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一種金屬有機(jī)化合物容器的制造方法

文檔序號(hào):3334589閱讀:209來源:國(guó)知局
一種金屬有機(jī)化合物容器的制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種金屬有機(jī)化合物容器,包括:瓶體、瓶體頂部、瓶體底部,所述瓶體頂部置有加料口、進(jìn)氣管和出氣管,所述瓶體內(nèi)置有一隔板,將瓶體內(nèi)腔分為腔室I和腔室II,所述進(jìn)氣管與出氣管延伸入腔體內(nèi)部與腔室I聯(lián)通,進(jìn)氣管管口延伸入瓶體底部,出氣管管口位于瓶體上部;所述腔室II中置有壓力施加體。本實(shí)用新型旨在解決源體減少時(shí)載氣與源接觸不充分造成源飽和蒸汽壓不穩(wěn)定的技術(shù)難題;且減少源體剩余量,提高單瓶源的利用率,減少生產(chǎn)成本。
【專利說明】一種金屬有機(jī)化合物容器

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本實(shí)用新型涉及金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積技術(shù),具體為一種金屬有機(jī)化合物容器?!颈尘凹夹g(shù)】
[0002] 在半導(dǎo)體工業(yè)中,通常使用化學(xué)氣相沉積工藝進(jìn)行沉積各薄膜層,其沉積過程所 使用金屬有機(jī)化合物源封裝與密封容器內(nèi),在鋼瓶頂部設(shè)置進(jìn)氣管與出氣管,運(yùn)載氣體通 過進(jìn)氣口和出氣口將源體輸送至沉積腔室內(nèi);而在此運(yùn)輸過程中,載氣通過進(jìn)氣口進(jìn)入瓶 體底部,與源體充分接觸后溢出源體,再通過出氣口進(jìn)入腔室管路。但在生長(zhǎng)過程中,隨著 容器內(nèi)源體的減少,載氣與源體的接觸隨之減少,從而造成載氣攜帶的源飽和度降低,使得 源體的飽和蒸汽壓穩(wěn)定性降低,進(jìn)而影響沉積腔室內(nèi)膜層的均勻性;且當(dāng)容器內(nèi)剩余源體 積高度低于一定范圍值時(shí),因無法達(dá)到沉積需求的飽和蒸汽壓穩(wěn)定性,故而需更換新源,造 成源體剩余量過多的浪費(fèi)。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003] 針對(duì)上述問題,本實(shí)用新型提出了一種金屬有機(jī)化合物容器,旨在解決源體減少 時(shí)載氣與源接觸不充分造成源飽和蒸汽壓不穩(wěn)定的技術(shù)難題;且減少源體剩余量,提高單 瓶源的利用率,減少生產(chǎn)成本。
[0004] 本實(shí)用新型解決上述問題的技術(shù)方案為:一種金屬有機(jī)化合物容器,包括:瓶體、 瓶體頂部、瓶體底部,所述瓶體頂部置有加料口、進(jìn)氣管和出氣管,所述瓶體內(nèi)置有一隔板, 將瓶體內(nèi)腔分為腔室I和腔室II,其中進(jìn)氣管與出氣管延伸入腔體內(nèi)部與腔室I聯(lián)通,進(jìn) 氣管管口延伸入瓶體底部,出氣管管口位于瓶體上部;所述腔室II中置有壓力施加體。
[0005] 在一些實(shí)施列中,腔室I和腔室II為共用頂部的左右結(jié)構(gòu);隔板與瓶體底部具有 一間距,使腔室I和腔室II在底部處相互連通;而壓力施加體置于腔室II頂部?jī)?nèi)表面與腔 體內(nèi)金屬有機(jī)化合物表面之間。
[0006] 在一些實(shí)施例中,所述腔室I頂部區(qū)域安裝有位置探測(cè)器,用于檢測(cè)腔室I中金 屬有機(jī)化合物剩余高度,當(dāng)測(cè)腔室I中金屬有機(jī)化合物剩余高度低于一設(shè)定值時(shí),此時(shí)壓 力施加體將腔室II中的金屬有機(jī)化合物壓入腔室I,保持腔室I中金屬有機(jī)化合物的上表 面維持一恒定范圍。
[0007] 優(yōu)選的,所述隔板與瓶體底部間距小于或等于壓力施加體的厚度。
