本發(fā)明涉及蒸鍍技術領域，尤其是涉及一種蒸鍍系統(tǒng)和蒸鍍系統(tǒng)的蒸鍍方法。

背景技術：

相關技術中，蒸鍍系統(tǒng)的子蒸鍍腔位于傳送裝置的兩側，并通過機械手做旋轉運動在子蒸鍍腔之間、子蒸鍍腔與傳送腔室之間傳遞工件，整個蒸鍍系統(tǒng)中的機械手數(shù)量多，占用空間大且操作復雜，同時蒸鍍系統(tǒng)的空間利用率不高，空間浪費現(xiàn)象嚴重、布局不合理。

技術實現(xiàn)要素：

本發(fā)明旨在至少解決現(xiàn)有技術中存在的技術問題之一。為此，本發(fā)明提出一種蒸鍍系統(tǒng)，所述蒸鍍系統(tǒng)的布局合理、操作簡單。

本發(fā)明的另一個目的在于提出了一種蒸鍍系統(tǒng)的蒸鍍方法。

根據(jù)本發(fā)明第一方面實施例的蒸鍍系統(tǒng)，包括：至少一條蒸鍍線，每條所述蒸鍍線包括蒸鍍腔室，所述蒸鍍腔室包括多個子蒸鍍腔，多個所述子蒸鍍腔依次相連，所述蒸鍍腔室的一端形成有蒸鍍線入口、另一端形成有蒸鍍線出口，所述子蒸鍍腔內(nèi)設有蒸發(fā)源組件；第一傳送軌道，所述第一傳送軌道穿設在所述蒸鍍線入口和所述蒸鍍線出口之間，所述第一傳送軌道位于所述蒸發(fā)源組件的上方；托盤，所述托盤包括用于放置工件的托架，所述托盤可移動地設在所述第一傳送軌道上以在所述蒸鍍線入口和所述蒸鍍線出口之間傳送所述工件使所述蒸發(fā)源組件對所述工件進行蒸鍍。

根據(jù)本發(fā)明實施例的蒸鍍系統(tǒng)，通過使得蒸鍍腔室的多個子蒸鍍腔依次相連，并在蒸鍍系統(tǒng)中設置第一傳送軌道和托盤，使得托盤在第一傳送軌道上移動以在各子蒸鍍腔傳遞工件，省去了相關技術中設置在各子蒸鍍腔之間用于傳遞工件的機械手和機械手在各子蒸鍍腔之間的傳遞工序，簡化了操作步驟，降低了工件在傳遞過程中破碎的風險，減小了工件與正常蒸鍍位置之間的偏差，降低了對位工序的難度，同時優(yōu)化了蒸鍍線的布局，提高了空間利用率，使得蒸鍍線的結構更加緊湊、布局更加合理，減小了蒸鍍系統(tǒng)的整體占用空間和成本。

根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，所述蒸鍍系統(tǒng)還包括：第二傳送軌道，所述第二傳送軌道設在所述蒸鍍腔室外，所述第二傳送軌道與所述第一傳送軌道圍成環(huán)形軌道以使所述托盤在所述蒸鍍線入口和所述蒸鍍線出口之間循環(huán)移動。

根據(jù)本發(fā)明的一些具體實施例，所述蒸鍍線為多條，所述第二傳送軌道連接在相鄰的兩條所述蒸鍍線之間，所述第二傳送軌道的一端與相鄰的兩條所述蒸鍍線中的其中一條所述蒸鍍線的所述蒸鍍線出口相連、另一端與相鄰的兩條所述蒸鍍線中的另一條所述蒸鍍線的所述蒸鍍線入口相連以在多條所述蒸鍍線之間形成所述環(huán)形軌道。

根據(jù)本發(fā)明的另一些具體實施例，所述第二傳送軌道連接在每條所述蒸鍍線的所述蒸鍍線出口和所述蒸鍍線入口之間以在每條所述蒸鍍線之間形成所述環(huán)形軌道。

可選地，所述環(huán)形軌道形成為多邊形軌道。

根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，多條所述蒸鍍線的所述第一傳送軌道和所述第二傳送軌道圍成方形的所述環(huán)形軌道。

具體地，所述蒸鍍線為兩條，兩條所述蒸鍍線的所述蒸鍍腔室相互平行，且兩條所述蒸鍍線中的所述工件的移動方向相反。

可選地，所述第一傳送軌道和所述第二傳送軌道均為滾珠絲杠導軌。

根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，所述蒸鍍線還包括：入口過渡腔，所述入口過渡腔位于所述蒸鍍線入口的上游，所述入口過渡腔和所述蒸鍍線入口之間設有至少一個第一對位機構，所述第一對位機構被構造成對所述工件進行預對位。

進一步地，所述蒸鍍線還包括：掩膜板，所述掩膜板設在所述工件和所述蒸發(fā)源組件之間；至少一個所述子蒸鍍腔內(nèi)設有第二對位機構，所述第二對位機構被構造成對所述工件進行對位以使所述工件的待蒸鍍區(qū)對準所述掩膜板的圖案。

具體地，所述第二對位機構包括：對位板，所述對位板位于所述第一傳送軌道的上方，所述對位板的上設有向下延伸的對位部；控制器，所述控制器與所述對位板相連，所述控制器被構造成控制所述對位板移動以使所述對位部對所述工件進行對位；和

彈性調節(jié)機構，所述彈性調節(jié)機構設在所述托盤的底部。

具體地，所述托盤還包括側邊，所述側邊連接在所述托架的外邊緣，所述工件的上表面低于所述側邊的上端面。

根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，所述對位部為兩個，兩個所述對位部間隔設置，且在從上到下的方向上，兩個所述對位部彼此相對的一側表面分別朝向遠離彼此的方向傾斜延伸。

根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，所述蒸鍍線還包括：多個掩膜板室，每個所述掩膜板室內(nèi)設有多個掩膜板，多個所述掩膜板室與多個所述子蒸鍍腔一一對應，所述掩膜板室和與其對應的所述子蒸鍍腔之間設有連通通道，所述掩膜板在所述連通通道內(nèi)可移動以對所述子蒸鍍腔內(nèi)的所述掩膜板進行更換；

