本發(fā)明涉及真空蒸發(fā)鍍膜領(lǐng)域，尤其涉及一種蒸鍍坩堝、蒸鍍源、蒸鍍裝置及蒸鍍方法。

背景技術(shù)：

真空蒸發(fā)鍍膜是指在真空環(huán)境中，將待成膜物質(zhì)加熱蒸發(fā)或升華后，使其在低溫工件或基片表面凝結(jié)或沉積，以形成鍍層的工藝。待成膜物質(zhì)在蒸鍍坩堝內(nèi)部加熱蒸發(fā)或升華后，上升并通過蒸鍍坩堝上方的蒸鍍出口發(fā)出，待蒸鍍基板靜止固定于蒸鍍出口位置處或勻速通過蒸鍍出口，蒸發(fā)出的待成膜物質(zhì)離開蒸鍍坩堝的加熱后逐漸降溫，蒸發(fā)運(yùn)動(dòng)的速度也逐漸降低，最終在待蒸鍍基板的表面沉積形成膜層。對于有機(jī)顯示器件，例如有機(jī)電致發(fā)光顯示器件(organiclight-emittingdiode，oled)，其發(fā)光層的主要制作工藝即是真空蒸發(fā)鍍膜。

在蒸鍍工藝過程中，經(jīng)常需要使用一些活性金屬作為蒸鍍材料，活性金屬極容易在大氣環(huán)境中與空氣發(fā)生氧化反應(yīng)，活性金屬受到氧化后再蒸發(fā)并沉積在待蒸鍍基板的表面，就會(huì)對oled器件的功能實(shí)現(xiàn)造成不良影響，甚至導(dǎo)致oled器件的失效。

授權(quán)公告號(hào)為cn103695847b的發(fā)明專利中提出一種坩堝及其蒸鍍方法，在坩堝塞頂部設(shè)置排氣孔以及與該排氣孔相匹配的排氣閥，在惰性氣體環(huán)境中向坩堝內(nèi)裝填蒸鍍材料后封閉坩堝出口，將封閉出口的坩堝放置在蒸鍍腔室中并形成真空環(huán)境，蒸鍍坩堝內(nèi)部的壓強(qiáng)大于真空蒸鍍腔室的壓強(qiáng)，排氣閥推動(dòng)彈起打開坩堝出口，以使得蒸鍍材料向外蒸發(fā)并完成待蒸鍍基板上的膜層蒸鍍。

但是，這種蒸鍍坩堝在蒸鍍腔室內(nèi)進(jìn)行蒸鍍操作時(shí)，只能依靠內(nèi)外壓強(qiáng)差推動(dòng)排氣閥，包含不確定性，難以對排氣閥的開啟進(jìn)行有效的控制，若排氣閥與排氣孔之間的閉合過緊或壓強(qiáng)差較小，則可能導(dǎo)致排氣閥無法及時(shí)開啟，甚至影響蒸鍍過程的進(jìn)行。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明實(shí)施例提供一種蒸鍍坩堝、蒸鍍源、蒸鍍裝置及蒸鍍方法，能夠解決現(xiàn)有的蒸鍍坩堝無法有效控制排氣閥的開啟時(shí)間，從而影響蒸鍍過程的問題。

為達(dá)到上述目的，本發(fā)明的實(shí)施例采用如下技術(shù)方案：

本發(fā)明實(shí)施例的一方面，提供一種蒸鍍坩堝，包括：坩堝本體，在坩堝本體上設(shè)置有至少一個(gè)蒸鍍出口。磁性蓋片，蓋設(shè)在蒸鍍出口位置處，以使得坩堝本體內(nèi)部的蒸鍍材料與外界空氣隔絕。電磁組件，包括電磁線圈，設(shè)置在坩堝本體內(nèi)，電磁線圈在通入電流的狀態(tài)下能夠形成磁場，磁場的作用力可將磁性蓋片推離蒸鍍出口。

具體的，電磁線圈沿坩堝本體的內(nèi)壁設(shè)置有一組，在通入電流的狀態(tài)下電磁線圈形成的磁場的作用力方向垂直于磁性蓋片所在的平面。

可選的，電磁線圈在坩堝本體內(nèi)設(shè)置有多組，多組電磁線圈之間相互平行且以蒸鍍出口為中心周向設(shè)置，在通入電流的狀態(tài)下多組電磁線圈形成的磁場的作用力方向均垂直于磁性蓋片所在的平面。

