一種片狀基片的連續(xù)鍍膜生產(chǎn)系統(tǒng)的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種片狀基片的連續(xù)鍍膜生產(chǎn)系統(tǒng)，包括依次連通的進(jìn)料區(qū)、工作區(qū)和下料區(qū)，進(jìn)料區(qū)包含進(jìn)片臺，工作區(qū)依據(jù)鍍膜工藝流程方向依次包括若干預(yù)真空室、第一過渡室、鍍膜沉積室、快速氣氛退火室、若干預(yù)真空室，下料區(qū)包括卸料臺，工作區(qū)各室均具備所需真空環(huán)境；還包括能進(jìn)行線性傳動的傳輸裝置；所述傳輸裝置貫通整個進(jìn)料區(qū)、工作區(qū)和下料區(qū)。本連續(xù)鍍膜系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)了包含熱色涂層材料在內(nèi)的一層或多層復(fù)合膜的在同一條生產(chǎn)線的分區(qū)域連續(xù)沉膜與退火，明顯提高了生產(chǎn)效率，同時降低了材料在鍍膜后離線退火過程中的材料損耗成本。由于其獨(dú)特的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)可以明顯改善鋼化應(yīng)力損耗的問題，該系統(tǒng)生產(chǎn)的鋼化玻璃基智能玻璃應(yīng)力可達(dá)到國家建筑節(jié)能安全玻璃的應(yīng)力標(biāo)準(zhǔn)要求≥90Mpa。
【專利說明】一種片狀基片的連續(xù)鍍膜生產(chǎn)系統(tǒng)

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及熱色涂層材料的生產(chǎn)制備領(lǐng)域，尤其是涉及一種片狀基片的連續(xù)鍍膜 生產(chǎn)系統(tǒng)。

【背景技術(shù)】
[0002] 迫于能源短缺的壓力，目前世界各國都十分關(guān)注占據(jù)社會三分之一總能耗的建筑 節(jié)能領(lǐng)域，尤其是建筑門窗節(jié)能成為關(guān)注焦點(diǎn)。為此L0W-E節(jié)能門窗玻璃已經(jīng)獲得廣泛應(yīng) 用，但是光學(xué)特性不能隨人的意志或環(huán)境條件而改變，其舒適性和節(jié)能效果存在局限性。相 比而言，熱色涂層材料（尤其熱色智能玻璃）具有隨環(huán)境溫度變化調(diào)控得熱量的功能，其節(jié) 能效果更為明顯，成為與L0W-E玻璃相媲美的節(jié)能玻璃產(chǎn)品的選擇。已經(jīng)有多家科研機(jī)構(gòu) 或產(chǎn)業(yè)公司進(jìn)行熱色智能玻璃的研究與開發(fā)，近年來尤其從產(chǎn)業(yè)化角度開展了具有相關(guān)功 能鍍膜生產(chǎn)系統(tǒng)和加熱系統(tǒng)設(shè)備的研究。針對玻璃基的二氧化釩熱色智能玻璃而言，不管 是高溫一次沉膜還是低溫沉膜后高溫退火一般都需要在400°C?600°C溫度范圍進(jìn)行，因 普通玻璃基片在150°C左右以上的溫度易出現(xiàn)破損。故需要選擇耐溫性能較好的鋼化玻璃 作為基片，然而鋼化玻璃在400°C?600°C溫度范圍內(nèi)已經(jīng)開始出現(xiàn)應(yīng)力損耗造成安全性 能下降，保持該溫度條件的時間越長則應(yīng)力損耗越大，最終使得制備的熱色智能玻璃強(qiáng)度 不能夠達(dá)到國家或行業(yè)相關(guān)使用標(biāo)準(zhǔn)，因此相關(guān)工藝路線以及生產(chǎn)設(shè)備的研制有待考慮這 個重要的問題。