[0008] 優(yōu)選的,所述隔板厚度范圍為l~5cm。
[0009] 優(yōu)選的,所述壓力施加體橫截面寬度等于所述腔室II內(nèi)徑。
[0010] 優(yōu)選的,所述腔室I和腔室II的體積比為
[0011] 本實(shí)用新型至少具有以下有益效果:本實(shí)用新型的金屬有機(jī)化合物容器,通過改 變?cè)大w剩余高度,增加載氣與源體的接觸程度,改善源體飽和蒸汽壓的穩(wěn)定性,進(jìn)而改善腔 室沉積膜的均勻性;此外,此容器作用過程可減少源的剩余量,提高單瓶利用率,降低生產(chǎn) 成本;同時(shí),當(dāng)源體剩余量達(dá)到一定值后,該容器裝置可起到警戒作用,防止源體耗盡造成 產(chǎn)品報(bào)廢的現(xiàn)象發(fā)生。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0012] 附圖用來提供對(duì)本實(shí)用新型的進(jìn)一步理解,并且構(gòu)成說明書的一部分,與本實(shí)用 新型的實(shí)施例一起用于解釋本實(shí)用新型,并不構(gòu)成對(duì)本實(shí)用新型的限制。此外,附圖數(shù)據(jù)是 描述概要,不是按比例繪制。
[0013] 圖1為實(shí)施例1的金屬有機(jī)化合物容器結(jié)構(gòu)截面不意圖。
[0014] 圖中標(biāo)示:
[0015] 1.進(jìn)氣管;2.出氣管;3.瓶體;31.瓶體頂部;32.瓶體底部;4.隔板;41.隔板與 底部間距;5.壓力施加體;51.連桿;6.金屬有機(jī)化合物上表面;7.位置探測(cè)器。

【具體實(shí)施方式】
[0016] 下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】進(jìn)行詳細(xì)說明。
[0017] 實(shí)施例1
[0018] 請(qǐng)參看附圖1,一種金屬有機(jī)化合物容器包括:瓶體3、瓶體頂部31、瓶體底部32, 所述瓶體頂部31置有加料口(圖中未示出)、進(jìn)氣管1和出氣管2,所述瓶體3內(nèi)置有一隔板 4, 將瓶體內(nèi)腔分為腔室I和腔室II,其中進(jìn)氣管1與出氣管2延伸入腔體內(nèi)部與腔室I聯(lián) 通,進(jìn)氣管1管口延伸入瓶體底部32,出氣管2管口位于金屬有機(jī)化合物上表面6之上,與 金屬有機(jī)化合物上表面6不接觸;腔室I對(duì)應(yīng)頂部區(qū)域安裝有位置探測(cè)器7,可選用激光探 測(cè)儀、聲波探測(cè)儀等距離探測(cè)儀器;腔室II中置有壓力施加體5。
[0019] 其中,腔室I和腔室II為共用瓶體頂部31的左右結(jié)構(gòu);隔板4與瓶體底部具有一 間距,使腔室I和腔室II在底部處相互連通;壓力施加體5置于腔室II對(duì)應(yīng)頂部?jī)?nèi)表面與 腔體內(nèi)金屬有機(jī)化合物上表面之間;在使用過程中,隨著源體的減少,當(dāng)位置探測(cè)器8檢測(cè) 到腔室I中金屬有機(jī)化合物上表面6位置低于一設(shè)定范圍時(shí)(該范圍可依據(jù)生長(zhǎng)要求,參 照膜層質(zhì)量進(jìn)行調(diào)整,如可為瓶體高度的1/6等),位置探測(cè)器8將信息傳遞至壓力施加體 5, 此時(shí)壓力施加體開始向下施加力量推動(dòng)腔室II中的金屬有機(jī)化合物,使之從隔板與底部 的間距41中進(jìn)入腔室I,使腔室I中金屬有機(jī)化合物的上表面6上升至前述設(shè)定范圍,使 載氣與源體的接觸足夠充分。其中間距41的距離小于或等于壓力施加體5的厚度,而壓力 施加體5的厚度范圍為l~5cm;且為保證腔室II中金屬有機(jī)化合物充分進(jìn)入腔室I中,所以 設(shè)計(jì)壓力施加體縱截面與所述腔室II內(nèi)徑吻合,即寬度等于其內(nèi)徑。同時(shí),設(shè)計(jì)腔室I和腔 室II的體積比為1:1~1: 5。此步驟中,壓力施加體5可優(yōu)選用步進(jìn)電機(jī)配合機(jī)械傳動(dòng)控制系 統(tǒng),當(dāng)位置探測(cè)器8將探測(cè)信息反饋至壓力施加體5的控制系統(tǒng)時(shí),該控制系統(tǒng)調(diào)節(jié)壓力施 加體5的施加壓力,該壓力可通過連桿51以下壓方式作用于壓力施加體5的表面,并促使 其推動(dòng)腔室II中金屬有機(jī)化合物。