更換裝置，所述更換裝置在所述掩膜板室和與其對應的所述子蒸鍍腔之間可移動，所述更換裝置被構造成將所述子蒸鍍腔內(nèi)的所述掩膜板取出并將所述掩膜板室內(nèi)的所述掩膜板運輸?shù)剿鲎诱翦兦粌?nèi)以更換所述子蒸鍍腔內(nèi)的所述掩膜板。

具體地，所述更換裝置包括推拉桿，所述推拉桿在所述掩膜板室和與其對應的所述子蒸鍍腔之間可移動，所述掩膜板的鄰近所述推拉桿的側壁上設有配合孔，所述推拉桿適于伸入所述配合孔內(nèi)以在所述推拉桿移動時帶動所述掩膜板移動。

根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，至少一個所述子蒸鍍腔內(nèi)的所述蒸發(fā)源組件包括多個蒸發(fā)源，多個所述蒸發(fā)源中的至少一個為備用蒸發(fā)源。

具體地，相鄰的兩個所述子蒸鍍腔之間設有閘門，所述閘門在打開狀態(tài)和關閉狀態(tài)之間可切換，所述閘門處于所述打開狀態(tài)下所述托盤從兩個所述子蒸鍍腔中的其中一個內(nèi)移動至兩個所述子蒸鍍腔中的另一個內(nèi)。

可選地，至少一條所述蒸鍍線的多個所述子蒸鍍腔呈一字形排列，或者呈折線形排列，或者呈蜂窩狀環(huán)形排列。

根據(jù)本發(fā)明第二方面實施例的蒸鍍系統(tǒng)的蒸鍍方法，包括以下步驟：將所述工件放置在所述蒸鍍線入口處的所述托盤上；所述工件隨所述托盤進入所述蒸鍍腔室并在多個所述子蒸鍍腔之間依次移動以對所述工件進行蒸鍍；蒸鍍后的所述工件隨所述托盤移動至所述蒸鍍線出口外；將蒸鍍后的所述工件從所述托盤中取出，并將所述工件送至下一個工序。

根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，所述工件隨所述托盤進入所述蒸鍍腔室前，還包括以下步驟：對所述工件進行預對位。

進一步地，所述工件進入所述子蒸鍍腔內(nèi)后、對所述工件進行蒸鍍前，還包括以下步驟：對所述工件進行精對位。

根據(jù)本發(fā)明的一些具體實施例，將蒸鍍后的所述工件從所述托盤中取出后，還包括以下步驟：所述托盤從所述蒸鍍線出口處移動至所述蒸鍍線入口處。

根據(jù)本發(fā)明第二方面實施例的蒸鍍系統(tǒng)的蒸鍍方法，通過托盤帶著工件在第一傳送軌道上移動以使工件在各子蒸鍍腔之間傳遞，省去了相關技術中設置在各子蒸鍍腔之間用于傳遞工件的機械手和機械手在各子蒸鍍腔之間的傳遞工序，簡化了操作步驟，降低了工件在傳遞過程中破碎的風險，減小了工件與正常蒸鍍位置之間的偏差，降低了對位工序的難度，同時優(yōu)化了蒸鍍線的布局，提高了空間利用率，使得蒸鍍線的結構更加緊湊、布局更加合理，減小了蒸鍍系統(tǒng)的整體占用空間和成本。

本發(fā)明的附加方面和優(yōu)點將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或通過本發(fā)明的實踐了解到。

附圖說明

本發(fā)明的上述和/或附加的方面和優(yōu)點從結合下面附圖對實施例的描述中將變得明顯和容易理解，其中：

圖1是根據(jù)本發(fā)明實施例的蒸鍍系統(tǒng)的產(chǎn)線布局示意圖；

圖2是根據(jù)本發(fā)明實施例的蒸鍍腔室的局部側視圖；

圖3是根據(jù)本發(fā)明實施例的蒸鍍腔室的局部俯視圖；

圖4是根據(jù)本發(fā)明實施例的掩膜板室和子蒸鍍腔的示意圖；

圖5是根據(jù)本發(fā)明實施例的掩膜板室的另一個示意圖；

圖6是根據(jù)本發(fā)明實施例的掩膜板的結構示意圖；

圖7是根據(jù)本發(fā)明實施例的蒸鍍系統(tǒng)的蒸鍍方法的托盤傳遞流程圖。

附圖標記：

蒸鍍系統(tǒng)1000，

蒸鍍線100，蒸鍍線入口101，蒸鍍線出口102，

子蒸鍍腔11，閘門111，

第一傳送軌道2，子軌道21，

托盤3，子托架31，側邊32，

工件4，

蒸發(fā)源組件5，蒸發(fā)源51，機械臂52，

入口過渡腔61，出口過渡腔62，第一機械手63，第二機械手64，封裝工序65，檢測工序66，

第一對位機構71，對位板721，對位部7211，圖像采集器722，彈性調節(jié)機構723，

掩膜板81，配合孔811，支架82，

掩膜板室91，推拉桿92，擱架93，支撐導軌931，滾輪9311。

具體實施方式

下面詳細描述本發(fā)明的實施例，所述實施例的示例在附圖中示出，其中自始至終相同或類似的標號表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過參考附圖描述的實施例是示例性的，僅用于解釋本發(fā)明，而不能理解為對本發(fā)明的限制。

在本發(fā)明的描述中，需要理解的是，術語“中心”、“縱向”、“橫向”、“長度”、“寬度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“頂”、“底”“內(nèi)”、“外”等指示的方位或位置關系為基于附圖所示的方位或位置關系，僅是為了便于描述本發(fā)明和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構造和操作，因此不能理解為對本發(fā)明的限制。此外，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隱含地包括一個或者更多個該特征。

在本發(fā)明的描述中，需要說明的是，除非另有明確的規(guī)定和限定，術語“安裝”、“相連”、“連接”應做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或一體地連接；可以是機械連接，也可以是電連接；可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連，可以是兩個元件內(nèi)部的連通。對于本領域的普通技術人員而言，可以具體情況理解上述術語在本發(fā)明中的具體含義。

