專利名稱：一種調(diào)節(jié)真空磁控輝光均勻性的裝置和方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及玻璃深加工技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種調(diào)節(jié)真空磁控輝光均勻性裝置和方法。
背景技術(shù)：
上世紀(jì)90年代至今，磁控濺射技術(shù)的應(yīng)用日趨廣泛，在工業(yè)化生產(chǎn)和科學(xué)研究領(lǐng)域發(fā)揮巨大作用。磁控濺射技術(shù)作為一種十分有效的薄膜沉積方法，被普遍和成功的應(yīng)用在許多方面，特別是光學(xué)薄膜、微電子、材料表面處理領(lǐng)域中，用于薄膜沉積和表面覆蓋層制備。

磁控濺射生成的薄膜厚度的均勻性是成膜性質(zhì)的一項(xiàng)重要指標(biāo)，在濺射鍍膜中，由于靶內(nèi)磁場(chǎng)分布，濺射氣體分部以及濺射源特有的性質(zhì)等原因，使得所鍍膜層厚度不能理想的均勻分布。專利號(hào)CN201120282981. 5的中國(guó)專利公開了一種可改善磁控濺射鍍膜均勻性的鍍膜裝置，其方法是鍍膜腔體內(nèi)安裝一組可調(diào)節(jié)長(zhǎng)度的擋板，通過在大氣下控制開口大小來控制均勻程度。該方法的局限性有以下幾點(diǎn)。一、調(diào)節(jié)目的性差，靠多次操作經(jīng)驗(yàn)來完成。二、調(diào)節(jié)針對(duì)性不強(qiáng)，不能針對(duì)某個(gè)腔體時(shí)時(shí)調(diào)節(jié)。三、調(diào)節(jié)精度差，沒有定量調(diào)節(jié)裝置，所以其實(shí)用性不良。四、操作性能不好，該技術(shù)只能在大氣環(huán)境下操作，嚴(yán)重影響正常工業(yè)化生產(chǎn)。

發(fā)明內(nèi)容
為了克服上述現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明的目的是提供一種調(diào)節(jié)真空磁控輝光均勻性裝置和方法，能夠在真空中精確定位調(diào)節(jié)，實(shí)現(xiàn)有效地輝光均勻性調(diào)節(jié)。為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用如下裝置一種調(diào)節(jié)真空磁控輝光均勻性裝置，包括長(zhǎng)度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)、輝光均勻控制機(jī)構(gòu)、輝光均勻機(jī)構(gòu)，所述長(zhǎng)度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)與所述輝光均勻控制機(jī)構(gòu)配合以控制所述輝光均勻機(jī)構(gòu)調(diào)節(jié)所述輝光的均勻性；所述長(zhǎng)度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)是長(zhǎng)度可調(diào)的調(diào)節(jié)桿。所述輝光均勻控制機(jī)構(gòu)包括圓環(huán)形調(diào)節(jié)套和固定于套外的倒V型調(diào)節(jié)板。所述調(diào)節(jié)套包括調(diào)節(jié)內(nèi)套和調(diào)節(jié)外套，所述調(diào)節(jié)內(nèi)套套接固定于所述調(diào)節(jié)桿頂端，所述調(diào)節(jié)內(nèi)套設(shè)有若干內(nèi)套定位磁鐵，所述調(diào)節(jié)外套相應(yīng)位置設(shè)有相同數(shù)量的外套定位磁鐵。所述調(diào)節(jié)內(nèi)套可隨著調(diào)節(jié)桿的轉(zhuǎn)動(dòng)而轉(zhuǎn)動(dòng)，同時(shí)，由于所述內(nèi)套定位磁鐵和所述外套定位磁鐵的磁力作用，所述調(diào)節(jié)外套隨著所述調(diào)節(jié)內(nèi)套的旋轉(zhuǎn)而轉(zhuǎn)動(dòng)。所述輝光均勻機(jī)構(gòu)包括長(zhǎng)形擋板外罩和若干設(shè)置于所述擋板外罩內(nèi)的輝光均勻構(gòu)件，所述輝光均勻構(gòu)件包括擋板和固定于擋板上的擋板釘。
