一種磁控濺射設備傳送系統(tǒng)的制作方法
【專利摘要】本實用新型公開了 一種磁控濺射設備傳送系統(tǒng) ，包括傳送軸,傳送軸上設有鏈式傳送帶，帶有卡槽的傳送托盤設置于鏈式傳送帶上，且由傳送托盤側壁的第一卡扣固定于鏈式傳送帶上。所述傳送托盤內設有樣品托盤，樣品托盤包括設置于樣品托盤兩旁側壁上的滑動扳手，滑動扳手可帶動樣品托盤在卡槽內做平行移動。卡槽內設有第二卡扣，用于阻止樣品托盤在卡槽內進一步向后運動。鏈式傳送帶的上下方至少設置四個陰極靶材。上陰極靶材與下陰極靶材之間且平行于樣品托盤上面扳手的位置設有倒三角彈性阻擋器。本實用新型結構簡單，運行穩(wěn)定，并且可操作性強，可隨意控制臺階長短，適于工業(yè)生產(chǎn)。
【專利說明】一種磁控濺射設備傳送系統(tǒng)

【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種傳送系統(tǒng)，特別是涉及一種磁控濺射設備傳送系統(tǒng)。

【背景技術】
[0002]磁控濺射技術在上世紀80年代得到迅猛的發(fā)展，已經(jīng)在鍍膜領域占有舉足輕重的地位，在工業(yè)生產(chǎn)和科學領域發(fā)揮著極大的作用，然而，傳統(tǒng)的磁控濺射設備基本都是通過控制真空室中的氣壓，濺射功率來獲得穩(wěn)定的沉積速率。從而通過沉積速率和沉積時間來計算出薄膜沉積的厚度，或者根據(jù)裝在靶材附近的探測器來標定沉積厚度。但是這些均可能與已沉積薄膜實際厚度值存在差異，傳統(tǒng)廠家一般通過一個修正系數(shù)將其校準，一旦其設備長時間使用出現(xiàn)偏差，非設備廠商專業(yè)人員很難將其重新修正，而且在一般的工藝生產(chǎn)中，如我們想隨時測試已沉積的薄膜厚度，往往不具備條件。
實用新型內容
[0003]發(fā)明目的:本實用新型的目的在于解決現(xiàn)有的磁控濺射設備傳送系統(tǒng)無法準確測得薄膜沉積的厚度，設備易偏差，修正困難的問題。
[0004]
【發(fā)明內容】
:本實用新型的技術方案是這樣的:一種磁控濺射設備傳送系統(tǒng)，包括傳送軸，傳送軸上設有鏈式傳送帶，帶有卡槽的傳送托盤設置于鏈式傳送帶上，且由傳送托盤側壁的第一卡扣固定于鏈式傳送帶上；所述卡槽內設有樣品托盤，樣品托盤包括設置于樣品托盤兩旁側壁上的可帶動樣品托盤在卡槽內做平行移動的滑動扳手，卡槽內設有用于阻止樣品托盤在卡槽內進一步向后運動的第二卡扣；鏈式傳送帶的上方和下方分別設置至少兩個陰極靶；卡槽出口處設有倒三角彈性阻擋器。
[0005]作為優(yōu)化，所述樣品托盤長度小于卡槽長度。
[0006]作為優(yōu)化，倒三角彈性阻擋器設置于卡槽出口且與滑動扳手在同一平面內。
[0007]工作原理:將樣品放置于樣品托盤中，并根據(jù)需要調節(jié)樣品托盤的滑動扳手將樣品托盤向與傳送托盤移動相反的方向移動一段距離，根據(jù)操作人員的需要將放在樣品托盤上的樣品一部分送入傳送托盤內，未送入傳送托盤內的樣品正反面仍暴露在外，且暴露在外的這部分樣品正反面將會被沉積第一層薄膜。
[0008]根據(jù)需要將第二卡扣固定在卡槽內用于阻擋樣品托盤進一步移動。而此時第二卡扣與樣品托盤滑動扳手之間的距離為第二層膜可沉積的具體范圍，此范圍需小于第一層膜的沉積范圍。如僅只沉積單層膜可拆卸第二卡扣。
[0009]設備正常運行后，傳送托盤經(jīng)過第一陰極靶，第三陰極靶后將會在樣品暴露在外的部分沉積第一層膜。直到樣品托盤滑動扳手被倒三角彈性阻擋器所阻擋，而此時傳送托盤繼續(xù)向前傳送，樣品托盤即被相對的向后推入傳送托盤內部一段距離直到被第二卡扣阻擋。此時由于倒三角彈性阻擋器由于彈性可控遇到無法繼續(xù)移動的阻擋后即會根據(jù)受力向上抬起，使樣品托盤滑動扳手通過倒三角彈性阻擋器，這樣第二卡扣與樣品托盤滑動扳手之間的距離將會在經(jīng)過第二陰極靶，第四陰極靶后被沉積第二層薄膜。
[0010]設備操作完成后即會出現(xiàn)帶有臺階的雙層膜結構，此結構可輕易得通過臺階儀或類似原理測試設備測出每層膜膜厚。同樣的，如遇到多層膜結構，可使用類似方法增加陰極靶數(shù)量分別做多層薄膜的沉積而后完成測試工作。
[0011]技術效果:本實用新型與現(xiàn)有技術相比:本實用新型解決了磁控濺射設備對于鍍單層膜或多層膜厚度的不確定性，通過倒三角彈性阻擋器在樣品鍍膜過程中的打開有效的在樣品鍍膜過程中制造處膜層臺階，在工藝結束后可簡單有效的測試出樣品所鍍各個膜層的膜厚。該裝置結構簡單，運行穩(wěn)定，并且可操作性強，可隨意控制臺階長短，可有效的運用于工業(yè)生產(chǎn)。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0012]圖1為本實用新型結構示意圖；
[0013]圖2為本實用新型傳送托盤的結構示意圖。