優(yōu)選的，電磁組件還包括設(shè)置在電磁線圈中心的鐵芯。

進(jìn)一步的，在蒸鍍出口位于坩堝本體內(nèi)的一側(cè)周邊還設(shè)置有吸磁部件，吸磁部件吸附磁性蓋片。

優(yōu)選的，蒸鍍出口至少在與磁性蓋片相接觸的邊緣部分設(shè)置有磁性材料層。

優(yōu)選的，磁性蓋片的厚度在0.1mm-5mm之間。

本發(fā)明實(shí)施例的另一方面，提供一種蒸鍍源，包括上述任一項(xiàng)的蒸鍍坩堝。

本發(fā)明實(shí)施例的再一方面，提供一種蒸鍍裝置，包括蒸鍍腔室，還包括設(shè)置在蒸鍍腔室內(nèi)的上述的蒸鍍源。在蒸鍍腔室內(nèi)還設(shè)置有活動(dòng)桿，活動(dòng)桿與磁性蓋片固定連接，并可帶動(dòng)磁性蓋片在蒸鍍腔室內(nèi)水平移動(dòng)。

本發(fā)明實(shí)施例的又一方面，提供一種蒸鍍方法，包括，在惰性氣體環(huán)境下向坩堝本體內(nèi)填充蒸鍍材料，填充完成后在坩堝本體的蒸鍍出口處蓋設(shè)磁性蓋片，以使得坩堝本體內(nèi)的蒸鍍材料與外界空氣隔絕。將蒸鍍坩堝移入蒸鍍腔室內(nèi)，加熱蒸鍍坩堝，坩堝本體內(nèi)的蒸鍍材料受熱氣化。向電磁組件的電磁線圈通入電流形成磁場，磁場的作用力將磁性蓋片推離蒸鍍出口以使得受熱氣化的蒸鍍材料通過蒸鍍出口向外蒸發(fā)。

本發(fā)明實(shí)施例提供一種蒸鍍坩堝、蒸鍍源、蒸鍍裝置及蒸鍍方法，包括：坩堝本體，在坩堝本體上設(shè)置有至少一個(gè)蒸鍍出口。磁性蓋片，蓋設(shè)在蒸鍍出口位置處，以使得坩堝本體內(nèi)部的蒸鍍材料與外界空氣隔絕。電磁組件，包括電磁線圈，設(shè)置在坩堝本體內(nèi)，電磁線圈在通入電流的狀態(tài)下能夠形成磁場，磁場的作用力可將磁性蓋片推離蒸鍍出口。在坩堝本體的蒸鍍出口處蓋設(shè)磁性蓋片，以使得蒸鍍材料在加熱蒸發(fā)前隔絕外界空氣，避免蒸鍍材料接觸空氣發(fā)生氧化反應(yīng)，在加熱蒸鍍坩堝并開始進(jìn)行蒸鍍操作時(shí)，向電磁組件的電磁線圈中通入電流以形成磁場，通過控制電流極性和強(qiáng)度，即可通過磁場的作用力將磁性蓋片推離蒸鍍出口，以使得蒸鍍材料通過蒸鍍出口向外的蒸發(fā)，提高了磁性蓋片的可控制性，提升了蒸鍍效果。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種蒸鍍坩堝的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為電磁線圈通入電流產(chǎn)生磁場的極性與磁感線走向原理圖；

圖3為本發(fā)明實(shí)施例提供的蒸鍍坩堝中電磁線圈在坩堝本體內(nèi)的一種設(shè)置方式(圖1的俯視圖方向)；

圖4為本發(fā)明實(shí)施例提供的蒸鍍坩堝中電磁線圈在坩堝本體內(nèi)的另一種設(shè)置方式(圖1的俯視圖方向)；

圖5為本發(fā)明實(shí)施例提供的蒸鍍坩堝中電磁組件還包括鐵芯的結(jié)構(gòu)示意圖(圖1的俯視圖方向)；

圖6為本發(fā)明實(shí)施例提供的蒸鍍坩堝中還包括吸磁部件的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖7為本發(fā)明實(shí)施例提供的蒸鍍坩堝中還包括磁性材料層的結(jié)構(gòu)示意圖之一；

