磨球表面拋光裝置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種磨球表面拋光裝置，包括拋光機(jī)構(gòu)，所述拋光機(jī)構(gòu)包括拋光輪和帶動(dòng)所述拋光輪旋轉(zhuǎn)的電機(jī)，所述電機(jī)和所述拋光輪均設(shè)置于所述底座上；還包括限位轉(zhuǎn)向機(jī)構(gòu)，所述限位轉(zhuǎn)向機(jī)構(gòu)包括限位轉(zhuǎn)向輪和用于移動(dòng)所述限位轉(zhuǎn)向輪的伸縮氣缸，所述限位轉(zhuǎn)向輪的滾面具有內(nèi)凹的弧形結(jié)構(gòu)，所述伸縮氣缸包括氣缸筒和伸縮桿，所述限位轉(zhuǎn)向輪設(shè)置于所述伸縮桿上，所述氣缸筒設(shè)置于所述底座上；還包括支撐機(jī)構(gòu)，所述支撐機(jī)構(gòu)包括套筒和設(shè)置于所述套筒內(nèi)的滑塊，所述套筒內(nèi)且位于所述滑塊底部設(shè)置有彈性體，所述滑塊位于所述拋光輪和所述限位轉(zhuǎn)向輪之間的間隙下方。本實(shí)用新型能夠?qū)η蛐舞T件表面進(jìn)行拋光作業(yè)，滿足實(shí)際使用要求。
【專利說明】磨球表面拋光裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種磨球表面拋光裝置，屬于鑄造件加工設(shè)備【技術(shù)領(lǐng)域】。

【背景技術(shù)】
[0002]用于粉碎物料的磨球?yàn)橐环N球形的鋼質(zhì)金屬制件，其加工過程通常包括鑄造和打磨兩個(gè)步驟，為了滿足高精度的要求通常還需要對(duì)磨球表面進(jìn)行拋光處理；使用了一段時(shí)間后磨球的表面變得粗糙，也需要進(jìn)行拋光處理后才能繼續(xù)使用。目前專門用于對(duì)球形鑄件進(jìn)行拋光的設(shè)備尚未見公開，采用常規(guī)的人工方式拋光效率較低，因此，有必要設(shè)計(jì)一種專門的球形鑄件拋光設(shè)備，以提高磨球表面拋光作業(yè)的效率。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0003]本實(shí)用新型正是針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)存在的不足，提供一種磨球表面拋光裝置，能夠?qū)η蛐舞T件表面進(jìn)行拋光作業(yè)，滿足實(shí)際使用要求。
[0004]為解決上述問題，本實(shí)用新型所采取的技術(shù)方案如下:
[0005]一種磨球表面拋光裝置，包括:
[0006]用于固定各組件的底座；
[0007]用于高速旋轉(zhuǎn)并摩擦磨球表面的拋光機(jī)構(gòu)，所述拋光機(jī)構(gòu)包括拋光輪和帶動(dòng)所述拋光輪旋轉(zhuǎn)的電機(jī)，所述電機(jī)和所述拋光輪均設(shè)置于所述底座上；
[0008]用于固定并旋轉(zhuǎn)磨球的限位轉(zhuǎn)向機(jī)構(gòu)，所述限位轉(zhuǎn)向機(jī)構(gòu)包括限位轉(zhuǎn)向輪和用于移動(dòng)所述限位轉(zhuǎn)向輪的伸縮氣缸，所述限位轉(zhuǎn)向輪的滾面具有內(nèi)凹的弧形結(jié)構(gòu)，所述伸縮氣缸包括氣缸筒和伸縮桿，所述限位轉(zhuǎn)向輪設(shè)置于所述伸縮桿上，所述氣缸筒設(shè)置于所述底座上；