下面參考圖1-圖7描述根據(jù)本發(fā)明實施例的蒸鍍系統(tǒng)1000。其中，蒸鍍系統(tǒng)1000可以為真空蒸鍍系統(tǒng)1000。真空蒸鍍技術是oled(organiclight-emittingdiode，簡稱oled，中文名稱為有機電激發(fā)光二極管)顯示屏生產(chǎn)技術中的重要工序，主要是在真空環(huán)境中，將小分子材料及金屬材料(例如mg、ag等)加熱并鍍到工件4上。

如圖1所示，根據(jù)本發(fā)明一個實施例的蒸鍍系統(tǒng)1000，包括：至少一條蒸鍍線100，第一傳送軌道2和托盤3。其中，蒸鍍線100可以為一條或者多條。在本發(fā)明的描述中，除非另有說明，“多個”的含義是兩個或兩個以上。

具體地，每條蒸鍍線100包括蒸鍍腔室，蒸鍍腔室包括多個子蒸鍍腔11，多個子蒸鍍腔11依次相連。每個子蒸鍍腔11內(nèi)均為真空環(huán)境。如圖1所示，相鄰的兩個子蒸鍍腔11的側壁可以彼此相連，或者相鄰的兩個子蒸鍍腔11可以共用一個側壁。由此，可以減小各子蒸鍍腔11之間的間隙，使得蒸鍍系統(tǒng)1000的結構更加緊湊，提高了空間利用率，減小了蒸鍍腔室的整體占用空間，使得蒸鍍線100的布局更加合理。

可選地，子蒸鍍腔11可以形成為多邊體形狀，例如，在圖1的示例中，子蒸鍍腔11形成為長方體形狀。當然，本領域的技術人員可以理解，子蒸鍍腔11還可以形成為五邊體、六邊體等。

蒸鍍腔室的一端形成有蒸鍍線入口101，蒸鍍腔室的另一端形成有蒸鍍線出口102，子蒸鍍腔11內(nèi)設有蒸發(fā)源組件5。蒸發(fā)源組件5可以在子蒸鍍腔11內(nèi)移動(例如，在水平方向上移動)以對工件4進行蒸鍍。其中，每個子蒸鍍腔11內(nèi)的蒸發(fā)源組件5可以分別對工件4蒸鍍一層功能層薄膜(例如，電子注入層、發(fā)光層等)。

第一傳送軌道2穿設在蒸鍍線入口101和蒸鍍線出口102之間，第一傳送軌道2位于蒸發(fā)源組件5的上方。托盤3包括用于放置工件4的托架，托盤3可移動地設在第一傳送軌道2上以在蒸鍍線入口101和蒸鍍線出口102之間傳送工件4使蒸發(fā)源組件5對工件4進行蒸鍍。由此，可以通過托盤3帶著工件4在第一傳送軌道2上移動以使工件4在各子蒸鍍腔11之間傳遞，省去了相關技術中設置在各子蒸鍍腔11之間用于傳遞工件4的機械手和機械手在各子蒸鍍腔11之間的傳遞工序，簡化了操作步驟，降低了工件4在傳遞過程中破碎的風險，減小了工件4與正常蒸鍍位置之間的偏差，降低了對位工序的難度，且節(jié)省了機械手的占用空間，極大地減小了蒸鍍系統(tǒng)1000的整體占用空間和蒸鍍系統(tǒng)1000的成本。

具體地，參照圖2和圖3，第一傳送軌道2可以包括兩個彼此平行的子軌道21。在本發(fā)明的一些實施例中，托架可以包括多個子托架31，且多個子托架31圍成一個框架，框架的形狀可以與工件4輪廓形狀相適配。例如，在圖3的示例中，工件4可以大體形成為長方形，托架包括四個子托架31，四個子托架31圍成一個長方形的框架，工件4的四個角分別支撐在對應的子托架31上。由此，可以將工件4穩(wěn)定地支撐在框架上，且可以使得工件4的待蒸鍍區(qū)裸露出來，方便蒸鍍。

在本發(fā)明的另一些實施例中，托架還可以形成為一個整體的框架結構，例如，托架可以形成為長方形的框架等。由此，同樣可以將工件4穩(wěn)定地支撐在托架上，且可以使得工件4的待蒸鍍區(qū)裸露出來以方便蒸鍍。

例如，在蒸鍍過程中，可以在蒸鍍線入口101處將工件4放置在空托盤3的托架上，使托盤3帶動工件4在第一傳送軌道2上移動，將工件4從蒸鍍線入口101傳送至蒸鍍線出口102，使得各子蒸鍍腔11內(nèi)的蒸發(fā)源組件5依次對工件4進行蒸鍍，完成蒸鍍過程，然后在蒸鍍線出口102處將工件4從托盤3上取出進入下一個工序。其中，下一個工序可以為封裝工序65或者檢測工序66。

具體地，可以在蒸鍍線入口101處設置第一機械手63，在蒸鍍線出口102處設置第二機械手64，第一機械手63可以將待蒸鍍的工件4放置在空的托盤3上，第二機械手64可以將蒸鍍后的工件4從托盤3中取出以將蒸鍍后的工件4送入下一個工序。

根據(jù)本發(fā)明實施例的蒸鍍系統(tǒng)1000，通過使得蒸鍍腔室的多個子蒸鍍腔11依次相連，并在蒸鍍系統(tǒng)1000中設置第一傳送軌道2和托盤3，使得托盤3在第一傳送軌道2上移動以在各子蒸鍍腔11傳遞工件4，省去了相關技術中設置在各子蒸鍍腔11之間用于傳遞工件4的機械手和機械手在各子蒸鍍腔11之間的傳遞工序，簡化了操作步驟，降低了工件4在傳遞過程中破碎的風險，減小了工件4與正常蒸鍍位置之間的偏差，降低了對位工序的難度，同時優(yōu)化了蒸鍍線100的布局，提高了空間利用率，使得蒸鍍線100的結構更加緊湊、布局更加合理，減小了蒸鍍系統(tǒng)1000的整體占用空間和成本。