所述輝光均勻機(jī)構(gòu)包括長(zhǎng)形擋板外罩和若干設(shè)置于所述擋板外罩內(nèi)的輝光均勻構(gòu)件，所述輝光均勻構(gòu)件包括擋板和固定于擋板上的擋板釘，所述調(diào)節(jié)板可帶動(dòng)所述擋板釘往復(fù)移動(dòng)從而調(diào)節(jié)所述擋板開口大小。所述調(diào)節(jié)桿在長(zhǎng)度調(diào)節(jié)狀態(tài)下可對(duì)應(yīng)不同位置的所述擋板。所述調(diào)節(jié)桿上設(shè)置有刻度。本發(fā)明還提供一種調(diào)節(jié)真空磁控輝光均勻性的方法，包括以下步驟步驟I :測(cè)量濺射產(chǎn)品均勻性，判斷各個(gè)位置的濺射強(qiáng)弱；

步驟2 :調(diào)節(jié)桿根據(jù)濺射強(qiáng)弱的位置調(diào)節(jié)長(zhǎng)度以定位需要調(diào)整的位置，旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)桿帶動(dòng)調(diào)節(jié)套上的調(diào)節(jié)板旋轉(zhuǎn)，所述調(diào)節(jié)板帶動(dòng)擋板上的擋板釘移動(dòng)，控制該位置擋板開口大小，濺射較強(qiáng)位置，移動(dòng)使擋板開口變小，在濺射較弱部分，移動(dòng)使擋板開口變大；步驟3 :繼續(xù)生產(chǎn)濺射產(chǎn)品并測(cè)量其均勻性；步驟4 :重復(fù)步驟I至3，直至均勻性達(dá)到生產(chǎn)要求。本發(fā)明的有益效果是可以在真空環(huán)境下操作，不用回氣操作，大大降低了成本節(jié)約人力物力；可以精確調(diào)節(jié)濺射到玻璃表面的濺射物厚度；氣密性好、不會(huì)出現(xiàn)漏氣現(xiàn)象；可操作性強(qiáng)，該操作為可視化操作，通過觀察窗能看到每塊擋板的位置；可減少鍍膜玻璃掉渣缺陷的發(fā)生，擋板有一定的擋渣作用；連續(xù)性強(qiáng)、可根據(jù)實(shí)際生產(chǎn)需要隨時(shí)調(diào)整。


圖I為本發(fā)明的工作結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為本發(fā)明的正面結(jié)構(gòu)示意圖。圖3為本發(fā)明的調(diào)節(jié)套與擋板配合示意4為本發(fā)明的調(diào)節(jié)內(nèi)套和調(diào)節(jié)外套的放大5為本發(fā)明的調(diào)節(jié)桿的初始狀態(tài)6為本發(fā)明的調(diào)節(jié)桿的調(diào)節(jié)狀態(tài)中，I、調(diào)節(jié)桿2、密封法蘭3、擋板釘4、調(diào)節(jié)外套5、調(diào)節(jié)外套磁鐵6、調(diào)節(jié)內(nèi)套磁鐵7、調(diào)節(jié)內(nèi)套8、調(diào)節(jié)板9、擋板10、擋板外罩11、真空腔體12、底板
具體實(shí)施例方式下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的一種具體實(shí)施方式
做出說明。參見圖1-3，本發(fā)明的調(diào)節(jié)真空磁控輝光均勻性裝置，包括在真空腔體11內(nèi)設(shè)置有至少一排擋板9，可以有多排，其內(nèi)置于擋板外罩10內(nèi)，調(diào)節(jié)內(nèi)套4和調(diào)節(jié)外套7形成調(diào)節(jié)套，并且調(diào)節(jié)內(nèi)套4套接于調(diào)節(jié)桿I的位于真空腔體11內(nèi)的遠(yuǎn)端部分，調(diào)節(jié)桿I通過密封法蘭2與真空腔體11密封連接，調(diào)節(jié)套可以根據(jù)調(diào)節(jié)桿的長(zhǎng)度調(diào)節(jié)來定位于不同擋板9的擋板釘3處，從而調(diào)整擋板9的開口大小，調(diào)整底板12的濺射均勻性。參見圖3，調(diào)節(jié)外套7外周固定有呈倒V型的調(diào)節(jié)板8，擋板9的擋板釘3位于調(diào)節(jié)板8的V型空間內(nèi)。參見圖4，在調(diào)節(jié)內(nèi)套4的周圍有多個(gè)調(diào)節(jié)內(nèi)套磁鐵6，例如4個(gè)，相應(yīng)地，在調(diào)節(jié)外套7的周圍有相應(yīng)數(shù)量的調(diào)節(jié)外套磁鐵5,例如4個(gè),該兩組磁鐵可相互作用，實(shí)現(xiàn)力傳遞。