圖8為本發(fā)明實(shí)施例提供的蒸鍍坩堝中還包括磁性材料層的結(jié)構(gòu)示意圖之二；

圖9為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種蒸鍍源的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖10為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種蒸鍍裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖11為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種蒸鍍方法的流程圖。

附圖標(biāo)記：

01-蒸鍍坩堝；02-蒸鍍源；03-蒸鍍腔室；04-活動(dòng)桿；10-坩堝本體；20-磁性蓋片；30-蒸鍍材料；40-電磁組件；41-電磁線圈；42-鐵芯；50-吸磁部件；60-磁性材料層；w-磁性蓋片的厚度；a-蒸鍍出口。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

本發(fā)明實(shí)施例提供一種蒸鍍坩堝，如圖1所示，包括：坩堝本體10，在坩堝本體10上設(shè)置有至少一個(gè)蒸鍍出口a。磁性蓋片20，蓋設(shè)在蒸鍍出口a位置處，以使得坩堝本體10內(nèi)部的蒸鍍材料30與外界空氣隔絕。電磁組件40，包括電磁線圈41，設(shè)置在坩堝本體10內(nèi)，電磁線圈41在通入電流的狀態(tài)下能夠形成磁場，磁場的作用力可將磁性蓋片20推離蒸鍍出口a。

需要說明的是，第一，在坩堝本體10上設(shè)置有至少一個(gè)蒸鍍出口a，如圖1所示，坩堝本體10上設(shè)置有一個(gè)蒸鍍出口a，此外，也可以設(shè)置有多個(gè)蒸鍍出口a。本發(fā)明實(shí)施例中對于蒸鍍源的蒸鍍方式不做具體限定，點(diǎn)蒸鍍源、線蒸鍍源或面蒸鍍源均可。對于點(diǎn)蒸鍍源，如圖1所示，在蒸鍍坩堝10的上表面設(shè)置有一個(gè)蒸鍍出口a，升華蒸發(fā)的氣態(tài)蒸鍍材料30即由蒸鍍出口a向外蒸發(fā)擴(kuò)散，并沉積于設(shè)置在蒸鍍出口a外部的待蒸鍍基板上，從而實(shí)現(xiàn)對待蒸鍍基板上相應(yīng)膜層的蒸鍍。例如，當(dāng)蒸鍍源為線蒸鍍源時(shí)，可以為在坩堝本體10的上表面上設(shè)置有呈線性排列的多個(gè)蒸鍍出口a，多個(gè)蒸鍍出口a均與設(shè)置有蒸鍍材料30的坩堝本體10內(nèi)部貫通，這樣一來，升華蒸發(fā)的氣態(tài)蒸鍍材料30即可通過線性排列的多個(gè)蒸鍍出口a以線性狀態(tài)向外蒸發(fā)擴(kuò)散。同理，當(dāng)蒸鍍源為面蒸鍍源時(shí)，在坩堝本體10的上表面上設(shè)置有呈矩陣形式排列的多個(gè)蒸鍍出口a，其他設(shè)置關(guān)系以及蒸鍍過程與線蒸鍍源相同，此處不再贅述。

第二，坩堝本體10指的是用于設(shè)置蒸鍍材料30并在蒸鍍過程中通過加熱使得蒸鍍材料30受熱升華蒸發(fā)并由蒸鍍出口a蒸出的容置和反應(yīng)腔室，本發(fā)明實(shí)施例中對于坩堝本體10的其他結(jié)構(gòu)不做具體限定，例如，可以為如圖1所示的由下部容腔和上部蓋體之間通過螺紋緊固連接件固定連接的結(jié)構(gòu)，也可以為其他的連接方式和結(jié)構(gòu)，只要能夠放入蒸鍍材料30并在加熱狀態(tài)下能夠使得蒸鍍材料30由蒸鍍出口a蒸出即可。

