專利名稱：用于熱浸鍍的低頻電磁場封流裝置的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種用于熱浸鍍的低頻電磁場封流裝置，屬于熱浸鍍領域。
背景技術：
熱鍍鋅鋼板已經(jīng)廣泛應用于建筑、家電、汽車行業(yè)。連續(xù)熱鍍鋅技術主要的工 藝流程為原料準備一鍍前處理一熱浸鍍一鍍后處理一成品檢驗等，熱浸鍍設備是機組 的關鍵設備。目前，市場上銷售的熱浸鍍生產(chǎn)線使用的鋅鍋大部分是底部封閉的陶瓷鋅 鍋，浸泡在鋅液的鋼件過多，包括沉沒輥、穩(wěn)定輥、二者的支撐結構和還原退火爐的爐 箅子。這種鋅鍋系統(tǒng)不僅結構復雜而且存在很多弊端一方面，鋅鍋中的裝置會受到鋅 液浸蝕，即使使用抗鋅腐蝕的材料制造，沉沒輥和穩(wěn)定輥輥面和軸套的磨損和腐蝕仍然 很嚴重，需要經(jīng)常更換和維修，這樣不僅降低了作業(yè)效率，而且提高了勞動強度；另一 方面，鋅鍋中的裝置受到鋅液浸蝕后，大量的鐵元素進入鋅鍋，影響鋅液的純凈度，間 接影響鍍鋅質(zhì)量；此外，沉沒輥是被動的轉(zhuǎn)向輥，完全依靠帶鋼與輥子表面的摩擦力來 驅(qū)動，輥面稍有偏差或產(chǎn)生相對運動，帶鋼易被劃傷，降低產(chǎn)品質(zhì)量。目前，關于連續(xù)熱鍍鋅設備的研究主要集中在提高沉沒輥、軸套壽命上，例如 沉沒輥的本體材料采用含有多種合金成分的不銹鋼、耐熱鋼材料或噴涂耐磨損的碳化鎢 合金涂層；在沉沒輥軸頸滑動部分表面噴涂耐磨損的碳化鎢合金或使用先進的陶瓷軸 承。
發(fā)明內(nèi)容本實用新型的目的在于提供一種生產(chǎn)效率高、成本低，產(chǎn)品質(zhì)量好的用于熱浸 鍍的低頻電磁場封流裝置。技術解決方案本實用新型鋅鍋下方設有轉(zhuǎn)向輥室，鋅鍋底部與轉(zhuǎn)向輥室頂部 之間設有封流通道，封流通道外側(cè)對稱設置有電磁感應器；轉(zhuǎn)向輥室側(cè)壁上開有帶鋼入 孔，轉(zhuǎn)向輥室內(nèi)設有下轉(zhuǎn)向輥和下張力裝置，下張力裝置位于下轉(zhuǎn)向輥的上方，轉(zhuǎn)向輥 室內(nèi)充有低露點氮氣；鋅鍋上方設有氣刀，氣刀上方設有上轉(zhuǎn)向輥，上轉(zhuǎn)向輥一側(cè)設有 上張力裝置，上張力裝置設置于帶鋼入孔相對峙面。封流通道截面為邊角圓弧過渡的矩形或矩形，封流通道厚度為5-80mm，寬度大 于帶鋼寬度。電磁感應器的低頻范圍30_400hz。鋅鍋為金屬或者是陶瓷材料制成。封流通道采用陶瓷或非導電材料制成。本實用新型采用電磁封流方式，鋅鍋中無任何裝置，可以省略沉沒輥系統(tǒng)，還 可以實現(xiàn)純鋅鍍層、合金化鍍層、鋅鋁鍍層、鋁鋅鍍層等不同鍍層的無差別切換，提高 鍍鋅效率。本實用新型由于依靠感應器的電磁力封住鍍液，解決了鋅鍋內(nèi)部裝置的浸蝕和帶鋼與沉沒輥接觸等所帶來的一系列問題，對于提高鋼帶質(zhì)量及產(chǎn)量具有劃時代的意 義。本實用新型具有如下優(yōu)點(1)取消沉沒輥，從而可以消除沉沒輥帶來的一些鍍層表面缺陷，例如鍍層表面 鋅渣及鋼帶與沉沒輥相對滑動造成的劃傷等。(2)鋅鍋比傳統(tǒng)鋅鍋體積小，從而減少了鋅液的總量。(3)節(jié)省了因維修沉沒輥和爐箅子而帶來的停產(chǎn)時間，從而提高了產(chǎn)品產(chǎn)量，降 低了費品率和勞動強度。(4)降低了產(chǎn)品成本，因為無沉沒輥和爐箅子的維修問題，也不需要預熱沉沒棍。(5)可提高還原退火爐中的張力，改善熱浸鍍鋼板的板形，因為去掉了還原退火 爐中的熱張輥裝置。

圖1為本實用新型結構示意圖；圖2為本實用新型封流通道結構截面圖；圖3為本實用新型封流通道另一實施方式結構截面圖。
具體實施方式