根據(jù)本發(fā)明的一些具體實施例，至少一條蒸鍍線100的多個子蒸鍍腔11呈一字形排列或者呈折線形排列。

具體而言，蒸鍍系統(tǒng)1000中至少一條蒸鍍線100的多個子蒸鍍腔11呈一字形排列，例如，參照圖2和圖3，每個子蒸鍍腔11均形成為長方體形狀，多個子蒸鍍腔11的側壁依次相連并呈一字形排列。此時，第一傳送軌道2形成為直線狀?；蛘哒翦兿到y(tǒng)1000的至少一條蒸鍍線100的多個子蒸鍍腔11可以呈折線形排列，例如，多個子蒸鍍腔11可以大體呈l形、z形排列。此時，第一傳送軌道2可以包括多個依次相連的直線段。

由此，可以減小相鄰兩個子蒸鍍腔11之間的間隙，使得蒸鍍腔室的結構更加緊湊，提高了空間利用率。同時，可以使得托盤3在第一傳送軌道2上始終做直線運動，從而可以在各子蒸鍍腔11之間直線傳遞工件4，有效地避免了工件4與托盤3之間產(chǎn)生相對滑動，減小了工件4與正常蒸鍍位置之間的偏差，降低了對位工序的難度，有利于減少對位機構的數(shù)量，從而減小了對位機構的占用空間，進一步地簡化了蒸鍍系統(tǒng)1000的結構，降低了蒸鍍系統(tǒng)1000的成本，且有效地避免了對位過程中對工件4造成損害使工件4發(fā)生破碎的現(xiàn)象，提高了產(chǎn)品合格率。同時，減小了因工件4與托盤3發(fā)生相對滑動而產(chǎn)生的靜電，避免了因靜電導致的各種異常現(xiàn)象(例如工件4破碎、損傷掩膜板81等)，保證了生產(chǎn)安全。

此外，在蒸鍍過程中，為了保持蒸發(fā)源組件5的速率穩(wěn)定，在整個蒸鍍過程中，無論是否在對工件4進行蒸鍍，蒸發(fā)源組件5始終處于蒸發(fā)狀態(tài)，也就是說，蒸發(fā)源組件5在這個蒸鍍過程中處于連續(xù)工作狀態(tài)。因此，本申請中的蒸鍍系統(tǒng)1000相對于相關技術中通過限制工件4移動速率來減小工件4滑動、保證安全生產(chǎn)的技術方案，減小了工件4的平均作業(yè)時間，從而減小了單個工件4對昂貴的蒸發(fā)源材料的消耗，降低了材料成本。

在本發(fā)明中的另一些具體實施例中，至少一條蒸鍍線100的多個子蒸鍍腔11還可以呈蜂窩狀環(huán)形排列。具體而言，蒸鍍系統(tǒng)1000的至少一條蒸鍍線100的多個子蒸鍍腔11呈蜂窩狀環(huán)形排列。例如，每個子蒸鍍腔11可以形成為六邊體形狀，多個子蒸鍍腔11的側壁依次相連形成為環(huán)形結構。此時，第一傳送軌道2可以包括多個依次相連直線段。由此，同樣可以減小相鄰兩個子蒸鍍腔11之間的間隙，提高空間利用率且可以保證托盤3在各子蒸鍍腔11內(nèi)的運動軌跡大體為直線。

當然，可以理解的是，至少一個蒸鍍線100的多個子蒸鍍腔11還可以呈方形排列等。其具體排列方式可以根據(jù)實際情況調整涉及，本發(fā)明對此不作具體限定。

根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，蒸鍍系統(tǒng)1000還包括第二傳送軌道(圖未示出)，第二傳送軌道設在蒸鍍腔室外，第二傳送軌道與第一傳送軌道2圍成環(huán)形軌道以使托盤3在蒸鍍線入口101和蒸鍍線出口102之間循環(huán)移動。由此，可以通過環(huán)形軌道實現(xiàn)托盤3在蒸鍍線入口101和蒸鍍線出口102之間循環(huán)移動，由此，可以循環(huán)利用托盤3，提高了蒸鍍線100的自動化和生產(chǎn)效率。

例如，在本發(fā)明的一個具體實施例中，蒸鍍線100為多條，第二傳送軌道連接在相鄰的兩條蒸鍍線100之間，具體地，第二傳送軌道的一端與相鄰的兩條蒸鍍線100中的其中一條蒸鍍線100的蒸鍍線出口102相連，第二傳送軌道的另一端與相鄰的兩條蒸鍍線100中的另一條蒸鍍線100的蒸鍍線入口101相連以在多條蒸鍍線100之間形成環(huán)形軌道。

為方便描述，將相鄰兩條蒸鍍線100中的其中一條蒸鍍線100稱為“第一蒸鍍線”，將相鄰兩條蒸鍍線100中的另一條蒸鍍線100稱為“第二蒸鍍線”。具體而言，第二傳送軌道的一端與第一蒸鍍線的蒸鍍線出口102相連，第二傳送軌道的另一端與第二蒸鍍線的蒸鍍線入口101相連。由此，可以使得多條蒸鍍線100的第一傳送軌道2和第二傳送軌道共同圍成一個環(huán)形軌道，從而可以使得托盤3在整個蒸鍍系統(tǒng)1000的多條蒸鍍線100之間循環(huán)移動，提高了托盤3的利用率，且提高了蒸鍍線100的自動化和生產(chǎn)效率。

例如，托盤3移動至第一蒸鍍線的蒸鍍線入口101處時，可以將待蒸鍍的工件4放置在托盤3的托架上，由托盤3帶著待蒸鍍工件4在第一蒸鍍線的各子蒸鍍腔11內(nèi)移動，以對待蒸鍍工件4進行蒸鍍。當托盤3移動至第一蒸鍍線的出口處時，可以將蒸鍍后的工件4從托盤3上取出，此時托盤3為空托盤3，托盤3可以通過第二傳送軌道向第二蒸鍍線的蒸鍍線入口101移動。當托盤3移動至第二蒸鍍線的蒸鍍線入口101處時，可以將另一個待蒸鍍的工件4放置在托盤3的托架上，由托盤3帶著上述另一個待蒸鍍工件4在第二蒸鍍線的各子蒸鍍腔11內(nèi)移動，以對待蒸鍍工件4進行蒸鍍，當托盤3移動至第二蒸鍍線的出口處時，可以將蒸鍍后的工件4從托盤3上取出，使托盤3通過第二傳送軌道移動至下一個蒸鍍線100。