第三，本發(fā)明實(shí)施例中對于磁性蓋片20的大小尺寸以及形狀不做具體限定，只要保證蓋設(shè)在蒸鍍出口a處時(shí)，能夠?qū)⒄翦兂隹赼完全覆蓋，以保證坩堝本體10內(nèi)部的蒸鍍材料30不會(huì)通過蒸鍍出口a與外界空氣接觸即可，當(dāng)坩堝本體10上設(shè)置有多個(gè)蒸鍍出口a時(shí)，磁性蓋片20可以設(shè)置一個(gè)，一個(gè)磁性蓋片20同時(shí)覆蓋多個(gè)蒸鍍出口a，也可以設(shè)置多個(gè)，分別對每一個(gè)蒸鍍出口a對應(yīng)覆蓋。當(dāng)磁性蓋片20設(shè)置有多個(gè)時(shí)，多個(gè)磁性蓋片20之間可以相互連接以在磁場作用力下同時(shí)被推離，也可以分別單獨(dú)設(shè)置，在磁場作用力下，多個(gè)磁性蓋片20單獨(dú)被推離蒸鍍出口a均可。此外，磁性蓋片20的材質(zhì)中至少包括有磁性材料，能夠被磁場的作用力吸附或排斥。

第四，電磁組件40中的電磁線圈41在通入電流的狀態(tài)下才能夠產(chǎn)生磁場，通入電流的方向和大小影響產(chǎn)生磁場的作用力方向和強(qiáng)度，本發(fā)明實(shí)施例中對于電磁組件40中電磁線圈41的通電方式不做具體限定，通常可以在坩堝本體10外部設(shè)置電源連接端，通過導(dǎo)線將電源連接端與電磁線圈41之間電連接，向電源連接端通入外接控制電源即可控制電磁線圈41的通電(圖1中未示出電磁線圈41的電源連接結(jié)構(gòu))。在加熱蒸鍍坩堝并開始蒸鍍操作時(shí)，蒸鍍材料30升華蒸發(fā)并在坩堝本體10內(nèi)部達(dá)到所需的擴(kuò)散濃度，通過控制外接控制電源的電流方向和大小，使得電磁線圈41中產(chǎn)生如圖1中箭頭所示的方向的磁場作用力，對磁性蓋片20施加推力，以使磁性蓋片20在磁場作用力的作用下被推離蒸鍍出口a。磁性蓋片20被推離蒸鍍出口a后，升華蒸發(fā)的蒸鍍材料30即可由蒸鍍出口a向外蒸出，并在待蒸鍍基板上沉積形成蒸鍍膜層。

此外，為了在加熱蒸鍍坩堝并開始蒸鍍操作之前，提高蓋設(shè)在蒸鍍出口a處的磁性蓋片20的封閉性，以降低坩堝本體10內(nèi)部的蒸鍍材料30與空氣接觸發(fā)生氧化的風(fēng)險(xiǎn)，可以預(yù)先對電磁線圈41通入固定方向和大小的電流，使得電磁線圈41產(chǎn)生的磁場作用力對磁性蓋片20保持一定大小的吸附力，在蒸鍍源中加熱蒸鍍坩堝并開始蒸鍍操作后，再改變通入電磁線圈41中的電流和方向，從而改變磁場作用力的方向，使得磁場作用力對磁性蓋片20的吸附力轉(zhuǎn)變?yōu)榕懦饬?，將磁性蓋片20推離蒸鍍出口a。

本發(fā)明實(shí)施例提供一種蒸鍍坩堝，包括：坩堝本體，在坩堝本體上設(shè)置有至少一個(gè)蒸鍍出口。磁性蓋片，蓋設(shè)在蒸鍍出口位置處，以使得坩堝本體內(nèi)部的蒸鍍材料與外界空氣隔絕。電磁組件，包括電磁線圈，設(shè)置在坩堝本體內(nèi)，電磁線圈在通入電流的狀態(tài)下能夠形成磁場，磁場的作用力可將磁性蓋片推離蒸鍍出口。在坩堝本體的蒸鍍出口處蓋設(shè)磁性蓋片，以使得蒸鍍材料在加熱蒸發(fā)前隔絕外界空氣，避免蒸鍍材料接觸空氣發(fā)生氧化反應(yīng)，在加熱蒸鍍坩堝并開始進(jìn)行蒸鍍操作時(shí)，向電磁組件的電磁線圈中通入電流以形成磁場，通過控制電流極性和強(qiáng)度，即可通過磁場的作用力將磁性蓋片推離蒸鍍出口，以使得蒸鍍材料通過蒸鍍出口向外的蒸發(fā)，提高了磁性蓋片的可控制性，提升了蒸鍍效果。