[0003] 中國專利CN103204636A公布一種透明導(dǎo)電氧化物鍍膜玻璃鍍膜線加熱冷卻 系統(tǒng)，該設(shè)備可以用于高溫條件下一次沉積熱色涂層材料的工藝路線，但是該結(jié)構(gòu)復(fù)雜 維護(hù)不便，采取電阻式的加熱方式效率低下，為了維持沉膜需要的溫度而在玻璃上下表 面都加熱，玻璃整體處于熱色涂層材料沉積所需溫度40(TC?60(TC的高溫狀態(tài)，必然 造成鋼化玻璃基的應(yīng)力損耗安全性能下降，不能夠達(dá)到國家或行業(yè)相關(guān)使用標(biāo)準(zhǔn)，如 GB15763. 2-2005建筑用安全玻璃-鋼化玻璃、GB17841-1999幕墻用鋼化玻璃與半鋼化玻璃 以及GB18045-2000鐵道車輛用安全玻璃。此外玻璃整體吸熱量多降溫緩慢，不利于快速降 溫改善鋼化玻璃應(yīng)力損耗的問題，加熱過程和冷卻過程能耗巨大。中國專利CN101008074A 提供了一種可以帶旋轉(zhuǎn)反射罩的紅外加熱裝置以及可實(shí)現(xiàn)基片旋轉(zhuǎn)和移動的鍍膜裝置，但 是其結(jié)構(gòu)復(fù)雜不利于大批量熱色智能玻璃在如圖所示的設(shè)備結(jié)構(gòu)的工件平臺上頻繁移動， 此外加熱系統(tǒng)整體位于真空室內(nèi)部，因散熱等原因?qū)е率褂脡勖艿絿?yán)重影響，而且紅外 輻射燈管維護(hù)也不方便。中國專利CN2846440Y提出一種連續(xù)鍍膜裝置用加熱器，真空室內(nèi) 設(shè)置保溫層，其結(jié)果造成被處理基片因?yàn)榄h(huán)境二次輻射等造成非主要的膜層一次的表層 受熱，而是基片整體溫度的上升，如果應(yīng)用于玻璃基熱色涂層材料的退火處理明顯影響鋼 化應(yīng)力損耗，同時因玻璃吸收較多會引起降溫速度的降低。此外，輻射燈管完全置于真空室 內(nèi)因散熱等原因?qū)е率褂脡勖艿絿?yán)重影響，而且紅外輻射燈管維護(hù)也不方便。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0004] 鑒于現(xiàn)有鍍膜以及加熱系統(tǒng)的使用局限，本發(fā)明提供一種連續(xù)鍍膜系統(tǒng)，通過同 一條生產(chǎn)線低溫濺射鍍膜、高溫真空快速退火的方法實(shí)現(xiàn)在片狀基片的連續(xù)鍍制完成具有 隨環(huán)境溫度變化調(diào)控得熱量的熱色涂層材料，同時改善涂覆熱色涂層的玻璃基片在退火過 程中應(yīng)力損耗問題。
[0005] 為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用如下技術(shù)方案：
[0006] -種片狀基片的連續(xù)鍍膜系統(tǒng)，其特征是：包括依次連通的進(jìn)料區(qū)、工作區(qū)和下料 區(qū)，進(jìn)料區(qū)包含進(jìn)片臺1，工作區(qū)依據(jù)鍍膜工藝流程方向依次包括若干預(yù)真空室、第一過渡 室4、第一鍍膜沉積室5、快速氣氛退火室6、若干預(yù)真空室，下料區(qū)包括卸料臺12,工作區(qū)各 室均具備所需真空環(huán)境；所述各預(yù)真空室通過密封裝置分隔；所述快速氣氛退火室6內(nèi)設(shè) 有工作腔60,所述工作腔60包括內(nèi)腔601和外壁602,內(nèi)腔601和外壁602之間設(shè)有用于 流動冷卻劑的冷卻夾層603 ;所述內(nèi)腔601的內(nèi)表面涂覆吸熱涂層；所述內(nèi)腔601內(nèi)設(shè)有若 干支位于同一水平面的并列排布的熱輻射燈管68 ;所述內(nèi)腔601與所述真空泵組相連通； 還包括能進(jìn)行線性傳動的傳輸裝置；所述傳輸裝置貫通整個進(jìn)料區(qū)、工作區(qū)和下料區(qū)；所 述熱輻射燈管68安放在所述傳輸裝置的上方。
[0007] 所述冷卻劑可以是冷卻水、冷卻氣流或其他常用于冷卻散熱的流體。