[0020] 應(yīng)當(dāng)理解的是,上述具體實(shí)施方案為本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例,本實(shí)用新型的范 圍不限于該實(shí)施例,凡依本實(shí)用新型所做的任何變更,皆屬本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1. 一種金屬有機(jī)化合物容器,包括:瓶體、瓶體頂部、瓶體底部,所述瓶體頂部置有加 料口、進(jìn)氣管和出氣管,其特征在于:所述瓶體內(nèi)置有一隔板,將瓶體內(nèi)腔分為腔室I和腔 室II,所述進(jìn)氣管與出氣管延伸入腔體內(nèi)部與腔室I聯(lián)通,進(jìn)氣管管口延伸入瓶體底部,出 氣管管口位于瓶體上部;所述腔室II中置有壓力施加體。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬有機(jī)化合物容器,其特征在于:所述腔室I和腔室II為 共用頂部的左右結(jié)構(gòu);所述隔板與瓶體底部具有一間距,使腔室I和腔室II在底部處相互 連通。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的金屬有機(jī)化合物容器,其特征在于:所述隔板與瓶體底部間 距小于或等于壓力施加體的厚度。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬有機(jī)化合物容器,其特征在于:所述腔室I頂部區(qū)域安 裝有位置探測(cè)器。
5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的金屬有機(jī)化合物容器,其特征在于:所述探測(cè)器用于檢測(cè)腔 室I中金屬有機(jī)化合物剩余高度,當(dāng)測(cè)腔室I中金屬有機(jī)化合物剩余高度低于一設(shè)定值 時(shí),此時(shí)壓力施加體將腔室II中的金屬有機(jī)化合物壓入腔室I,保持腔室I中金屬有機(jī)化 合物的上表面維持一恒定范圍。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬有機(jī)化合物容器,其特征在于:所述壓力施加體置于腔 室II頂部?jī)?nèi)表面,用于推壓位于腔體II內(nèi)的金屬有機(jī)化合物,使其向腔體I移動(dòng)。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬有機(jī)化合物容器,其特征在于:所述壓力施加體橫截面 寬度等于所述腔室II內(nèi)徑。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬有機(jī)化合物容器,其特征在于:所述壓力施加體厚度范 圍為l~5cm。
9. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬有機(jī)化合物容器,其特征在于:所述腔室I和腔室II的 體積比為1:廣1:5。
【文檔編號(hào)】C23C16/18GK204022936SQ201420461515
【公開日】2014年12月17日 申請(qǐng)日期:2014年8月15日 優(yōu)先權(quán)日:2014年8月15日
【發(fā)明者】邱樹添, 吳洪浩, 徐志軍, 謝祥彬, 張家宏, 卓昌正, 林既既, 謝翔麟 申請(qǐng)人:安徽三安光電有限公司
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