具體的，如圖1所示，電磁線圈41沿坩堝本體10的內(nèi)壁設(shè)置有一組，在通入電流的狀態(tài)下電磁線圈41形成的磁場的作用力方向垂直于磁性蓋片20所在的平面。

如圖1所示，一組電磁線圈41沿坩堝本體10的內(nèi)壁設(shè)置，向電磁線圈41通入相應(yīng)極性和大小的電流，使得在電磁線圈41的兩端產(chǎn)生對應(yīng)的磁極以及在兩磁極之間的磁場作用力，如圖2所示，虛線箭頭即為磁場作用力方向，磁場作用力方向在作用于磁性蓋片20的位置垂直或近似垂直于磁性蓋片20所在的平面，從而使得蓋設(shè)在蒸鍍出口a位置處的磁性蓋片20在磁場作用力的推動(dòng)作用下被推離蒸鍍出口a，以保證對蒸鍍出口a的開啟控制。

可選的，如圖3所示，電磁線圈41在坩堝本體10內(nèi)設(shè)置有多組，多組電磁線圈41之間相互平行且以蒸鍍出口a為中心周向設(shè)置，在通入電流的狀態(tài)下多組電磁線圈41形成的磁場的作用力方向均垂直于磁性蓋片20所在的平面。

這樣一來，多組以蒸鍍出口a為中心周向設(shè)置且相互平行的電磁線圈41通入相同方向和大小的電流，同時(shí)形成垂直于磁性蓋片20所在平面且朝向蒸鍍出口a方向的磁場作用力，多組電磁線圈41的磁場作用力共同推動(dòng)磁性蓋片20并將磁性蓋片20推離蒸鍍出口a。

此外，當(dāng)坩堝本體10上包括有多個(gè)蒸鍍出口a時(shí)，如圖4所示，坩堝本體10上包括有三個(gè)蒸鍍出口a，其中，每一個(gè)蒸鍍出口a上均分別蓋設(shè)有磁性蓋片20，在每一個(gè)蒸鍍出口a處，均以蒸鍍出口a為中心周向設(shè)置多組相互平行的電磁線圈41，以保證每一個(gè)蒸鍍出口a處設(shè)置的磁性蓋片20均能夠在電磁線圈41的磁場作用力的推動(dòng)作用下離開蒸鍍出口a。

優(yōu)選的，如圖5所示，電磁組件40還包括設(shè)置在電磁線圈41中心的鐵芯42。

這樣一來，如圖5所示，通過在每一個(gè)電磁線圈41的中心設(shè)置鐵芯42，使得組成的電磁組件40在通入相同電流的情況下，磁場作用力相較于僅包括電磁線圈41的電磁組件得到有效的增強(qiáng)，提高了電磁組件40對磁性蓋片20的推力作用。

進(jìn)一步的，如圖6所示，在蒸鍍出口a位于坩堝本體10內(nèi)的一側(cè)周邊還設(shè)置有吸磁部件50，吸磁部件50吸附磁性蓋片20。

吸磁部件50能夠?qū)Υ判圆牧袭a(chǎn)生吸附作用力，磁性蓋片20的材質(zhì)中包括有磁性材料，因此，吸磁部件50能夠吸附磁性蓋片20。這樣一來，在向坩堝本體10內(nèi)放入蒸鍍材料30之后，蓋設(shè)在蒸鍍出口a位置處的磁性蓋片20受到吸磁部件50的吸附作用力，能夠與蒸鍍出口a之間壓緊封閉，從而在加熱蒸鍍坩堝并開始蒸鍍操作之前，提高磁性蓋片20對蒸鍍材料30的密封作用。在此基礎(chǔ)上，在蒸鍍源中加熱蒸鍍坩堝并開始蒸鍍操作后，電磁組件40需要在克服吸磁部件50對磁性蓋片20的吸附作用力的同時(shí)，進(jìn)一步提供對磁性蓋片20的推力作用，以使得磁性蓋片20能夠被推離蒸鍍出口a。

優(yōu)選的，如圖6所示，吸磁部件50為片狀磁鐵。片狀磁鐵可以為通電形成磁場的電磁鐵，也可以為片狀的永磁體。

這樣一來，片狀的電磁鐵或永磁體作為吸磁部件50，一方面，能夠減少對坩堝本體10內(nèi)部空間的擠占；另一方面，能夠盡可能的增大吸磁部件50與磁性蓋片20之間的作用面積，從而提高吸磁部件50對磁性蓋片20的吸附作用力。

