專(zhuān)利名稱(chēng)：低應(yīng)力脫蠟系統(tǒng)及方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明大致關(guān)于一種用于從一陶瓷殼模(ceramic shell mold)移除蠟的系統(tǒng)及 方法。特別是，本發(fā)明涉及一種用于移除蠟的系統(tǒng)及方法，其中所述陶瓷殼模是以水浸透然 后接著通過(guò)使用一熱油池(hot oil bath)加熱以使局部加熱傳至所述蠟，以將其低應(yīng)力移 除。
背景技術(shù)：
精密包模鑄造(precision investment casting)經(jīng)常涉及一蠟?zāi)＝M件的架構(gòu)，其 是被包含于一陶瓷殼模內(nèi)。所述蠟?zāi)＝M件從所述陶瓷殼模被移除，接著在所述鑄造程序的 下一步驟中所述造成的殼模隨后被熔化的金屬所填滿。從所述陶瓷殼模移除所述蠟?zāi)＝M件 可通過(guò)使用熱能來(lái)達(dá)成，其使所述蠟熔化然后排出所述陶瓷殼模外。所需的熱能可能通過(guò) 將所述蠟?zāi)＝M件及陶瓷殼模放置在一高壓蒸汽加熱器(steam autoclave)之內(nèi)而獲得。閃 火(flash firing)可能被執(zhí)行，以作為傳送熱能至所述組合物的一個(gè)替代方案。雖然能夠 加熱并因此移除所述蠟，但此處理程序可能將應(yīng)力(stress)引入所述陶瓷殼模內(nèi)，并導(dǎo)致 破裂及其他缺陷。所述蠟?zāi)＝M件在相較于它被放置的陶瓷殼模有一較高的熱膨脹率(rate of thermal expansion) 0加熱這些組件因此導(dǎo)致在所述蠟的熱膨脹相較于在所述陶瓷殼 模為大。在脫蠟的程序期間，所述蠟?zāi)＝M件不成比例的熱膨脹引起一箍狀壓力及應(yīng)力(hoop type pressure and stress)于所述陶瓷殼模上，因此導(dǎo)致破裂，這樣最終造成金屬鑄件鑄 漏(run-outs)、模裂形成(finning)或尺寸廢料(dimensional scrap)。精密包模鑄造零件有時(shí)包含陶瓷模芯(ceramic core)位于所述蠟?zāi)＝M件的內(nèi)部， 其經(jīng)常具有一復(fù)雜的、不對(duì)稱(chēng)的外型。介于所述陶瓷模芯與所述陶瓷殼模之間的蠟?zāi)５暮?度在不同的位置是不同的。通過(guò)使用一高壓蒸汽加熱器或藉由閃火進(jìn)行的蠟?zāi)＝M件的脫蠟 將導(dǎo)致所述整個(gè)蠟?zāi)１砻嬖谕粫r(shí)間被加熱。所述陶瓷模芯因此在不同的位置上承受不同 的壓力。在脫蠟程序期間，所述陶瓷模芯的壓力差可能導(dǎo)致它移動(dòng)或破裂。另外，介于所述 蠟?zāi)＝M件接近所述灌注杯(pour cup)的部份與那些離所述灌注杯最遠(yuǎn)位置之間將發(fā)生壓 力差。所述灌注杯的存在允許那些所述蠟?zāi)＝M件接近所述灌注杯的部份的壓力被減輕，同 時(shí)一較大的壓力被傳到遠(yuǎn)離所述灌注杯的蠟?zāi)＝M件。這壓力差可導(dǎo)致所述陶瓷模芯被移 動(dòng)。為了減少由所述蠟?zāi)＝M件的熱膨脹所造成的缺陷，所述陶瓷殼?？墒褂酶郊訉觼?lái)制作，以使它的強(qiáng)度提高并且因此可抵抗由所述熱膨脹的蠟所傳送的應(yīng)力。