專利名稱：內(nèi)孔高頻淬火處理感應(yīng)圈的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種內(nèi)孔高頻淬火處理感應(yīng)圈。
背景技術(shù)：
零件內(nèi)孔要求表面硬度> HRC58，硬化層深度f 2mm，組織均勻，兩次高頻淬火間不能相互影響，零件異型結(jié)構(gòu)(尖、角)需要淬透且不允許有熔化現(xiàn)象。傳統(tǒng)的內(nèi)孔高頻淬火處理感應(yīng)圈，包括冷卻水管以及套設(shè)于冷卻水管上的多個導(dǎo)磁塊，參見圖1和圖2，導(dǎo)磁塊的縱剖截面為C型結(jié)構(gòu)，所述C型結(jié)構(gòu)包括上橫段、豎段以及下橫段，所述上橫段、豎段以及下橫段均為矩形，導(dǎo)磁塊的橫剖截面呈矩形結(jié)構(gòu)。傳統(tǒng)內(nèi)孔高頻淬火處理感應(yīng)圈的導(dǎo)磁體加熱區(qū)域不集中，加熱效率不高，加熱范圍寬的缺點，導(dǎo)致內(nèi)孔高頻淬火處理的效率較低且質(zhì)量較差。發(fā)明內(nèi)容本實用新型的目的在于克服上述不足，提供一種內(nèi)孔高頻淬火處理的效率較高且質(zhì)量較好的內(nèi)孔高頻淬火處理感應(yīng)圈。本實用新型的目的是這樣實現(xiàn)的一種內(nèi)孔高頻淬火處理感應(yīng)圈，它包括冷卻水管以及多個導(dǎo)磁塊，所述冷卻水管包括一個C型水管段以及兩個直線水管段，所述兩個直線水管段位于C型水管段的同一側(cè)，所述兩個直線水管段與C型水管段的兩端垂直連接，所述導(dǎo)磁塊的縱剖截面為C型結(jié)構(gòu)，所述C型結(jié)構(gòu)包括上橫段、豎段以及下橫段，所述下橫段的外端設(shè)置有向下的斜面，所述斜面的傾斜角度為4(Γ45°，所述導(dǎo)磁塊的橫剖截面呈扇形結(jié)構(gòu)，多個導(dǎo)磁塊套設(shè)于C型水管段上，且C型結(jié)構(gòu)的開口朝外。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型的有益效果是本實用新型通過改變導(dǎo)磁體形狀，減小接觸面，調(diào)整磁感應(yīng)線的分布集中，由矩形改為扇形，縮短工件與感應(yīng)圈的距離，提高加熱效率；導(dǎo)磁塊的下橫段設(shè)計有斜角，防止加熱到底面。它具有設(shè)計合理，制造方便，它屏蔽了靠近線圈的雜散磁通來減小非處理部位的加熱，改進(jìn)了加熱模式、均勻性，提高熱處理質(zhì)量，而且在同樣功率條件下，加熱時間由原來的8s提高到5s，省電約40%，縮短加工時間提高生產(chǎn)效率。該內(nèi)孔高頻淬火處理感應(yīng)圈具有內(nèi)孔高頻淬火處理的效率較高且質(zhì)量較好的優(yōu)點。

圖1為傳統(tǒng)導(dǎo)磁塊的側(cè)視圖。圖2為傳統(tǒng)導(dǎo)磁塊的俯視圖。圖3為本實用新型內(nèi)孔高頻淬火處理感應(yīng)圈的結(jié)構(gòu)示意圖。圖4為本實用新型導(dǎo)磁塊的側(cè)視圖。圖5為本實用新型導(dǎo)磁塊的俯視圖。其中[0015]冷卻水管1、C型水管段11、直線水管段12導(dǎo)磁塊2、上橫段21、豎段22、下橫段23。
具體實施方式
參見圖3 圖5，本實用新型涉及的一種內(nèi)孔高頻淬火處理感應(yīng)圈，它包括冷卻水管I以及多個導(dǎo)磁塊2，所述冷卻水管I包括一個C型水管段11以及兩個直線水管段12，所述兩個直線水管段12位于C型水管段11的同一側(cè)，所述兩個直線水管段12與C型水管段11的兩端垂直連接，所述導(dǎo)磁塊2的縱剖截面為C型結(jié)構(gòu)，所述C型結(jié)構(gòu)包括上橫段21、豎段22以及下橫段23，所述下橫段23的外端設(shè)置有向下的斜面，所述斜面的傾斜角度為4(Γ45°，所述導(dǎo)磁塊2的橫剖截面呈扇形結(jié)構(gòu)，多個導(dǎo)磁塊2套設(shè)于C型水管段12上，且C型結(jié)構(gòu)的開口朝外。如圖1和圖3所示，本實用新型導(dǎo)磁塊較傳統(tǒng)導(dǎo)磁塊產(chǎn)生磁感應(yīng)線密集，能夠增加 加熱效率。
權(quán)利要求1 一種內(nèi)孔高頻淬火處理感應(yīng)圈，其特征在于它包括冷卻水管(I)以及多個導(dǎo)磁塊(2),所述冷卻水管(I)包括一個C型水管段(11)以及兩個直線水管段(12)，所述兩個直線水管段(12 )位于C型水管段(11)的同一側(cè)，所述兩個直線水管段(12 )與C型水管段(11) 的兩端垂直連接，所述導(dǎo)磁塊(2)的縱剖截面為C型結(jié)構(gòu)，所述C型結(jié)構(gòu)包括上橫段(21)、 豎段(22)以及下橫段(23)，所述下橫段(23)的外端設(shè)置有向下的斜面，所述斜面的傾斜角度為4(Γ45°，所述導(dǎo)磁塊(2)的橫剖截面呈扇形結(jié)構(gòu)，多個導(dǎo)磁塊(2)套設(shè)于C型水管段 (12)上，且C型結(jié)構(gòu)的開口朝外。
專利摘要本實用新型涉及一種內(nèi)孔高頻淬火處理感應(yīng)圈，其特征在于它包括冷卻水管(1)以及多個導(dǎo)磁塊(2)，所述冷卻水管(1)包括一個C型水管段(11)以及兩個直線水管段(12)，所述兩個直線水管段(12)位于C型水管段(11)的同一側(cè)，所述兩個直線水管段(12)與C型水管段(11)的兩端垂直連接，所述導(dǎo)磁塊(2)的縱剖截面為C型結(jié)構(gòu)，所述C型結(jié)構(gòu)包括上橫段(21)、豎段(22)以及下橫段(23)，所述下橫段(23)的外端設(shè)置有向下的斜面，所述斜面的傾斜角度為40~45°，所述導(dǎo)磁塊(2)的橫剖截面呈扇形結(jié)構(gòu)，多個導(dǎo)磁塊(2)套設(shè)于C型水管段(12)上，且C型結(jié)構(gòu)的開口朝外。本實用新型內(nèi)孔高頻淬火處理感應(yīng)圈具有內(nèi)孔高頻淬火處理的效率較高且質(zhì)量較好的優(yōu)點。
文檔編號C21D1/42GK202830088SQ20122041795
公開日2013年3月27日 申請日期2012年8月22日 優(yōu)先權(quán)日2012年8月22日
發(fā)明者陳文 , 昝茂榮, 陳紅衛(wèi), 嚴(yán)偉, 孫文萍 申請人:無錫鷹貝精密軸承有限公司