參見圖5-6，調(diào)節(jié)桿I長(zhǎng)度可調(diào)節(jié)，其結(jié)構(gòu)形式為可抽插移動(dòng)、可多次折疊方式，并且上面帶有刻度，可精確定位調(diào)節(jié)桿在真空腔體11內(nèi)的位置，也可以精確定位所要調(diào)整擋板9的位置。其工作方式是在真空(不限于真空)環(huán)境下通過帶有刻度調(diào)節(jié)桿I的旋轉(zhuǎn)來帶動(dòng)在調(diào)節(jié)桿遠(yuǎn)端的調(diào)節(jié)內(nèi)套4，調(diào)節(jié)內(nèi)套4通過設(shè)置于其上的多個(gè)例如4個(gè)調(diào)節(jié)內(nèi)套磁鐵6來帶動(dòng)旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)外套磁鐵5，使調(diào)節(jié)外套7也跟著旋轉(zhuǎn)，當(dāng)調(diào)節(jié)外套7旋轉(zhuǎn)時(shí)其下端的調(diào)節(jié)板8會(huì)帶動(dòng)固定在擋板上的擋板釘3移動(dòng)，擋板9也隨之被調(diào)節(jié)。由于調(diào)節(jié)桿I長(zhǎng)度是可以調(diào)節(jié)的，不同長(zhǎng)度的調(diào)節(jié)桿I可以調(diào)節(jié)成對(duì)應(yīng)不同位置擋板9，因此在生產(chǎn)過程中，根據(jù)不同真空內(nèi)環(huán)境調(diào)節(jié)相應(yīng)位置擋板開口大小，可以精確的完成單靶均勻性。實(shí)際產(chǎn)品的濺射過程如下1、測(cè)量濺射產(chǎn)品均勻性，判斷各個(gè)位置的濺射強(qiáng)弱；
2、調(diào)節(jié)桿I根據(jù)濺射強(qiáng)弱的位置調(diào)節(jié)長(zhǎng)度以定位需要調(diào)整擋板9的位置，旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)桿I帶 動(dòng)調(diào)節(jié)套上的調(diào)節(jié)板8旋轉(zhuǎn)，調(diào)節(jié)板8帶動(dòng)擋板9上的擋板釘3移動(dòng)，控制該位置擋板9的開口大小，如果是濺射較強(qiáng)位置，移動(dòng)使擋板9開口變小，在濺射較弱部分，移動(dòng)使擋板9開口變大；3、繼續(xù)生產(chǎn)濺射產(chǎn)品并測(cè)量其均勻性；4、重復(fù)步驟I至3，直至均勻性達(dá)到生產(chǎn)要求。以上對(duì)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)例進(jìn)行了詳細(xì)說明，但所述內(nèi)容僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例，不能被認(rèn)為用于限定本發(fā)明的實(shí)施范圍。凡依本發(fā)明申請(qǐng)范圍所作的均等變化與改進(jìn)等，均應(yīng)仍歸屬于本發(fā)明的專利涵蓋范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種調(diào)節(jié)真空磁控輝光均勻性裝置，包括長(zhǎng)度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)、輝光均勻控制機(jī)構(gòu)、輝光均勻機(jī)構(gòu)，所述長(zhǎng)度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)與所述輝光均勻控制機(jī)構(gòu)配合以控制所述輝光均勻機(jī)構(gòu)調(diào)節(jié)所述輝光的均勻性。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的裝置，其特征在于所述長(zhǎng)度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)是長(zhǎng)度可調(diào)的調(diào)節(jié)桿。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的裝置，其特征在于所述輝光均勻控制機(jī)構(gòu)包括圓環(huán)形調(diào)節(jié)套和固定于套外的倒V型調(diào)節(jié)板。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置，其特征在于所述調(diào)節(jié)套包括調(diào)節(jié)內(nèi)套和調(diào)節(jié)外套，所述調(diào)節(jié)內(nèi)套套接固定于所述調(diào)節(jié)桿頂端，所述調(diào)節(jié)內(nèi)套設(shè)有若干調(diào)節(jié)內(nèi)套磁鐵，所述調(diào)節(jié)外套相應(yīng)位置設(shè)有相同數(shù)量的調(diào)節(jié)外套磁鐵。