需要說明的是，設(shè)置在坩堝本體10內(nèi)部的電磁組件40以及吸磁部件50，在制作時(shí)使用的材料通常為鐵、銅等熔點(diǎn)遠(yuǎn)高于活性金屬的蒸鍍材料30，因此，在對坩堝本體10內(nèi)部的蒸鍍材料30進(jìn)行加熱蒸發(fā)的過程中，設(shè)置在坩堝本體10內(nèi)部的電磁組件40以及吸磁部件50在受熱的情況下不會(huì)發(fā)生升華蒸發(fā)，不會(huì)對坩堝本體10造成損害，同樣也不會(huì)影響蒸發(fā)狀態(tài)的蒸鍍材料30的純度。

優(yōu)選的，如圖7所示，蒸鍍出口a至少在與磁性蓋片20相接觸的邊緣部分設(shè)置有磁性材料層60。

通常情況下，坩堝本體10可以由很多種熔點(diǎn)較高的金屬或非金屬材質(zhì)制作。當(dāng)坩堝本體10為非金屬材料或金屬材料中的非磁性材質(zhì)時(shí)，為了提高吸磁部件50對磁性蓋片20的吸附作用力，在坩堝本體10外側(cè)的蒸鍍出口a位置處設(shè)置有磁性材料層60，其中，磁性材料層60至少設(shè)置在蒸鍍出口a與磁性蓋片20相接觸的邊緣部分。

需要說明的是，如圖7所示，當(dāng)蒸鍍出口a為在坩堝本體10上表面直接加工的通孔時(shí)，磁性材料層60至少設(shè)置在蒸鍍出口a與磁性蓋片20相接觸的邊緣部分指的是，在蒸鍍出口a周邊且與磁性材料層60相接觸的部分區(qū)域。通常情況下，可以將磁性材料層60的區(qū)域面積設(shè)置的略大于磁性蓋片20的面積，如圖8所示，當(dāng)蒸鍍出口a為突出于坩堝本體10上表面且與坩堝本體10內(nèi)部貫通的噴口時(shí)，磁性材料層60至少設(shè)置在蒸鍍出口a與磁性蓋片20相接觸的邊緣部分指的是，沿蒸鍍出口a的噴口厚度的邊緣一圈的位置。例如，優(yōu)選的，可以使用中心具有與蒸鍍出口a大小一致的通孔的吸附薄片作為磁性材料層60。

優(yōu)選的，如圖7所示，磁性蓋片20的厚度w設(shè)置在0.1mm-5mm之間。

這樣一來，一方面，能夠保證磁性蓋片20對蒸鍍出口a的封閉性；另一方面，降低磁性蓋片20的自身重量。若磁性蓋片20的厚度w小于0.1mm，可能由于磁性蓋片20的厚度w過薄，難以保證對蒸鍍出口a的封閉，而且容易由于外界環(huán)境的影響導(dǎo)致磁性蓋片20偏移或掉落。若磁性蓋片20的厚度w大于5mm，可能由于磁性蓋片20的厚度w過厚，導(dǎo)致其自身重量大，就需要電磁組件40提供較大的電流產(chǎn)生較強(qiáng)的磁場作用力，才能夠?qū)⒋判陨w片20推離蒸鍍出口a，增大電磁組件40的功耗，此外，還容易導(dǎo)致由于磁場作用力不足，未能及時(shí)將磁性蓋片20推離蒸鍍出口a的問題。

優(yōu)選的，坩堝本體10的材料包括氮化鋁、氮化硼、鈦及其合金。

坩堝本體10使用包括氮化鋁、氮化硼、鈦及其合金的材料，在加熱坩堝本體10時(shí)，坩堝本體10的結(jié)構(gòu)穩(wěn)定，不會(huì)對蒸鍍過程造成不利影響。

