本實用新型涉及一種拋光設(shè)備, 特別涉及一種雙端面拋光機。

背景技術(shù)：

拋光機是指將工件進行超精密加工，祛除工件表面的劃痕，斑點，塌邊現(xiàn)象，使工件表面光亮，平滑，成鏡面效果甚至達到某一精確的粗超度值的機器。主要是將各種材質(zhì)的工件進行表面精拋，使其達到一定的平面度，平行度和光潔度，以及更加美觀，適用于金屬平面及非金屬材料的研磨拋光及電鍍前的表面處理。

公告號為105415156A的中國專利公開了一種閥體法蘭拋光機，它包括底板，所述底板的上端固定有支撐架，支撐架的上端安裝有氣缸，氣缸的下端固定有上部定位塊，底板的上端固定有下部定位塊，支撐架的左、右兩部均固定有齒圈，齒圈內(nèi)均嚙合有齒輪，齒輪的內(nèi)壁上固定有驅(qū)動軸，支撐架的左、右兩端均安裝有電機，電機的軸上均套有連接板，驅(qū)動軸上設(shè)有通槽，驅(qū)動軸的外壁上均套有連接管，連接管的外壁上均設(shè)有緊固螺栓，連接管上均固定有拋光輪。

該專利的不足之處在于:該裝置將工件放置在上部定位塊與下部定位塊之間并通過氣缸驅(qū)動的方式實現(xiàn)對工件的固定，通過緊固螺栓手動控制連接管實現(xiàn)在驅(qū)動軸上滑移的方式，使拋光輪抵觸工件表面進行拋光；通過手動調(diào)節(jié)兩側(cè)拋光輪與工件之間的距離，不能保證兩拋光輪與工件之間的距離保持恒定，使拋光輪對工件施加的作用力大小不同，使拋光輪在對工件的兩側(cè)進行拋光時，會對工件的兩側(cè)造成不同程度的磨損；導致該種拋光機不能實現(xiàn)對精度較高的工件實現(xiàn)拋光，會影響拋光后工件的整體精度。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本實用新型的目的是提供一種能實現(xiàn)對工件兩端面進行均勻拋光，提升拋光后工件精度的雙端面拋光機。

本實用新型的上述技術(shù)目的是通過以下技術(shù)方案得以實現(xiàn)的：一種雙端面拋光機，包括架體、對稱設(shè)置在架體上用于夾持工件的固定夾板與移動夾板以及滑移設(shè)置在架體上且沿固定夾板和移動夾板夾持方向?qū)ΨQ設(shè)置有用于實現(xiàn)同步移動打磨工件的拋光輪，所述架體上設(shè)有驅(qū)動移動夾板朝向固定夾板往復移動的氣缸a，所述架體上位于固定夾板的兩側(cè)均設(shè)有限制工件沿夾持方向?qū)ΨQ設(shè)置的限位板，所述架體上設(shè)有供固定夾板、移動夾板和氣缸a遠離限位板的滑動座。

通過采用上述技術(shù)方案，通過移動滑動座的方式將固定夾板滑移進兩限位板之間，將待加工的工件放置在固定夾板上并在限位板的限位作用下使工件始終保持在兩拋光輪的中部；通過氣缸a驅(qū)動移動夾板朝向固定夾板移動，實現(xiàn)對工件的夾持固定，再通過滑動座滑移的方式使工件脫離限位板；使兩拋光輪之間通過同步滑移的方式朝向工件的兩端面移動，使工件的兩端面受到拋光輪施加相等的作用力，實現(xiàn)對工件的均勻拋光，并提升拋光的精度。

本實用新型進一步設(shè)置為：所述架體上設(shè)有驅(qū)動滑動座朝向限位板往復滑移的氣缸b。

通過采用上述技術(shù)方案，通過氣缸b驅(qū)動的方式實現(xiàn)對滑動的移動，減少工作人員需要通過手部對滑動座的移動，使操作更加便捷。

本實用新型進一步設(shè)置為：所述限位板與架體之間可拆卸連接。

通過采用上述技術(shù)方案，通過可拆卸連接的方式實現(xiàn)對限位板的更換，更換上兩厚度不同的限位板，從而實現(xiàn)對兩限位板之間距離的調(diào)節(jié)，實現(xiàn)對不同厚度工件的限位加工。

本實用新型進一步設(shè)置為：所述限位板靠近固定夾板的一側(cè)朝向滑動座傾斜設(shè)有傾斜面。

通過采用上述技術(shù)方案，將固定夾板滑移進兩限位板之間，在傾斜設(shè)置作用下，使限位板的傾斜面底部抵觸在固夾板的兩端側(cè)實現(xiàn)對工件的固定時，使工件靠近傾斜面的上部與限位板之間不會相互抵觸，使手部可以對放置在固定夾板上的工件實現(xiàn)手動固定，使移動夾板在朝向固定夾板滑移產(chǎn)生的振動不會導致工件的脫離，從而實現(xiàn)對工件更好的夾持。

本實用新型進一步設(shè)置為：所述傾斜面上設(shè)有向內(nèi)凹陷的圓弧面。

通過采用上述技術(shù)方案，通過傾斜面上向內(nèi)凹陷的圓弧面設(shè)置使限位板能實現(xiàn)對工件限位的前提下，進一步增加放置在固定夾板上工件的外露面積，使手部更好的實現(xiàn)對工件的固定；且通過向內(nèi)凹陷的圓弧面設(shè)置，可使手部遠離固定夾板與移動夾板之間夾持位置，達到更好的安全性。