[0009]用于支撐磨球的支撐機(jī)構(gòu)，所述支撐機(jī)構(gòu)包括設(shè)置于所述底座的套筒和設(shè)置于所述套筒內(nèi)的滑塊，所述套筒內(nèi)且位于所述滑塊底部設(shè)置有彈性體，所述滑塊位于所述拋光輪和所述限位轉(zhuǎn)向輪之間的間隙下方。
[0010]作為上述技術(shù)方案的改進(jìn)，所述底座設(shè)置有第一豎梁和第二豎梁，所述拋光輪設(shè)置有第一輪軸，所述限位轉(zhuǎn)向輪設(shè)置有第二輪軸，所述第一輪軸設(shè)置于所述第一豎梁上，所述第二輪軸設(shè)置于所述伸縮桿上，所述氣缸筒設(shè)置于所述第二豎梁上。
[0011]本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比較，本實(shí)用新型的實(shí)施效果如下:
[0012]本實(shí)用新型所述的磨球表面拋光裝置，所述限位轉(zhuǎn)向輪滾面內(nèi)凹的弧形結(jié)構(gòu)結(jié)合所述滑塊和所述拋光輪共同對(duì)磨球進(jìn)行限位，啟動(dòng)電機(jī)即可使所述拋光輪旋轉(zhuǎn)并拋光磨球的表面，能夠?qū)η蛐舞T件表面進(jìn)行拋光作業(yè)，滿足實(shí)際使用要求，且拋光作業(yè)效率高。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0013]圖1為本實(shí)用新型所述的磨球表面拋光裝置結(jié)構(gòu)示意圖；
[0014]圖2為本實(shí)用新型所述的限位轉(zhuǎn)向輪的滾面結(jié)構(gòu)示意圖。

【具體實(shí)施方式】
[0015]下面將結(jié)合具體的實(shí)施例來說明本實(shí)用新型的內(nèi)容。
[0016]如圖1和圖2所示，為本實(shí)用新型所述的磨球表面拋光裝置結(jié)構(gòu)示意圖。本實(shí)用新型所述磨球表面拋光裝置，包括:用于固定各組件的底座I ;用于高速旋轉(zhuǎn)并摩擦磨球9表面的拋光機(jī)構(gòu)，所述拋光機(jī)構(gòu)包括拋光輪2和帶動(dòng)所述拋光輪2旋轉(zhuǎn)的電機(jī)3,所述電機(jī)3和所述拋光輪2均設(shè)置于所述底座I上；用于固定并旋轉(zhuǎn)磨球9的限位轉(zhuǎn)向機(jī)構(gòu)，所述限位轉(zhuǎn)向機(jī)構(gòu)包括限位轉(zhuǎn)向輪4和用于移動(dòng)所述限位轉(zhuǎn)向輪4的伸縮氣缸，所述限位轉(zhuǎn)向輪4的滾面具有內(nèi)凹的弧形結(jié)構(gòu)，所述伸縮氣缸包括氣缸筒51和伸縮桿52，所述限位轉(zhuǎn)向輪4設(shè)置于所述伸縮桿52上，所述氣缸筒51設(shè)置于所述底座I上；用于支撐磨球9的支撐機(jī)構(gòu)，所述支撐機(jī)構(gòu)包括設(shè)置于所述底座I的套筒6和設(shè)置于所述套筒6內(nèi)的滑塊7，所述套筒6內(nèi)且位于所述滑塊7底部設(shè)置有彈性體8，所述滑塊7位于所述拋光輪2和所述限位轉(zhuǎn)向輪4之間的間隙下方。具體地，所述底座設(shè)置有第一豎梁11和第二豎梁12，所述拋光輪2設(shè)置有第一輪軸21，所述限位轉(zhuǎn)向輪4設(shè)置有第二輪軸41，所述第一輪軸21設(shè)置于所述第一豎梁11上，所述第二輪軸41設(shè)置于所述伸縮桿52上，所述氣缸筒51設(shè)置于所述第二豎梁12上。