本發(fā)明實(shí)施例的另一方面，提供一種蒸鍍源，如圖9所示，包括上述任一項(xiàng)的蒸鍍坩堝01。

本發(fā)明實(shí)施例的蒸鍍源，包括上述任一項(xiàng)的蒸鍍坩堝01，當(dāng)本發(fā)明實(shí)施例的蒸鍍源用于摻雜蒸鍍工藝操作時(shí)，還可以包括多個(gè)蒸鍍坩堝01。例如，如圖9所示的蒸鍍源，包括兩個(gè)蒸鍍坩堝01。其中，兩個(gè)蒸鍍坩堝01中放置的蒸鍍材料30可以為不同的材料。這樣一來，在使用本發(fā)明實(shí)施例的蒸鍍源進(jìn)行摻雜蒸鍍操作時(shí)，分別在兩個(gè)蒸鍍坩堝01中放入蒸鍍成膜所需的兩種不同的蒸鍍材料，分別在兩個(gè)蒸鍍坩堝01的蒸鍍出口a處覆蓋磁性蓋片20。然后在將兩個(gè)蒸鍍坩堝01并列放置進(jìn)蒸鍍腔室并加熱，加熱達(dá)到一定溫度且蒸鍍坩堝01內(nèi)的蒸鍍材料30升華蒸發(fā)達(dá)到一定的擴(kuò)散濃度后開始蒸鍍操作，此時(shí)分別通過電磁組件40將磁性蓋片20推離蒸鍍出口a，使得蒸鍍坩堝01內(nèi)的蒸發(fā)狀態(tài)的蒸鍍材料30能夠通過蒸鍍出口a向外蒸出，并沉積在待蒸鍍基板上，即可形成摻雜有兩種蒸鍍材料30的摻雜蒸鍍膜層。

本發(fā)明實(shí)施例的再一方面，提供一種蒸鍍裝置，如圖10所示，包括蒸鍍腔室03，還包括設(shè)置在蒸鍍腔室03內(nèi)的上述的蒸鍍源02。在蒸鍍腔室03內(nèi)還設(shè)置有活動(dòng)桿04，活動(dòng)桿04與磁性蓋片20固定連接，并可帶動(dòng)磁性蓋片20在蒸鍍腔室03內(nèi)水平移動(dòng)。

如圖10所示，在蒸鍍腔室03內(nèi)部設(shè)置有活動(dòng)桿04，活動(dòng)桿04的另一端與磁性蓋片20固定連接，通過調(diào)節(jié)活動(dòng)桿04的水平移動(dòng)，能夠帶動(dòng)固定連接的磁性蓋片20隨之在蒸鍍腔室03內(nèi)水平移動(dòng)。這樣一來，一方面，在電磁組件40通電后產(chǎn)生的磁場作用力將磁性蓋片20推離蒸鍍出口a時(shí)，由于磁性蓋片20連接有活動(dòng)桿04，活動(dòng)桿04能夠限制磁性蓋片20的移動(dòng)位置，避免磁性蓋片20在受到的推力較大的情況下，由蒸鍍出口a處飛出對坩堝本體10內(nèi)壁造成撞擊損傷，在電磁組件40的磁場作用力推動(dòng)磁性蓋片20脫離蒸鍍出口a后，控制活動(dòng)桿03帶動(dòng)磁性蓋片20水平移動(dòng)離開蒸鍍出口所在的區(qū)域即可。另一方面，通過控制活動(dòng)桿04以控制磁性蓋片20的移動(dòng)，能夠使磁性蓋片20作為蒸鍍出口a處的防遮板使用，從而不再需要在蒸鍍裝置中額外設(shè)置防遮板。在蒸鍍過程中如遇到需要臨時(shí)中斷蒸鍍材料30的蒸出或類似情況時(shí)，只需控制活動(dòng)桿04帶動(dòng)磁性蓋片20移動(dòng)回蒸鍍出口a處，即可對蒸鍍出口a進(jìn)行遮擋。由于電磁組件40的作用是在通電狀態(tài)下產(chǎn)生磁場作用力將磁性蓋片20推離蒸鍍出口a，因此，在將磁性蓋片20推離蒸鍍出口a之后電磁組件40即停止通電，亦即不再產(chǎn)生向上推動(dòng)的磁場作用力，此時(shí)通過活動(dòng)桿04將磁性蓋片20移回蒸鍍出口a處對蒸鍍出口a進(jìn)行遮擋時(shí)，磁性蓋片20能夠?qū)崿F(xiàn)對蒸鍍出口a的遮擋封閉。