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的裝置，其特征在于所述調(diào)節(jié)內(nèi)套可隨著調(diào)節(jié)桿的轉(zhuǎn)動(dòng)而轉(zhuǎn)動(dòng)，同時(shí)，由于所述調(diào)節(jié)內(nèi)套磁鐵和所述調(diào)節(jié)外套磁鐵的磁力作用，所述調(diào)節(jié)外套隨著所述 調(diào)節(jié)內(nèi)套的旋轉(zhuǎn)而轉(zhuǎn)動(dòng)。
6.根據(jù)權(quán)利要求I所述的裝置，其特征在于所述輝光均勻機(jī)構(gòu)包括長(zhǎng)形擋板外罩和若干設(shè)置于所述擋板外罩內(nèi)的輝光均勻構(gòu)件，所述輝光均勻構(gòu)件包括擋板和固定于擋板上的擋板釘。
7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置，其特征在于所述輝光均勻機(jī)構(gòu)包括長(zhǎng)形擋板外罩和若干設(shè)置于所述擋板外罩內(nèi)的輝光均勻構(gòu)件，所述輝光均勻構(gòu)件包括擋板和固定于擋板上的擋板釘，所述調(diào)節(jié)板可帶動(dòng)所述擋板釘往復(fù)移動(dòng)從而調(diào)節(jié)所述擋板開口大小。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置，其特征在于所述調(diào)節(jié)桿在長(zhǎng)度調(diào)節(jié)狀態(tài)下可對(duì)應(yīng)不同位置的所述擋板。
9.根據(jù)權(quán)利要求2所述的裝置，所述調(diào)節(jié)桿上設(shè)置有刻度。
10.一種調(diào)節(jié)真空磁控輝光均勻性的方法，包括以下步驟 步驟I :測(cè)量濺射產(chǎn)品均勻性，判斷各個(gè)位置的濺射強(qiáng)弱； 步驟2 :調(diào)節(jié)桿根據(jù)濺射強(qiáng)弱的位置調(diào)節(jié)長(zhǎng)度以定位需要調(diào)整的位置，旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)桿帶動(dòng)調(diào)節(jié)套上的調(diào)節(jié)板旋轉(zhuǎn)，所述調(diào)節(jié)板帶動(dòng)擋板上的擋板釘移動(dòng)，控制該位置擋板開口大小，濺射較強(qiáng)位置，移動(dòng)使擋板開口變小，在濺射較弱部分，移動(dòng)使擋板開口變大； 步驟3 :繼續(xù)生產(chǎn)濺射產(chǎn)品并測(cè)量其均勻性； 步驟4 :重復(fù)步驟I至3，直至均勻性達(dá)到生產(chǎn)要求。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種調(diào)節(jié)真空磁控輝光均勻性裝置和方法，該裝置包括長(zhǎng)度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)、輝光均勻控制機(jī)構(gòu)、輝光均勻機(jī)構(gòu)，所述長(zhǎng)度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)與所述輝光均勻控制機(jī)構(gòu)配合以控制所述輝光均勻機(jī)構(gòu)調(diào)節(jié)所述輝光的均勻性。該方法首先測(cè)量濺射產(chǎn)品均勻性，判斷各個(gè)位置的濺射強(qiáng)弱；然后調(diào)節(jié)桿根據(jù)濺射強(qiáng)弱的位置調(diào)節(jié)長(zhǎng)度以定位需要調(diào)節(jié)的擋板，并旋轉(zhuǎn)帶動(dòng)擋板釘移動(dòng)，控制該位置擋板開口大小，然后繼續(xù)生產(chǎn)濺射產(chǎn)品并測(cè)量其均勻性，再重復(fù)上述步驟，直至均勻性達(dá)到生產(chǎn)要求。本發(fā)明的有益效果包括可以在真空環(huán)境下操作，不用回氣操作，降低了成本，并節(jié)約人力物力；可以精確調(diào)節(jié)輝光均勻性。
文檔編號(hào)C23C14/35GK102747335SQ20121027052
公開日2012年10月24日 申請(qǐng)日期2012年8月1日 優(yōu)先權(quán)日2012年8月1日
發(fā)明者王旭升, 王爍, 童帥 申請(qǐng)人:天津南玻節(jié)能玻璃有限公司