根據(jù)本發(fā)明的另一些具體實施例，第二傳送軌道連接在每條蒸鍍線100的蒸鍍線出口102和蒸鍍線入口101之間以在每條蒸鍍線100之間形成環(huán)形軌道。其中，蒸鍍線100可以為一條或者多條。例如，托盤3移動至蒸鍍線100的蒸鍍線入口101處時，可以將待蒸鍍的工件4放置在托盤3的托架上，由托盤3帶著待蒸鍍工件4在該蒸鍍線100的各子蒸鍍腔11內(nèi)移動，以對待蒸鍍工件4進行蒸鍍。當托盤3移動至該蒸鍍線100的出口處時，可以將蒸鍍后的工件4從托盤3上取出，此時托盤3為空托盤3，托盤3可以通過第二傳送軌道向該蒸鍍線100的蒸鍍線入口101移動以循環(huán)利用托盤3。由此，同樣可以循環(huán)利用托盤3，提高了托盤3的利用率，同時提高了蒸鍍線100的自動化和生產(chǎn)效率。

可選地，環(huán)形軌道形成為多邊形軌道。例如，環(huán)形軌道可以形成為方形、五邊形、六邊形等形狀。由此，可以使得托盤3在蒸鍍系統(tǒng)1000中的移動軌跡呈直線或者大體呈直線，從而便于控制托盤3在第一傳送軌道2和第二傳送軌道上移動，且進一步地避免了工件4與托盤3之間產(chǎn)生相對滑動，減小了工件4與正常蒸鍍位置之間的偏差，進一步地降低了對位工序的難度，減少了對位機構的數(shù)量，進一步地簡化了蒸鍍系統(tǒng)1000的結構，降低了蒸鍍系統(tǒng)1000的成本，且有效地避免了對位過程中對工件4造成損害使工件4發(fā)生破碎的現(xiàn)象，提高了產(chǎn)品合格率。同時，進一步地減小了因工件4與托盤3發(fā)生相對滑動而產(chǎn)生的靜電，避免了因靜電導致的各種異?，F(xiàn)象(例如工件4破碎、損傷掩膜板81等)，保證了生產(chǎn)安全。

根據(jù)本發(fā)明的一個具體實施例，多條蒸鍍線100的第一傳送軌道2和第二傳送軌道圍成方形的環(huán)形軌道。其中，蒸鍍線100可以為兩條、三條或者四條。由此，可以使得托盤3始終保持直線運動，便于控制托盤3在第一傳送軌道2和第二傳送軌道上移動。

例如，在圖1的示例中，蒸鍍線100為兩條，兩條蒸鍍線100的蒸鍍腔室相互平行，且兩條蒸鍍線100中的工件4的移動方向相反。具體地，兩條蒸鍍線100的蒸鍍腔室形成為長方體形狀，兩條蒸鍍線100在方形的環(huán)形軌道上相對設置，托盤3可以沿圖1中箭頭標示的方向移動。由此，可以進化簡化蒸鍍系統(tǒng)1000的布局，且可以保證生產(chǎn)效率。

可選地，第一傳送軌道2和第二傳送軌道均為滾珠絲杠導軌以將滾珠絲杠導軌的回轉運動轉化為直線運動。由此，可以方便地實現(xiàn)托盤3在第一傳送軌道2和第二傳送軌道上的直線運動，結構簡單，設計巧妙。

根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，蒸鍍線100還包括入口過渡腔61。工件4可以在入口過渡腔61內(nèi)適應從大氣狀態(tài)向真空狀態(tài)的轉變。例如，蒸鍍開始時，可以將工件4送入入口過渡腔61內(nèi)，然后對入口過渡腔61抽真空，使得入口過渡腔61從大氣狀態(tài)轉變?yōu)檎婵諣顟B(tài)，從而可以使得工件4適應從大氣狀態(tài)向真空狀態(tài)的轉變，保證蒸鍍的順利進行。

具體地，入口過渡腔61位于蒸鍍線入口101的上游，入口過渡腔61和蒸鍍線入口101之間設有至少一個第一對位機構71，第一對位機構71被構造成對工件4進行預對位。例如，第一對位機構71可以將第一對位機構71的基臺中心對準工件4的中心完成預對位，或者將工件4的中心對準托架的中心完成預對位，具體的對位標準可以根據(jù)實際生產(chǎn)情況調整設計。由此，可以通過第一對位機構71初步調整工件4的位置，防止工件4與正常的蒸鍍位置偏差過大，簡化了子蒸鍍腔11內(nèi)的對位工序，保證了蒸鍍效果。同時，將第一對位機構71設置在蒸鍍線入口101和入口過渡腔61之間，減少了第一對位機構71在子蒸鍍腔11內(nèi)的占用空間。

可選地，第一對位機構71可以為一個或者多個。第一對位機構71的具體數(shù)量可以根據(jù)實際情況調整設計。其中，第一對位機構71為多個時，多個第一對位機構71可以依次對工件4進行預對位，或者，多個第一對位機構71中的至少一個可以為備用對位機構，當多個第一對位機構71中的其中一個損壞時，可以通過備用對位機構對工件4進行對位以保證生產(chǎn)的順利進行。其中，第一對位機構71可以是現(xiàn)有技術的任何對位設備，只要其能實現(xiàn)本發(fā)明的功能即可。

這里，需要說明的是，本申請中所說的“上游”指的是，蒸鍍線100上工件4移動方向上的上游，相應地，本申請中所說的“下游”指的是，蒸鍍線100上工件4移動方向上的下游。

進一步地，蒸鍍線100還包括掩膜板81(mask)，掩膜板81設在工件4和蒸發(fā)源組件5之間。參照圖2，掩膜板81可以支撐在支架82上。掩膜板81上具有圖案，工件4的待蒸鍍區(qū)可以與掩膜板81上的圖案相對，這樣，當工件4移動至蒸發(fā)源組件5上方時，蒸發(fā)源組件5可以在工件4上蒸鍍出掩膜板81上的圖案。