[0008] 鍍膜沉積室采用濺射鍍膜的方式對基片進(jìn)行鍍膜。鍍膜沉積室內(nèi)安裝有多套陰極 靶材作為陰極，并將鍍膜沉積室的傳輸機(jī)構(gòu)接地作為陽極，在陰極和陽極間加數(shù)百伏電壓， 兩極間即產(chǎn)生輝光放電，放電產(chǎn)生的正離子在電場作用下飛向陰極，與靶材表面的原子碰 撞，從而使靶面逸出濺射原子。濺射原子在基片表面沉積成膜。
[0009] 各真空室、鍍膜沉積室和快速氣氛退火室6的工作腔均可由內(nèi)腔和外壁構(gòu)成，內(nèi) 腔和外壁之間均可設(shè)有冷卻夾層，工作腔均與真空泵組連通，以獲得工藝所需的真空環(huán)境。
[0010] 本發(fā)明的工作原理如下：
[0011] 啟動傳輸裝置，將基片從進(jìn)片臺1輸送至預(yù)真空室后，真空泵組啟動，對預(yù)真空室 進(jìn)行抽真空。隨后根據(jù)真空度情況繼續(xù)輸送片狀基片至第一鍍膜沉積室5內(nèi)，在第一鍍膜 沉積室5的陰極和陽極間加數(shù)百伏電壓，兩極間產(chǎn)生輝光放電使陰極靶材產(chǎn)生濺射原子， 濺射原子在基片的上表面沉積，形成薄膜?；纳媳砻娉练e薄膜后，傳輸裝置輸送基片 進(jìn)入快速氣氛退火室6。基片在快速氣氛退火室6內(nèi)經(jīng)快速加熱和冷卻，實(shí)現(xiàn)快速退火后， 進(jìn)入下游的預(yù)真空室內(nèi)進(jìn)行冷卻。待基片達(dá)到冷卻要求后，傳輸裝置輸送基片至卸料臺12 并完成卸件。
[0012] 所述片狀基片包含玻璃類材料、金屬類材料以及陶瓷類材料,優(yōu)選為玻璃類材料。 基片表層可鍍制包含熱色涂層材料的膜層、透明導(dǎo)電膜以及增透膜，優(yōu)選為包含熱色涂層 材料的膜層。
[0013] 由于熱輻射燈管68安放在傳輸裝置的上方，在加熱過程中，燈管與基片上的熱色 材料涂層的間距最小，燈管的輻射射線會優(yōu)先加熱基片上表面的熱色材料涂層，相比之下， 熱色材料涂層下方的基片自身吸收的熱量較少，溫升速率較涂層而言較慢，在熱色材料涂 層達(dá)到工藝退火溫度時，基片自身的溫度相對較低，從而降低了基片在熱處理時的應(yīng)力損 耗，確保產(chǎn)品符合建筑節(jié)能行業(yè)的玻璃安全性能要求。
[0014] 當(dāng)基片上需要沉積多層復(fù)合膜時，僅依靠第一鍍膜沉積室5可能難以滿足復(fù)合程 度更高的使用需求。為了避免這一情況，優(yōu)選的是，在快速氣氛退火室6下游與預(yù)真空室之 間設(shè)有依次第二鍍膜沉積室7、第二過渡室9。
[0015] 在鍍膜過程中，由于鍍膜的工藝不同，鍍膜后的基片溫度可能較高，這樣導(dǎo)致基片 冷卻的時間較長，影響生產(chǎn)效率。為了避免這一情況，優(yōu)選的是，所述最下游的預(yù)真空室與 卸料臺12之間設(shè)有風(fēng)柵急冷區(qū)11 ;所述風(fēng)柵急冷區(qū)11內(nèi)設(shè)有若干條風(fēng)管111 ;所述風(fēng)管 111分布在所述傳輸機(jī)構(gòu)的上方和下方；所述風(fēng)管上設(shè)有若干個風(fēng)嘴112。風(fēng)柵急冷區(qū)11 內(nèi)的風(fēng)管與鼓風(fēng)機(jī)連接。當(dāng)基片從最下游真空室出來，進(jìn)入風(fēng)柵急冷區(qū)11后，鼓風(fēng)機(jī)啟動， 氣流行經(jīng)風(fēng)管111和風(fēng)嘴112,對基片進(jìn)行吹拂，實(shí)現(xiàn)基片的快速冷卻。鑒于基片移出真空 室后，進(jìn)入風(fēng)柵急冷區(qū)11，在大氣環(huán)境中進(jìn)行冷卻所需的時間需要參考基片的溫度，作為進(jìn) 一步改進(jìn)，所述風(fēng)柵急冷區(qū)11與最下游真空室之間設(shè)有用于測量基片的整體溫度均勻性 分布以及表層溫度高低的紅外熱成像儀113。
