膜的制備方法，其特征在于，

4.根據(jù)權利要求1所述的硫化鋅基底反射1064nm波長同時透射7.7-10.5μm波段的雙頻光學薄膜的制備方法，其特征在于，

5.根據(jù)權利要求1所述的硫化鋅基底反射1064nm波長同時透射7.7-10.5μm波段的雙頻光學薄膜的制備方法，其特征在于，

6.根據(jù)權利要求1所述的硫化鋅基底反射1064nm波長同時透射7.7-10.5μm波段的雙頻光學薄膜的制備方法，其特征在于，

7.根據(jù)權利要求1所述的硫化鋅基底反射1064nm波長同時透射7.7-10.5μm波段的雙頻光學薄膜的制備方法，其特征在于，

8.根據(jù)權利要求1所述的硫化鋅基底反射1064nm波長同時透射7.7-10.5μm波段的雙頻光學薄膜的制備方法，其特征在于，

9.根據(jù)權利要求1所述的硫化鋅基底反射1064nm波長同時透射7.7-10.5μm波段的雙頻光學薄膜的制備方法，其特征在于，

10.根據(jù)權利要求1所述的硫化鋅基底反射1064nm波長同時透射7.7-10.5μm波段的雙頻光學薄膜的制備方法，其特征在于，

技術總結
一種硫化鋅基底反射1064nm波長同時透射7.7?10.5μm波段的雙頻光學薄膜的制備方法包括：S1，清潔及料準備；S2，抽真空烘烤及預熔；S3，離子源清洗；S4，真空下第一面鍍第一層YbF<subgt;3</subgt;膜層、第二層ZnSe膜層、第三層YbF<subgt;3</subgt;膜層、第四層ZnSe膜層、第五層YbF<subgt;3</subgt;膜層、第六層ZnSe膜層、第七層YbF<subgt;3</subgt;膜層、第八層ZnSe膜層、第九層YbF<subgt;3</subgt;膜層、第十層ZnSe膜層、第十一層YbF<subgt;3</subgt;膜層、第十二層ZnSe膜層、第十三層YbF<subgt;3</subgt;膜層、第十四層ZnSe膜層、第十五層YbF<subgt;3</subgt;膜層、第十六層ZnSe膜層、第十七層YbF<subgt;3</subgt;膜層、第十八層ZnSe膜層，離子源輔助；S5，鍍后恒溫保持；S6，冷卻取件；S7，重復S1?S3；S8，真空下第二面鍍第一層YbF<subgt;3</subgt;膜層、第二層ZnSe膜層、第三層YbF<subgt;3</subgt;膜層、第四層ZnSe膜層、第五層YbF<subgt;3</subgt;膜層、第六層ZnSe膜層，離子源輔助；S9，重復S5、S6。

技術研發(fā)人員：王振,劉克武,蔡宇軒,梁獻波
受保護的技術使用者：安徽光智科技有限公司
技術研發(fā)日：
技術公布日：2025/1/9