【具體實施方式】
[0014]下面結合實施例對本實用新型作進一步說明，但不作為對本實用新型的限定。
[0015]如附圖1和附圖2所示，一種磁控濺射設備傳送系統(tǒng)，包括傳送軸1，傳送軸1上設有鏈式傳送帶2，帶有卡槽3的傳送托盤4設置于鏈式傳送帶2上，且由傳送托盤3側壁的第一卡扣5固定于鏈式傳送帶2上；所述卡槽3內設有樣品托盤6，樣品托盤6包括設置于樣品托盤6兩旁側壁上的可帶動樣品托盤6在卡槽3內做平行移動的滑動扳手7，卡槽3內設有用于阻止樣品托盤6在卡槽3內進一步向后運動的第二卡扣8 ;鏈式傳送帶2的上方和下方分別設置第一陰極靶9，第二陰極靶10，第三陰極靶11，第四陰極靶12 ;卡槽3出口處設有倒三角彈性阻擋器13。樣品托盤6長度為10mm,卡槽3長度為15mm。倒三角彈性阻擋器13設置于卡槽3出口且與滑動扳手7在同一平面內，倒三角彈性阻擋器13靠近倒三角底邊的部分通過轉軸活動設置于于傳送托盤4內，在重力作用下，尖端垂下，在遇到不可阻擋的力的時候還是會翻轉而打開倒三角彈性阻擋器13。
[0016]將樣品放置于樣品托盤6中，并根據(jù)需要調節(jié)樣品托盤6的滑動扳手7將樣品托盤6向與傳送托盤4移動相反的方向移動一段距離，根據(jù)操作人員的需要將放在樣品托盤6上的樣品一部分送入傳送托盤4內，未送入傳送托盤4內的樣品正反面仍暴露在外，且暴露在外的這部分樣品正反面將會被沉積第一層薄膜。
[0017]根據(jù)需要將第二卡扣8固定在卡槽3內用于阻擋樣品托盤6進一步移動。而此時第二卡扣8與樣品托盤滑動扳手7之間的距離為第二層膜可沉積的具體范圍，此范圍需小于第一層膜的沉積范圍。如僅只沉積單層膜可拆卸第二卡扣8。
[0018]設備正常運行后，傳送托盤經(jīng)過第一陰極靶9，第三陰極靶11后將會在樣品暴露在外的部分沉積第一層膜。直到樣品托盤滑動扳手7被倒三角彈性阻擋器13所阻擋，而此時傳送托盤4繼續(xù)向前傳送，樣品托盤6即被相對的向后推入傳送托盤4內部一段距離直到被第二卡扣8阻擋。此時由于倒三角彈性阻擋器13由于彈性可控遇到無法繼續(xù)移動的阻擋后即會根據(jù)受力向上抬起，使樣品托盤滑動扳手7通過倒三角彈性阻擋器13，這樣第二卡扣8與樣品托盤滑動扳手7之間的距離將會在經(jīng)過第二陰極靶10，第四陰極靶12后被沉積第二層薄膜。
[0019]設備操作完成后即會出現(xiàn)帶有臺階的雙層膜結構，此結構可輕易得通過臺階儀或類似原理測試設備測出每層膜膜厚。同樣的，如遇到多層膜結構，可使用類似方法增加陰極靶數(shù)量分別做多層薄膜的沉積而后完成測試工作。
【權利要求】
1.一種磁控濺射設備傳送系統(tǒng)，其特征在于:包括傳送軸，傳送軸上設有鏈式傳送帶，帶有卡槽的傳送托盤設置于鏈式傳送帶上，且由傳送托盤側壁的第一卡扣固定于鏈式傳送帶上；所述卡槽內設有樣品托盤，樣品托盤包括設置于樣品托盤兩旁側壁上的可帶動樣品托盤在卡槽內做平行移動的滑動扳手，卡槽內設有用于阻止樣品托盤在卡槽內進一步向后運動的第二卡扣；鏈式傳送帶的上方和下方分別設置至少兩個陰極靶；卡槽出口處設有倒三角彈性阻擋器。
2.根據(jù)權利要求1所述的磁控濺射設備傳送系統(tǒng)，其特征在于:所述樣品托盤長度小于卡槽長度。
3.根據(jù)權利要求1所述的磁控濺射設備傳送系統(tǒng)，其特征在于:倒三角彈性阻擋器設置于卡槽出口且與滑動扳手在同一平面內。
【文檔編號】C23C16/52GK204111858SQ201420483909
【公開日】2015年1月21日 申請日期:2014年8月26日 優(yōu)先權日:2014年8月26日
【發(fā)明者】魏郝然 申請人:國電光伏有限公司, 國電新能源技術研究院