本實用新型進一步設(shè)置為：所述限位板的底部抵觸滑動座的上表面。

通過采用上述技術(shù)方案，將固定夾板移動進兩限位板之間，通過兩限位板對工件的水平方向進行限位，并通過限位板抵觸滑動座上表面的方式，實現(xiàn)工件在豎直方向上的限位，使放置在兩限位板內(nèi)的工件能實現(xiàn)自動的定位。

本實用新型進一步設(shè)置為：所述固定夾板朝向移動夾板的一面設(shè)有用于吸附工件的磁片。

通過采用上述技術(shù)方案，通過磁片產(chǎn)生的磁性吸附力，使工件更好的固定在固定夾板上，實現(xiàn)對工件更好的夾持。

本實用新型進一步設(shè)置為：所述架體上設(shè)有朝向兩限位板對稱線并延伸進兩限位板的連接板，所述連接板上轉(zhuǎn)動連接有螺桿，所述螺桿上沿連接板的延伸方向?qū)ΨQ設(shè)有反向用于使兩限位板實現(xiàn)同步移動的螺旋紋路。

通過采用上述技術(shù)方案，將兩限位板與螺桿螺紋連接，轉(zhuǎn)動螺桿并在反向螺旋紋路的作用下使兩限位板與螺桿之間朝向相向或相反的方向?qū)崿F(xiàn)同步移動，對兩限位板之間的距離起到調(diào)節(jié)作用，去適應(yīng)厚度不同的工件。

本實用新型進一步設(shè)置為：所述螺桿兩端均設(shè)有抵觸限位板的螺母。

通過采用上述技術(shù)方案，通過螺母與螺桿之間螺紋連接的方式，使螺母朝向限位板移動并抵觸在限位板表面上，并通過限位板與螺桿螺紋連接的方式對限位板施加夾持的作用力，實現(xiàn)對限位板更好的固定。

本實用新型進一步設(shè)置為：所述限位板的高度低于固定夾板的高度。

通過采用上述技術(shù)方案，將限位板的高度設(shè)置成低于固定夾板的高度，使限位板在實現(xiàn)對工件限位的同時，減少限位板對于工件的阻擋面積，使工作人員手部更好的實現(xiàn)對工件的固定。

綜上所述，本實用新型具有以下有益效果：通過氣缸a驅(qū)動移動夾板朝向固定夾板移動，實現(xiàn)對工件的夾持的固定，在通過滑動座滑移的方式使工件脫離限位板，使兩拋光輪之間通過同步滑移的方式朝向工件的兩端面移動，使工件的兩端面受到拋光輪施加相等的作用力，實現(xiàn)對工件的均勻拋光，并提升拋光的精度。

附圖說明

圖1為雙端面拋光機的立體圖。

圖中：1、架體；2、固定夾板；3、移動夾板；4、拋光輪；5、氣缸a；6、限位板；7、滑動座；8、氣缸b；9、傾斜面；10、圓弧面；11、磁片；12、連接板；13、螺桿；14、螺旋紋路；15、螺母。

具體實施方式

以下結(jié)合附圖對本實用新型作進一步詳細說明。

參考圖1，一種雙端面拋光機，包括架體1，架體1上設(shè)有驅(qū)動滑動座7滑移的氣缸b8，滑動座7上垂直于滑動座7的滑移方向?qū)ΨQ設(shè)有固定夾板2與移動夾板3，滑動座7上設(shè)有驅(qū)動移動夾板3朝向固定夾板2移動的氣缸a5，固定夾板2朝向移動夾板3的一面設(shè)有磁片11。

參考圖1，架體1上位于固定夾板2的兩側(cè)均設(shè)有限制工件沿夾持方向?qū)ΨQ設(shè)置的限位板6；限位板6的下表面抵觸滑動座7且高度低于固定夾板2的高度，限位板6靠近固定夾板2的一側(cè)朝向滑動座7傾斜設(shè)有傾斜面9，傾斜面9上設(shè)有向內(nèi)凹陷的圓弧面10；架體1上設(shè)有延伸進兩限位板6之間且位于兩限位板6中部的連接板12，連接板12上轉(zhuǎn)動連接有垂直于連接板12的螺桿13，螺桿13上沿連接板12的延伸方向?qū)ΨQ設(shè)有反向用于使兩限位板6朝向相向或相反方向同步移動的螺旋紋路14，螺桿13的兩端均設(shè)有抵觸限位板6的螺母15；架體1上設(shè)有垂直于滑動座7滑移方向且對稱設(shè)置用于實現(xiàn)同步移動的拋光輪4。

參考圖1，氣缸b8驅(qū)動滑動座7朝向限位板6所在的一側(cè)移動并使固定夾板2嵌設(shè)進兩限位板6之間存在的間隙內(nèi)，將待加工的工件放置在兩限位板6之間的固定夾板2內(nèi)，并在磁片11產(chǎn)生的磁性吸附力下使工件吸附在固定夾板2上，通過兩限位板6的限位使工件始終保持在兩拋光輪4的中部；氣缸a5驅(qū)動移動夾板3朝向固定夾板2移動，實現(xiàn)對工件的夾持固定，通過氣缸b8驅(qū)動滑動座7滑移實現(xiàn)固定夾板2與限位板6之間的分離；通過同步滑移拋光輪4，使拋光輪4朝向工件的兩端面移動并對工件的兩端面施加相同的作用力，實現(xiàn)對工件的均勻拋光，提升工件的拋光精度。

本具體實施例僅僅是對本實用新型的解釋，其并不是對本實用新型的限制，本領(lǐng)域技術(shù)人員在閱讀完本說明書后可以根據(jù)需要對本實施例做出沒有創(chuàng)造性貢獻的修改，但只要在本實用新型的權(quán)利要求范圍內(nèi)都受到專利法的保護。