[0016] 根據(jù)功能劃分，所述快速氣氛退火室6的工作腔包括預(yù)熱段62、退火段63和冷卻 段64。
[0017] 在預(yù)熱段62和退火段63內(nèi)，所述快速氣氛退火室6的腔體上設(shè)有若干溫度測量 儀，所述快速氣氛退火室6的腔體內(nèi)設(shè)有若干支位于同一水平面的并列排布的石英玻璃管 67,所述石英玻璃管67穿過所述快速氣氛退火室6的腔體，與工作腔60通過耐溫膠圈69 密封連接；所述耐溫膠圈69上設(shè)有冷卻保護(hù)裝置；所述腔體的兩側(cè)設(shè)有用于懸掛熱輻射燈 管68的支架，所述熱輻射燈管68設(shè)在所述石英玻璃管67內(nèi)，通過所述支架懸掛安裝；所述 熱輻射燈管68的兩端還設(shè)有用于冷卻燈管端頭的空氣冷卻裝置。為了保證基片的加熱效 果，優(yōu)選的是，所述熱輻射燈管距離基片上表面距離為5-100mm。優(yōu)選距離為10-50mm。
[0018] 在冷卻段64內(nèi)，所述快速氣氛退火室6腔體內(nèi)設(shè)有多排冷卻管75,所述冷卻管75 安設(shè)在所述傳輸裝置的上方和/或下方。作為進(jìn)一步改進(jìn)，所述冷卻管75呈蛇形管結(jié)構(gòu)。 冷卻劑由進(jìn)水口進(jìn)入冷卻管75,然后從出水口流出，注入人工制冷源76,通過人工制冷實(shí) 現(xiàn)冷卻水的冷卻循環(huán)使用。為了節(jié)約制冷能耗，優(yōu)選的是，在地表下安裝冷卻箱體77,所述 冷卻箱體77與冷卻管75連通。冷卻劑由進(jìn)水口進(jìn)入冷卻管75,然后從出水口流出，注入人 工制冷源76和地表下的冷卻箱體77,通過地表下水箱以及人工制冷實(shí)現(xiàn)冷卻水的冷卻循 環(huán)使用。
[0019] 所述熱輻射燈管68可以是紅外輻射燈管、鹵素輻射燈管、頻閃加熱燈管以及高功 率電阻式燈管，優(yōu)選為紅外輻射燈管。為了提高快速氣氛退火室6的熱處理效率，優(yōu)選的 是，所述熱輻射燈管68背離傳輸裝置的一側(cè)涂覆有熱反射涂層。在快速氣氛退火室6上安 裝溫度傳感器與溫控器后，根據(jù)溫度傳感器反饋的實(shí)時數(shù)據(jù)，利用溫控器通訊調(diào)控?zé)彷椛?燈管的輸出功率，即可實(shí)現(xiàn)從室溫至700°C之間的溫度的自由調(diào)控，可以在一分鐘內(nèi)令基片 的表面溫度達(dá)到700°C，從而實(shí)現(xiàn)快速退火。
[0020] 為確保較高溫度的基片能夠正常傳動，快速氣氛退火室6以及位于其下游的真空 室內(nèi)均采用耐高溫的傳輸裝置。
[0021] 由于快速氣氛退火室6的上游和下游均可能設(shè)有鍍膜沉積室，為了避免鍍膜室內(nèi) 的濺射原子對位于快速氣氛退火室6內(nèi)的基片造成影響，優(yōu)選的是，所述快速氣氛退火室6 內(nèi)設(shè)有用于隔離可控氣氛的前隔離段61和后隔離段65;所述前隔離段61位于預(yù)熱段62的 上游；所述后隔離段65位于冷卻段64的下游。為了基片在快速氣氛退火室6內(nèi)的冷卻效 率，作為進(jìn)一步改進(jìn)，在后隔離段65內(nèi)，所述快速氣氛退火室6腔體內(nèi)設(shè)有多排冷卻管75 ; 所述冷卻管75呈蛇形管結(jié)構(gòu)，安設(shè)在所述傳輸裝置的上方和/或下方。為增加冷卻效果， 可以在冷卻管表面涂覆吸熱涂層。
[0022] 在退火段63內(nèi)，所述快速氣氛退火室6的腔體上還設(shè)置有工藝布?xì)夤艿?4,從工 藝布?xì)夤艿?4可通入Ar、N 2, H2、C0 -種或多種混合氣體、02或02與Ar的混合氣體、空氣 作為退火工藝氣體。為了保證快速氣氛退火室6內(nèi)的真空保護(hù)氣氛，優(yōu)選的是，退火工藝氣 體是N2。