以下結合附圖1，對本實用新型提供的用于連續(xù)熱浸鍍的低頻電磁封流裝置，作 進一步的說明鋅鍋5下方設有轉(zhuǎn)向輥室8，鋅鍋5底部與轉(zhuǎn)向輥室8頂部之間設有封流 通道7，封流通道7外側(cè)對稱設置有電磁感應器6 ；轉(zhuǎn)向輥室8側(cè)壁上開有帶鋼3入孔， 轉(zhuǎn)向輥室8內(nèi)設有下轉(zhuǎn)向輥10和下張力裝置9，下張力裝置9位于下轉(zhuǎn)向輥10的上方， 轉(zhuǎn)向輥室8內(nèi)充有低露點氮氣；鋅鍋5上方設有氣刀4，氣刀4上方設有上轉(zhuǎn)向輥2，上 轉(zhuǎn)向輥2 —側(cè)設有上張力裝置1，上張力裝置1設置于帶鋼3入孔相對峙面。帶鋼3從還原退火爐的爐箅子出來進入充有低露點氮氣的轉(zhuǎn)向輥室8，經(jīng)下轉(zhuǎn)向 輥10轉(zhuǎn)向垂直方向，經(jīng)下張力裝置9調(diào)節(jié)張力后垂直進入封流通道7，帶鋼3位于封流 通道7的中心位置，當在電磁感應器6中通以30-400hz的低頻交變電流，就會在感應器 周圍產(chǎn)生同頻率的交變磁場，交變磁場在鍍液中產(chǎn)生交變的電流，此交變電流與線感應 器周圍的交變磁場相互作用產(chǎn)生電磁力，當此電磁力與鍍液的自重達到平衡時，鍍液就 會穩(wěn)定而不下漏；帶鋼3在鋅鍋5中完成熱浸鍍后經(jīng)氣刀4調(diào)節(jié)鍍層的厚度，帶鋼的穩(wěn) 定運轉(zhuǎn)通過上張力裝置1和下張力裝置9來實現(xiàn)，當帶鋼處于兩磁軛的中心時，兩磁極對 帶鋼的電磁力在水平方向上達到平衡，消除了磁極的吸附作用，此外，通過上張力裝置1 和下張力裝置9調(diào)節(jié)帶鋼的張力，使帶鋼張緊，這樣帶鋼就不會跑偏，當帶鋼的溫度冷 卻到280°C左右，帶鋼經(jīng)上轉(zhuǎn)向輥2轉(zhuǎn)向至水平方向，從而完成熱浸鍍過程，使本實用新 型有效地達到了前述發(fā)明目的。
權利要求1.用于熱浸鍍的低頻電磁場封流裝置，包括鋅鍋(5)，其特征在于，鋅鍋(5)下方 設有轉(zhuǎn)向輥室(8)，鋅鍋(5)底部與轉(zhuǎn)向輥室(8)頂部之間設有封流通道(7)，封流通道 (7)外側(cè)對稱設置有電磁感應器(6)；轉(zhuǎn)向輥室(8)側(cè)壁上開有帶鋼(3)入孔，轉(zhuǎn)向輥室 ⑶內(nèi)設有下轉(zhuǎn)向輥(10)和下張力裝置(9)，下張力裝置(9)位于下轉(zhuǎn)向輥(10)的上方， 轉(zhuǎn)向輥室(8)內(nèi)充有低露點氮氣；鋅鍋(5)上方設有氣刀(4)，氣刀(4)上方設有上轉(zhuǎn)向 輥(2)，上轉(zhuǎn)向輥(2) —側(cè)設有上張力裝置(1)，上張力裝置(1)設置于帶鋼(3)入孔相 對峙面。
2.根據(jù)權利要求1所述的用于熱浸鍍的低頻電磁場封流裝置，其特征在于，封流通道 (7)截面為邊角圓弧過渡的矩形或矩形，封流通道厚度為5-80mm，寬度大于帶鋼寬度。
3.根據(jù)權利要求1所述的用于熱浸鍍的低頻電磁場封流裝置，其特征在于，電磁感應 器(6)的低頻范圍30-400hz。
4.根據(jù)權利要求1所述的用于熱浸鍍的低頻電磁場封流裝置，其特征在于，鋅鍋(5) 為金屬或者是陶瓷材料制成。
5.根據(jù)權利要求1或2所述的用于熱浸鍍的低頻電磁場封流裝置，其特征在于，封流 通道(7)采用陶瓷或非導電材料制成。
專利摘要本實用新型涉及一種用于熱浸鍍的低頻電磁場封流裝置，屬于熱浸鍍領域。本實用新型鋅鍋底部與轉(zhuǎn)向輥室頂部之間設有封流通道，封流通道外側(cè)對稱設置有電磁感應器；轉(zhuǎn)向輥室側(cè)壁上開有帶鋼入孔，轉(zhuǎn)向輥室內(nèi)設有下轉(zhuǎn)向輥和下張力裝置，下張力裝置位于下轉(zhuǎn)向輥的上方，轉(zhuǎn)向輥室內(nèi)充有低露點氮氣；鋅鍋上方設有氣刀，氣刀上方設有上轉(zhuǎn)向輥，上轉(zhuǎn)向輥一側(cè)設有上張力裝置，上張力裝置設置于帶鋼入孔相對峙面。本實用新型取消沉沒輥，消除沉沒輥帶來鍍層表面鋅渣及鋼帶與沉沒輥相對滑動造成的劃傷等缺陷；節(jié)省了因維修沉沒輥和爐箅子而帶來的停產(chǎn)時間，提高了產(chǎn)品產(chǎn)量，降低了費品率、勞動強度和產(chǎn)品成本，提高還原退火爐中的張力，改善熱浸鍍鋼板的板形。
文檔編號C23C2/40GK201793710SQ20102029125
公開日2011年4月13日 申請日期2010年8月6日 優(yōu)先權日2010年8月6日
發(fā)明者馮佃臣, 呂占祥, 李慧琴, 蔡淼, 賀文麗, 邢淑清, 麻永林 申請人:內(nèi)蒙古科技大學