[0017]工作時(shí)，伸縮氣缸控制所述限位轉(zhuǎn)向輪4向左移動(dòng)，使所述拋光輪2和所述限位轉(zhuǎn)向輪4之間的間隙略大于磨球9的直徑，放入磨球9后，伸縮氣缸控制所述限位轉(zhuǎn)向輪4向右移動(dòng)，通過所述限位轉(zhuǎn)向輪4滾面內(nèi)凹的弧形結(jié)構(gòu)結(jié)合所述滑塊7和所述拋光輪2共同對(duì)磨球9進(jìn)行限位，啟動(dòng)電機(jī)3即可使所述拋光輪2旋轉(zhuǎn)并拋光磨球9的表面，拋光過程中可以轉(zhuǎn)動(dòng)所述限位轉(zhuǎn)向輪4以改變磨球9的拋光部位。且所述滑塊7由于底部設(shè)置有彈性體8，因而具有升降的彈性，從而可以糾正所述限位轉(zhuǎn)向輪4向右移動(dòng)的幅度偏差，避免對(duì)磨球9的限位作用過緊或過松。
[0018]以上內(nèi)容是結(jié)合具體的實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型所作的詳細(xì)說明，不能認(rèn)定本實(shí)用新型具體實(shí)施僅限于這些說明。對(duì)于本實(shí)用新型所屬【技術(shù)領(lǐng)域】的技術(shù)人員來說，在不脫離本實(shí)用新型構(gòu)思的前提下，還可以做出若干簡(jiǎn)單推演或替換，都應(yīng)當(dāng)視為屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種磨球表面拋光裝置，其特征是，包括: 用于固定各組件的底座(I); 用于高速旋轉(zhuǎn)并摩擦磨球(9)表面的拋光機(jī)構(gòu)，所述拋光機(jī)構(gòu)包括拋光輪(2)和帶動(dòng)所述拋光輪(2 )旋轉(zhuǎn)的電機(jī)(3 )，所述電機(jī)(3 )和所述拋光輪(2 )均設(shè)置于所述底座(I)上；用于固定并旋轉(zhuǎn)磨球(9)的限位轉(zhuǎn)向機(jī)構(gòu)，所述限位轉(zhuǎn)向機(jī)構(gòu)包括限位轉(zhuǎn)向輪(4)和用于移動(dòng)所述限位轉(zhuǎn)向輪(4)的伸縮氣缸，所述限位轉(zhuǎn)向輪(4)的滾面具有內(nèi)凹的弧形結(jié)構(gòu)，所述伸縮氣缸包括氣缸筒(51)和伸縮桿(52)，所述限位轉(zhuǎn)向輪(4)設(shè)置于所述伸縮桿(52)上，所述氣缸筒(51)設(shè)置于所述底座(I)上； 用于支撐磨球(9)的支撐機(jī)構(gòu)，所述支撐機(jī)構(gòu)包括設(shè)置于所述底座(I)的套筒(6)和設(shè)置于所述套筒(6)內(nèi)的滑塊(7)，所述套筒(6)內(nèi)且位于所述滑塊(7)底部設(shè)置有彈性體(8),所述滑塊(7)位于所述拋光輪(2)和所述限位轉(zhuǎn)向輪(4)之間的間隙下方。
2.如權(quán)利要求1所述的磨球表面拋光裝置，其特征是，所述底座設(shè)置有第一豎梁(11)和第二豎梁(12)，所述拋光輪(2)設(shè)置有第一輪軸(21)，所述限位轉(zhuǎn)向輪(4)設(shè)置有第二輪軸(41)，所述第一輪軸(21)設(shè)置于所述第一豎梁(11)上，所述第二輪軸(41)設(shè)置于所述伸縮桿(52)上，所述氣缸筒(51)設(shè)置于所述第二豎梁(12)上。
【文檔編號(hào)】B24B29/04GK204135859SQ201420464804
【公開日】2015年2月4日 申請(qǐng)日期:2014年8月18日 優(yōu)先權(quán)日:2014年8月18日
【發(fā)明者】馮得平 申請(qǐng)人:青陽(yáng)縣天平機(jī)械制造有限公司