具體地，至少一個子蒸鍍腔11內(nèi)設有第二對位機構，第二對位機構被構造成對工件4進行對位以使工件4的待蒸鍍區(qū)對準掩膜板81的圖案。具體而言，可以在多個子蒸鍍腔11中的其中一部分子蒸鍍腔11內(nèi)設置第二對機構，也可以在每個子蒸鍍腔11內(nèi)均設置第二對位機構。優(yōu)選地，每個子蒸鍍腔11內(nèi)均設有第二對位機構。由此，可以通過第二對位機構對工件4進行精對位，使得工件4的待蒸鍍區(qū)對準掩膜板81上的圖案，提高了蒸鍍位置的精確性，從而可以準確實現(xiàn)各層薄膜的蒸鍍，提高了產(chǎn)品的合格率。

具體地，參照圖2，第二對位機構包括對位板721和控制器。對位板721可以形成為方形，對位板721位于第一傳送軌道2的上方，對位板721的上設有向下延伸的對位部7211，控制器與對位板721相連，控制器被構造成控制對位板721移動以使對位部7211對工件4進行對位。例如，控制器可以控制對位板721在上下、前后、左右方向上移動，也可以控制對位板721在空間內(nèi)轉動，以通過對位部7211對工件4進行對位。

根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，第二對位機構還包括至少一個圖像采集器722，圖像采集器722與控制器相連，圖像采集器722被構造成在第二對位機構對位前和/或對位后采集子蒸鍍腔11內(nèi)的圖像以獲取工件4和掩膜板81的相對位置，控制器根據(jù)圖像采集器722獲取的相對位置控制對位板721移動。其中，圖像采集器722可以為一個或者多個。圖像采集器722可以設置在子蒸鍍腔11的頂壁、側壁、底壁中的至少一個上。例如，當工件4移動至掩膜板81的正上方時，控制器可以根據(jù)工件4和掩膜板81的相對位置控制對位板721移動使得工件4的中心對準掩膜板81的中心，進而使得工件4的待蒸鍍區(qū)對準掩膜板81的圖案以完成對位，或者使得工件4的中心對準支架82的中心，進而使得工件4的待蒸鍍區(qū)對準掩膜板81的圖案以完成對位?？梢岳斫獾氖?，具體對位方法可以根據(jù)實際情況調整設計，本發(fā)明對此不作具體限定。

例如，在本發(fā)明的一些實施例中，圖像采集器722可以在對位前采集子蒸鍍腔11內(nèi)的圖像以獲取工件4和掩膜板81的相對位置，這樣，方便控制器根據(jù)工件4和掩膜板81的相對位置控制對位板721移動，從而可以精確地調節(jié)工件4的位置且提高了對位效率。

又如，在本發(fā)明的另一些實施例中，圖像采集器722可以在對位后采集子蒸鍍腔11內(nèi)的圖像，這樣可以在對位后獲取工件4和掩膜板81的相對位置，從而可以通過圖像采集器722反饋對位情況，控制器可以根據(jù)圖像采集器722的反饋結果判斷是否對位成功，如果對位尚未成功，控制器可以根據(jù)工件4和掩膜板81的相對位置繼續(xù)調整工件4的位置直至對位成功。由此，同樣可以提高對位的精確性。

再如，在本發(fā)明的再一些實施例中，圖像采集器722可以分別在對位前和對位后采集子蒸鍍腔11內(nèi)的圖像，使得控制器可以根據(jù)對位前工件4和掩膜板81的相對位置控制對位板721移動對工件4進行對位，并根據(jù)對位后工件4和掩膜板81的相對位置判斷是否對位成功。由此，可以提高對位的精確性和對位效率。

根本發(fā)明的一些進一步實施例，第二對位機構進一步包括彈性調節(jié)機構723，彈性調節(jié)機構723設在托盤3的底部?？蛇x地，彈性調節(jié)機構723可以為彈簧等。由此，可以通過彈性調節(jié)機構723在上下方向上調節(jié)托盤3的位置，從而可以靈活地調節(jié)工件4的位置以對工件4進行對位。

具體地，在蒸鍍線入口101處將工件4放置在托盤3上后，可以通過第一對位機構71按照標準進行預對位，例如，可以使得工件4的中心與第一對位機構71的基臺中心重合，保持工件4鎖死，然后通過滾珠絲杠導軌實現(xiàn)工件4的平穩(wěn)移動，當工件4移動到掩膜板81的正上方時，通過第二對位機構對工件4進行對位，例如，可以先使掩膜板81支架82的中心與工件4的中心重合，然后利用彈性調節(jié)機構723的上下移動、圖像采集器722獲取的工件4和掩膜板81的相對位置，實現(xiàn)精對位。整個對位過程中掩膜板81保持不動，工件4通過滾珠絲杠導軌在各子蒸鍍腔11內(nèi)進行直線移動。

進一步地，蒸鍍線出口102處可以設有出口過渡腔62，出口過渡腔62可以位于蒸鍍線出口102的下游。蒸鍍完成后的工件4可以在出口過渡腔62內(nèi)適應從真空狀態(tài)向大氣狀態(tài)的轉變。例如，蒸鍍完成時，可以將工件4送入出口過渡腔62內(nèi)，然后對出口過渡腔62卸真空，使得出口過渡腔62從真空狀態(tài)轉變?yōu)榇髿鉅顟B(tài)，從而可以使得工件4適應從真空狀態(tài)向大氣狀態(tài)的轉變，保證生產(chǎn)的順利進行。

具體地，工件4的傳遞流程如圖7所示，首先在入口過渡腔61處，使工件4適應從大氣狀態(tài)到真空狀態(tài)的轉變，然后由第一機械手63將工件4傳送到空的托盤3上，并由第一對位機構71進行預對位，接著托盤3與工件4一起移動到子蒸鍍腔11內(nèi)托盤3中心與掩膜板81中心對應的位置，通過第二對位機構進行精對位，然后開始蒸鍍，以此類推，完成所有子蒸鍍腔11的蒸鍍過程。然后通過第二機械手64將工件4送入出口過渡腔62，最后將工件4送入下一個工序。

具體地，托盤3還包括側邊32，側邊32連接在托架的外邊緣，工件4的上表面低于側邊32的上端面。這里，需要說明的是，本申請中的“外邊緣”指的是，托架遠離托架中心的邊緣。其中，側邊32可以與托架31垂直或者大體與托架垂直。