[0023] 在退火段63內(nèi)，與所述快速氣氛退火室6腔體相連的真空管道上安裝有調(diào)節(jié) 閥。通過控制調(diào)節(jié)閥，保證所述快速氣氛退火室6內(nèi)的真空壓力維持在工藝所需的真空 范圍內(nèi)。優(yōu)選的是，所述快速氣氛退火室6內(nèi)的真空壓力在l(T 2pa-103pa范圍內(nèi)，優(yōu)選 10 ipa-lC^pa。
[0024] 所述鍍膜沉積室內(nèi)至少設(shè)有一個含V元素的陰極靶材。所述陰極靶材可 以是平面靶或柱狀靶。所述陰極靶材可以是V靶、V 205靶、V203靶、V02靶、V 204靶或 含少量W、Mo、Zn、Ce、Ti、Eu、Mg、Nb、Ta元素中的一種或多種摻雜金屬或者金屬氧 化物的靶材。作為進(jìn)一步改進(jìn)，所述摻雜金屬或者金屬氧化物的靶材的成分比例在

【權(quán)利要求】
1. 一種片狀基片的連續(xù)鍍膜生產(chǎn)系統(tǒng)，其特征是：包括依次連通的進(jìn)料區(qū)、工作區(qū)和 下料區(qū)，進(jìn)料區(qū)包含進(jìn)片臺（1)，工作區(qū)依據(jù)鍍膜工藝流程方向依次包括若干預(yù)真空室、第 一過渡室（4)、第一鍍膜沉積室（5)、快速氣氛退火室（6)、若干預(yù)真空室，下料區(qū)包括卸料 臺（12)，工作區(qū)各室均具備所需真空環(huán)境；所述各預(yù)真空室通過密封裝置分隔；所述快速 氣氛退火室￠)內(nèi)設(shè)有工作腔￠0)，所述工作腔￠0)包括內(nèi)腔（601)和外壁￠02)，內(nèi)腔 (601)和外壁（602)之間設(shè)有用于流動冷卻劑的冷卻夾層（603);所述內(nèi)腔（601)的內(nèi)表 面涂覆吸收涂層（604);所述內(nèi)腔（601)內(nèi)設(shè)有若干支位于同一水平面的并列排布的熱輻 射燈管（68);所述內(nèi)腔（601)與所述真空泵組相連通；還包括能進(jìn)行線性傳動的傳輸裝置； 所述傳輸裝置貫通整個進(jìn)料區(qū)、工作區(qū)和下料區(qū)；所述熱輻射燈管（68)安放在所述傳輸裝 置的上方。
2. 如權(quán)利要求1所述的片狀基片的連續(xù)鍍膜生產(chǎn)系統(tǒng)，其特征是：在快速氣氛退火室 (6)下游與預(yù)真空室之間依次設(shè)有第二鍍膜沉積室（7)、第二過渡室（8)。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種片狀基片的連續(xù)鍍膜生產(chǎn)系統(tǒng)，其特征是：所述最 下游的預(yù)真空室（10)與卸料臺（12)之間設(shè)有風(fēng)柵急冷區(qū)（11);所述風(fēng)柵急冷區(qū)（11)內(nèi) 設(shè)有若干條風(fēng)管（111);所述風(fēng)管（111)分布在所述傳輸裝置的上方和下方；所述風(fēng)管上設(shè) 有若干個風(fēng)嘴（112)。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種片狀基片的連續(xù)鍍膜生產(chǎn)系統(tǒng)，其特征是：所述快速氣 氛退火室（6)的工作腔（60)包括預(yù)熱段（62)、退火段（63)和冷卻段（64)，在預(yù)熱段（62) 和退火段（63)內(nèi)，所述快速氣氛退火室（6)的腔體上設(shè)有若干溫度測量儀，所述快速氣氛 退火室（6)的工作腔（60)內(nèi)設(shè)有若干支位于同一水平面的并列排布的石英玻璃管（67)，所 述石英玻璃管（67)穿過所述快速氣氛退火室（6)的工作腔，與工作腔通過耐溫膠圈（69) 密封連接，所述耐溫膠圈￠9)上設(shè)有冷卻保護(hù)裝置，所述工作腔￠0)腔體的兩側(cè)設(shè)有用于 懸掛熱輻射燈管（68)的支架，所述熱輻射燈管（68)設(shè)在所述透明石英玻璃管（67)內(nèi)，通 過所述支架懸掛安裝，所述熱輻射燈管（68)的兩端還設(shè)有用于冷卻燈管端頭的空氣冷卻 裝置，所述熱輻射燈管（68)距離基片上表面距離為5-100mm ;在冷卻段（64)內(nèi)，所述快速 氣氛退火室（6)的工作腔￠0)內(nèi)設(shè)有多排冷卻管（75);所述冷卻管（75)安設(shè)在所述傳輸 裝置的上方和/或下方；所述冷卻管（75)呈蛇形管結(jié)構(gòu)。