此外，在蒸鍍操作過程中，通過活動(dòng)桿04將磁性蓋片20作為防遮板使用時(shí)，同樣也可以為了提高磁性蓋片20對蒸鍍出口a的封閉性，通過吸磁部件50對磁性蓋片20提供吸附作用，并在需要移除防遮板時(shí)，通過電磁組件40對磁性蓋片20提供推離作用。

本發(fā)明實(shí)施例的再一方面，提供一種蒸鍍方法，如圖11所示，包括，s101、在惰性氣體環(huán)境下向坩堝本體10內(nèi)填充蒸鍍材料30，填充完成后在坩堝本體10的蒸鍍出口a處蓋設(shè)磁性蓋片20，以使得坩堝本體10內(nèi)的蒸鍍材料30與外界空氣隔絕。s102、將蒸鍍坩堝01移入蒸鍍腔室03內(nèi)，加熱蒸鍍坩堝01，坩堝本體10內(nèi)的蒸鍍材料30受熱氣化。s103、向電磁組件40的電磁線圈41通入電流形成磁場，磁場的作用力將磁性蓋片20推離蒸鍍出口a以使得受熱氣化的蒸鍍材料30通過蒸鍍出口a向外蒸發(fā)。

如圖11所示，在對待蒸鍍基板進(jìn)行蒸鍍操作時(shí)，首先在惰性氣體環(huán)境下向坩堝本體10內(nèi)填充蒸鍍材料30，由于蒸鍍材料30通常為一些活性金屬材料，例如鋰(li)、鈣(ca)等，這些活性金屬材料在與空氣中的氧接觸時(shí)容易發(fā)生氧化反應(yīng)，氧化后物質(zhì)結(jié)構(gòu)以及功能作用都會(huì)發(fā)生變化，因此需要在惰性氣體的環(huán)境下填充，而且，在填充完成后在坩堝本體10的蒸鍍出口a處蓋設(shè)磁性蓋片20，以使得坩堝本體10內(nèi)的蒸鍍材料30與外界空氣隔絕，盡可能的避免蒸鍍材料30與外界空氣中的氧氣接觸而發(fā)生氧化反應(yīng)。將封閉狀態(tài)的蒸鍍坩堝01移入蒸鍍腔室03內(nèi)之后，加熱蒸鍍坩堝01，坩堝本體10內(nèi)的蒸鍍材料30受熱氣化，并升華蒸發(fā)為氣態(tài)，氣態(tài)的蒸鍍材料30在坩堝本體10內(nèi)部空間擴(kuò)散，隨著時(shí)間的增加坩堝本體10內(nèi)部空間的氣態(tài)的蒸鍍材料30濃度不斷提高，當(dāng)氣態(tài)的蒸鍍材料30濃度達(dá)到成膜所需的狀態(tài)時(shí)，向電磁組件40的電磁線圈41通入電流形成磁場，磁場的作用力將磁性蓋片20推離蒸鍍出口a，推離磁性蓋片20后，蒸鍍出口a與外界的蒸鍍腔室03連通，受熱氣化的蒸鍍材料30通過蒸鍍出口a向外蒸發(fā)，并逐漸沉積在待蒸鍍基板上，形成蒸鍍所需的膜層。

在待蒸鍍基板成膜的過程中，如遇到需要臨時(shí)中斷蒸鍍材料30的蒸出或類似情況時(shí)，可以控制活動(dòng)桿04的移動(dòng)，以帶動(dòng)磁性蓋片20水平移動(dòng)至蒸鍍出口a處，對蒸鍍出口a進(jìn)行遮擋，在磁性蓋片20遮擋蒸鍍出口a時(shí)，蒸鍍出口a處停止向外蒸出氣態(tài)的蒸鍍材料30。待活動(dòng)桿04帶動(dòng)磁性蓋片20水平移動(dòng)離開蒸鍍出口a處后，氣態(tài)的蒸鍍材料30恢復(fù)由蒸鍍出口a向外蒸出并在待蒸鍍基板上沉積的狀態(tài)。在上述對于蒸鍍坩堝、蒸鍍源以及蒸鍍裝置的結(jié)構(gòu)關(guān)系和工作過程的具體說明中，已經(jīng)對于蒸鍍方法進(jìn)行了詳細(xì)的描述，此處不再贅述。

以上所述，僅為本發(fā)明的具體實(shí)施方式，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。