例如，當托架包括多個子托架31時，側邊32可以連接在子托架31的左邊緣或者右邊緣上。當然，側邊32還可以連接在子托架31的前邊緣或者后邊緣上。又如，托架形成為一個整體的框架結構時，側邊32可以環(huán)繞在托架的外周。

具體地，工件4的上表面低于側邊32的上端面，由此，在對位過程中，可以通過第二對位機構的對位部7211與側邊32接觸對工件4進行對位，從而避免了對位過程中對位部7211與工件4直接接觸，進而有效地保護了工件4，防止工件4在對位過程中發(fā)生損壞。

可選地，第二對位機構的對位部7211為兩個，兩個對位部7211間隔設置，且在從上到下的方向上，兩個對位部7211彼此相對的一側表面分別朝向遠離彼此的方向傾斜延伸。由此，對位部7211的上述依次表面可以形成為導向面，從而可以通過導向面與側邊32接觸實現(xiàn)對工件4的對位。

例如，在圖2的示例中，對位部7211可以設置在對位板721的下表面上，兩個對位部7211在左右方向上間隔設置。對位部7211可以從對位板721的前端延伸至對位板721的后端，在從上至下的方向下，對位部7211的厚度逐漸減小。例如，對位部7211的橫截面可以形成為三角形、梯形等形狀。由此，便于對位部7211與側邊32接觸對工件4進行對位且結構簡單、加工方便。當然，可以理解是，兩個對位部7211還可以在前后方向上間隔設置，此時對位部7211可以從對位板721的左端延伸至對位板721的右端。

在本發(fā)明的另一些實施例中，對位部7211可以為四個，四個對位部7211與四個托架一一對應，在從上至下的方向上，對位部7211鄰近托架的一側表面朝向遠離托架的方向傾斜延伸形成導向面。由此，同樣可以通過對位部7211方便地對工件4進行對位，且可以節(jié)省對位部7211的用料。

根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，參照圖1，蒸鍍線100還包括多個掩膜板室91，每個掩膜板室91內(nèi)設有多個掩膜板81，多個掩膜板室91與多個子蒸鍍腔11一一對應，掩膜板室91和與其對應的子蒸鍍腔11之間設有連通通道，掩膜板81在連通通道內(nèi)可移動以對子蒸鍍腔11內(nèi)的掩膜板81進行更換。具體地，在蒸鍍過程中，掩膜板81上會粘附大量的蒸發(fā)源材料，影響蒸鍍效果。蒸鍍一段時間后，可以將掩膜板室91內(nèi)的掩膜板81對子蒸鍍腔11內(nèi)的掩膜板81進行更換，可以保證蒸鍍效果。

進一步地，蒸鍍線100還包括更換裝置，更換裝置在掩膜板室91和與其對應的子蒸鍍腔11之間可移動，更換裝置被構造成將子蒸鍍腔11內(nèi)的掩膜板81取出并將掩膜板室91內(nèi)的掩膜板81運輸?shù)阶诱翦兦?1內(nèi)以更換子蒸鍍腔11內(nèi)的掩膜板81。具體地，參照圖4和圖5，更換裝置可以包括推拉桿92，推拉桿92在掩膜板室91和與其對應的子蒸鍍腔11之間可移動，掩膜板81的鄰近推拉桿92的側壁上設有配合孔811，推拉桿92適于伸入配合孔811內(nèi)以在推拉桿92移動時帶動掩膜板81移動。具體地，推拉桿92可以穿過連通通道伸入到子蒸鍍腔11內(nèi)，并在掩膜板室91和與其對應的子蒸鍍腔11之間移動。由此，可以通過更換裝置方便地將子蒸鍍腔11內(nèi)的掩膜板81拉出，并可以方便地將掩膜板室91內(nèi)的掩膜板81推送至子蒸鍍腔11內(nèi)，完成更換。結構簡單、設計巧妙。

進一步地，掩膜板室91內(nèi)設有擱架93，擱架93相對掩膜板室91可上下移動，擱架93上設有多個支撐導軌931，多個支撐導軌931在上下方向上間隔設置，掩膜板81可滑動地設在支撐導軌931上。

參照圖5，支撐導軌931可以設置在擱架93相對的兩個側壁上。例如，在更換過程中，可以在上下方向上移動擱架93，使得擱架93的其中一個空支撐導軌931對準連通通道，然后將推拉桿92推入子蒸鍍腔11室內(nèi)，使推拉桿92伸入子蒸鍍腔11內(nèi)掩膜板81上的配合孔811內(nèi)，將子蒸發(fā)腔內(nèi)的掩膜板81拉至上述空的支撐導軌931上，接著，再上下移動擱架93，使得放置有未使用的掩膜板81的支撐導軌931對準連通通道，然后將推拉桿92伸入上述未使用的掩膜板81的配合孔811，最后將上述未使用的掩膜板81從連通通道推入子蒸鍍腔11內(nèi)，完成更換。

具體地，支撐導軌931上設有滾輪9311，掩膜板81可滑動地設在滾輪9311上。參照圖4，每個支撐導軌931上可以設有多個滾輪9311。由此，可以減小掩膜板81在支撐導軌931上的摩擦力，從而可以更加省力地更換子蒸發(fā)腔內(nèi)的掩膜板81。

根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，至少一個子蒸鍍腔11內(nèi)的蒸發(fā)源組件5包括多個蒸發(fā)源51，多個蒸發(fā)源51中的至少一個為備用蒸發(fā)源51。具體地，多個子蒸鍍腔11中的其中一部分子蒸鍍腔11內(nèi)的蒸發(fā)源組件5可以包括多個蒸發(fā)源51，或者每個子蒸鍍腔11內(nèi)的蒸發(fā)源組件5均包括多個蒸發(fā)源51。由于蒸鍍腔室內(nèi)為真空環(huán)境，當蒸發(fā)源51出現(xiàn)故障時，卸真空之前需要等待蒸發(fā)源51溫度冷卻到一定溫度后才能開腔，需要較長時間，而處理完問題后進行抽真空又需要數(shù)小時，從而耽誤生產(chǎn)時間。