然而，使用較厚 的陶瓷殼模相較于使用較薄的陶瓷殼模仍然可能導(dǎo)致更多的鑄件缺陷及廢料。并且，使用 較厚的陶瓷殼?？赡苁鼓承┝慵蔀槔щy的或不可能被鑄造，以及增加所述鑄造程序的成 本，例如需要額外的材料及時(shí)間。前述問(wèn)題的解決方案已被提出，其試圖局部加熱所述蠟?zāi)＝M件。一個(gè)這樣的方法 涉及引入一蒸汽及界面活性劑(surfactant)的混合物至所述蠟?zāi)＝M件的一局部區(qū)域。一 局部溫度的升高能達(dá)成從所述陶瓷模熔化及排出所述蠟。接續(xù)使用的蒸汽及界面活性劑混 合物造成以一漸進(jìn)的方法從所述陶瓷模中將所述蠟熔化及排出。所述界面活性劑的存在造 成液態(tài)蠟材料部份的熔化在所述陶瓷模的內(nèi)表面之內(nèi)，如此形成一阻礙使蒸汽凝結(jié)液免于 浸泡穿透所述陶瓷模的厚度，或負(fù)面影響所述陶瓷模存在的粘結(jié)劑。雖然能夠?qū)嵤┟撓灣?序，但現(xiàn)有的方法是耗時(shí)的及高成本的且遭受到其他低效率的情形。因此，在此技術(shù)中仍存 有變化及改進(jìn)的空間。


本發(fā)明的一個(gè)引導(dǎo)所屬技術(shù)領(lǐng)域的一般技能者且包含其最佳的模式的充份及可 行的揭露，將在其余的說(shuō)明書(shū)中參考附圖提出更特別的說(shuō)明，其中圖1是根據(jù)一示范實(shí)施例的一脫臘程序的一側(cè)視示意圖。圖2是圖1的圓圈2-2的一細(xì)部示意圖。圖3是根據(jù)另一示范實(shí)施例的一脫臘程序的一側(cè)視示意圖。圖4是圖3的圓圈4-4的一細(xì)部示意圖。圖fe是根據(jù)一示范實(shí)施例的一陶瓷殼模在一部份浸入一熱油池內(nèi)之后的一側(cè)視 圖。圖恥是圖fe的陶瓷殼模的具有一移除剖面以便由此觀看所述陶瓷殼模內(nèi)部的一 部份的一側(cè)視圖。圖6是顯示所述陶瓷殼模及蠟?zāi)５闹亓肯鄬?duì)于浸水時(shí)間的一曲線圖。圖7是根據(jù)另一示范實(shí)施例的具有一陶瓷模芯的一陶瓷殼模的一側(cè)視示意圖。本發(fā)明的說(shuō)明書(shū)及圖示重復(fù)使用參考符號(hào)是用以描述本發(fā)明相同或類(lèi)似的特征 或元件。
具體實(shí)施例方式參考說(shuō)明在本發(fā)明的實(shí)施例內(nèi)將描述的更詳細(xì)，一個(gè)或更多的例子被繪示于所述 圖中。每一例子是通過(guò)本發(fā)明的說(shuō)明來(lái)提供，但是不表示成為本發(fā)明的限制。例如，繪示或 描述為一個(gè)實(shí)施例的部件的特征能被使用于另一實(shí)施例且另能產(chǎn)生一第三實(shí)施例。因此， 本發(fā)明包含這些及其他的修改及變化?？衫斫獾模@里所提及的范圍包含指定范圍的所有范圍。就此來(lái)說(shuō)，這里提及的 所有范圍包含所述提及范圍包含的所有次范圍。例如，一個(gè)從100到200的范圍也包含從 110到150、從170到190、及從153到162的范圍。并且，這里提及的所有限制包含在所述 提及的限制中包含的所有其他限制。例如，一個(gè)達(dá)到7的限制也包含一達(dá)到5、達(dá)到3及達(dá) 到4. 5的限制。