5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種片狀基片的連續(xù)鍍膜生產(chǎn)系統(tǒng)，其特征是：所述快速氣 氛退火室（6)內(nèi)設(shè)有用于隔離可控氣氛的前隔離段（61)和后隔離段（65);所述前隔離段 (61)位于預(yù)熱段（62)的上游；所述后隔離段（65)位于冷卻段（64)的下游；在后隔離段 (65)內(nèi)，所述快速氣氛退火室（6)腔體內(nèi)設(shè)有多排冷卻管（75);所述冷卻管（75)呈蛇形管 結(jié)構(gòu)，安設(shè)在所述傳輸裝置的上方和/或下方。
6. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種片狀基片的連續(xù)鍍膜生產(chǎn)系統(tǒng)，其特征是：所述風(fēng)柵急 冷區(qū)（11)與最下游真空室之間設(shè)有用于測量基片的整體溫度均勻性分布以及表層溫度高 低的紅外熱成像儀（113)。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種片狀基片的連續(xù)鍍膜生產(chǎn)系統(tǒng)，其特征是：所述 鍍膜沉積室內(nèi)至少設(shè)有一個含V元素的陰極靶材；所述陰極靶材選自V靶、V 205靶、 V203靶、V02靶、V 204靶或含少量W、Mo、Zn、Ce、Ti、Eu、Mg、Nb、Ta元素中的一種或多種 摻雜金屬或者金屬氧化物的靶材；所述摻雜金屬或者金屬氧化物的靶材的成分比例在
8. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種片狀基片的連續(xù)鍍膜生產(chǎn)系統(tǒng)，其特征是：所述進(jìn)料區(qū)、 工作區(qū)和下料區(qū)內(nèi)設(shè)有若干個用于定位基片位置的定位傳感器；所述傳輸裝置由若干段輸 送輥（13)組成，每段輸送輥（13)至少連接有一臺可獨(dú)立運(yùn)行的傳動電機(jī)。
9. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種片狀基片的連續(xù)鍍膜生產(chǎn)系統(tǒng)，其特征是：所述熱輻射 燈管￠8)是紅外輻射燈管、鹵素輻射燈管、頻閃加熱燈管或高功率電阻式燈管；所述熱輻 射燈管（68)背離傳輸裝置的一側(cè)涂覆有熱反射涂層。
10. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種片狀基片的連續(xù)鍍膜生產(chǎn)系統(tǒng)，其特征是：安裝在所述 鍍膜沉積室內(nèi)的各陰極靶材（51)之間設(shè)有真空區(qū)（52);所述真空區(qū)（52)與陰極靶材（51) 之間通過第一隔板（53)分隔；所述第一隔板（53)與腔體之間留有供基片進(jìn)出的狹縫；所 述鍍膜沉積室與快速氣氛退火室（6)、所述鍍膜沉積室與所述過渡室通過第二隔板（42)分 隔；所述第二隔板（42)與腔體之間留有供基片進(jìn)出的狹縫。
【文檔編號】C23C14/34GK104060236SQ201410204085
【公開日】2014年9月24日 申請日期:2014年5月14日 優(yōu)先權(quán)日:2014年5月14日
【發(fā)明者】徐剛, 詹勇軍, 熊斌, 黃華凜, 孫耀明 申請人:中國科學(xué)院廣州能源研究所