由此，在子蒸鍍腔11內(nèi)設置備用蒸發(fā)源51，當其中一個蒸發(fā)源51發(fā)生故障，例如，蒸發(fā)源51的蒸發(fā)速率不穩(wěn)定、斷線等，可以立即啟動備用蒸發(fā)源51進行蒸鍍，避免因蒸發(fā)源51發(fā)生故障導致整個產(chǎn)線停滯，節(jié)省了維修時間，且提高了蒸鍍系統(tǒng)1000應對突發(fā)狀況的能力，提高了蒸鍍系統(tǒng)1000的穩(wěn)定性和抗風險能力，保證了生產(chǎn)的連續(xù)性。同時，當其中一個蒸發(fā)源51內(nèi)的蒸發(fā)材料耗盡時，也可以啟用備用蒸發(fā)源51進行蒸鍍，延長了生產(chǎn)時間，提高了生產(chǎn)效率。

可以理解的是，由于蒸鍍材料為小分子有機材料，不能在高溫下長時間儲存，否則會導致蒸發(fā)材料變質，當上述其中一個蒸發(fā)源51內(nèi)的蒸發(fā)材料即將耗盡或者蒸發(fā)速率不穩(wěn)定時，可以對備用蒸發(fā)源51進行預先升溫，以保證生產(chǎn)的順利進行。

例如，在本發(fā)明的一個具體實施例中，每個子蒸鍍腔11內(nèi)設有兩個機械臂52，每個機械臂52上安裝有一個蒸發(fā)源51，兩個蒸發(fā)源51中的其中一個為備用蒸發(fā)源51。

具體地，相鄰的兩個子蒸鍍腔11之間設有閘門111，閘門111在打開狀態(tài)和關閉狀態(tài)之間可切換，閘門111處于打開狀態(tài)下托盤3從兩個子蒸鍍腔11中的其中一個內(nèi)移動至兩個子蒸鍍腔11中的另一個內(nèi)。例如，當托盤3移動至閘門111處時，閘門111可以切換至打開狀態(tài)以使托盤3順利傳遞至下一個子蒸鍍腔11內(nèi)，當托盤3通過閘門111后，閘門111可以切換至關閉狀態(tài)。由此，通過在各子蒸鍍腔11之間設置閘門111，可以使得各子蒸鍍腔11彼此獨立且便于托盤3在各子蒸鍍腔11之間移動，且當其中一個子蒸鍍腔11出現(xiàn)漏氣等故障時，能夠快速鎖定出現(xiàn)故障的范圍，便于檢修，同時避免了出現(xiàn)故障的子蒸鍍腔11對其他子蒸鍍腔11產(chǎn)生影響。

根據(jù)本發(fā)明實施例的蒸鍍系統(tǒng)1000的其他構成以及操作對于本領域普通技術人員而言都是已知的，這里不再詳細描述。

下面描述根據(jù)本發(fā)明第二方面實施例的蒸鍍系統(tǒng)1000的蒸鍍方法，其中，蒸鍍系統(tǒng)1000可以為上述第一方面實施例中的蒸鍍系統(tǒng)1000。具體地，蒸鍍系統(tǒng)1000的蒸鍍方法可以包括以下步驟：

將工件4放置在蒸鍍線入口101處的托盤3上；

工件4隨托盤3進入蒸鍍腔室并在多個子蒸鍍腔11之間依次移動以對工件4進行蒸鍍；

蒸鍍后的工件4隨托盤3移動至蒸鍍線出口102外；

將蒸鍍后的工件4從托盤3中取出，并將工件4送至下一個工序。

由此，可以通過托盤3帶著工件4在第一傳送軌道2上移動以使工件4在各子蒸鍍腔11之間傳遞，省去了相關技術中設置在各子蒸鍍腔11之間用于傳遞工件4的機械手和機械手在各子蒸鍍腔11之間的傳遞工序，簡化了操作步驟，降低了工件4在傳遞過程中破碎的風險，減小了工件4與正常蒸鍍位置之間的偏差，降低了對位工序的難度，同時優(yōu)化了蒸鍍線100的布局，提高了空間利用率，使得蒸鍍線100的結構更加緊湊、布局更加合理，減小了蒸鍍系統(tǒng)1000的整體占用空間和成本。

根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，工件4隨托盤3進入蒸鍍腔室前，還包括以下步驟：對工件4進行預對位。由此，可以通過預對位工序初步調整工件4的位置，簡化了子蒸鍍腔11內(nèi)的對位工序，保證了蒸鍍效果。同時，在工件4隨托盤3進入蒸鍍腔室前對工件4進行預對位，減少了對位機構在子蒸鍍腔11內(nèi)的占用空間。

進一步地，工件4進入子蒸鍍腔11內(nèi)后、對工件4進行蒸鍍前，還包括以下步驟：對工件4進行精對位。由此，可以保證蒸鍍效果，提高了蒸鍍位置的精確性，從而可以準確實現(xiàn)各層薄膜的蒸鍍，提高了產(chǎn)品的合格率。

根據(jù)本發(fā)明的一些具體實施例，將蒸鍍后的工件4從托盤3中取出后，還包括以下步驟：托盤3從蒸鍍線出口102處移動至蒸鍍線入口101處。由此，可以使得托盤3在蒸鍍線100上循環(huán)移動，提高了托盤3的利用率，且提高了蒸鍍線100的自動化和生產(chǎn)效率。

根據(jù)本發(fā)明第二方面實施例的蒸鍍系統(tǒng)1000的蒸鍍方法，操作簡單，降低了編輯控制程序的難度且可靠性高，保證了生產(chǎn)的順利進行。

在本說明書的描述中，參考術語“一個實施例”、“一些實施例”、“示意性實施例”、“示例”、“具體示例”、或“一些示例”等的描述意指結合該實施例或示例描述的具體特征、結構、材料或者特點包含于本發(fā)明的至少一個實施例或示例中。在本說明書中，對上述術語的示意性表述不一定指的是相同的實施例或示例。而且，描述的具體特征、結構、材料或者特點可以在任何的一個或多個實施例或示例中以合適的方式結合。

盡管已經(jīng)示出和描述了本發(fā)明的實施例，本領域的普通技術人員可以理解：在不脫離本發(fā)明的原理和宗旨的情況下可以對這些實施例進行多種變化、修改、替換和變型，本發(fā)明的范圍由權利要求及其等同物限定。