本發(fā)明提供一種內(nèi)有一蠟?zāi)＝M件12的一陶瓷殼模10的一系統(tǒng)及方法。所述系統(tǒng) 及方法涉及潤(rùn)濕所述陶瓷殼模10，因而使其被水浸透。所述浸透的陶瓷殼模10是浸入一 熱油池20以便導(dǎo)入局部加熱至一部份的陶瓷殼模10。由于水份存在于所述陶瓷殼模10 內(nèi)，加熱所述陶瓷殼模10造成蒸汽22產(chǎn)生，蒸汽22接著被導(dǎo)入一部份的蠟?zāi)＝M件12，以產(chǎn) 生局部加熱。由于其溫度上升使得只有一部份的蠟?zāi)＝M件12膨脹，傳至所述陶瓷殼模10 的應(yīng)力將可最小化。例如，所述陶瓷殼模10可較不可能破裂，以及一陶瓷核芯(假如有的 話)可較不可能位移或受到其他損壞。介于所述陶瓷殼模10的外部及內(nèi)部表面之間的壓 力差可能被傳至所述系統(tǒng)，以便將所述產(chǎn)生的蒸汽22導(dǎo)入想要的區(qū)域。所述系統(tǒng)及方法可 能被使用于殼式的包模鑄造。依據(jù)某一示范實(shí)施例，所述系統(tǒng)及方法能被使用于定向凝固 (Directionally Solidified)及單晶禱造(Single Crystal casting)。圖1繪示根據(jù)一示范實(shí)施例的一種用于脫蠟的系統(tǒng)。一蠟?zāi)＝M件12被包含于一 陶瓷殼模10內(nèi)。所述蠟?zāi)＝M件12是先被成型，然后被涂上連續(xù)多層的陶瓷泥漿及微粒，并 干燥所述蠟?zāi)＝M件12以在其上形成所述陶瓷殼模10。所述蠟?zāi)＝M件12依據(jù)某些實(shí)施例的 蠟?zāi)＝M件12的數(shù)量、尺寸及復(fù)雜度可形成“樹(shù)狀”或其他構(gòu)造，并接著涂上陶瓷。所述系統(tǒng) 涉及將所述蠟?zāi)＝M件12區(qū)分成一個(gè)受到較少的或沒(méi)有溫度膨脹的冷固態(tài)區(qū)域16，因此傳 導(dǎo)較少的或沒(méi)有應(yīng)力至所述陶瓷殼模10的周?chē)糠?。也形成所述蠟?zāi)＝M件12的一熱的熔 化的區(qū)域18，其相較所述冷區(qū)16具有較高的溫度。加熱在所述熱區(qū)18的蠟?zāi)＝M件12造 成在此區(qū)域內(nèi)的蠟12熔化然后隨后通過(guò)一灌注杯14流出所述陶瓷殼模10。所述熔蠟12 可因重力而通過(guò)所述灌注杯14流出?？商娲?，所述系統(tǒng)可以配置成使用離心力或其他力 量，以便從所述熱區(qū)18引流所述熔蠟12至所述灌注杯14或其他開(kāi)口外，如此從所述陶瓷 殼模10中移除。當(dāng)開(kāi)始所述脫蠟程序時(shí)，所述熱區(qū)18相對(duì)小于所述冷區(qū)16。根據(jù)一示范實(shí)施例， 在所述脫蠟程序期間所述冷區(qū)16可能保持在室溫。例如，在某些示范實(shí)施例中根據(jù)所述蠟 模材質(zhì)的熔化溫度所述冷區(qū)16可能從華氏50至90度。這樣的溫度傳導(dǎo)較少或沒(méi)有壓力 至所述陶瓷殼模10的內(nèi)部因此導(dǎo)至其較少或沒(méi)有應(yīng)力。所述熱區(qū)18的存在將在所述熱區(qū) 18產(chǎn)生一“黏稠狀”層的蠟12，其分隔了所述熔化的蠟12與表面及冷區(qū)16。所述熔蠟12 是呈現(xiàn)液態(tài)然后因此從所述蠟?zāi)＝M件12的這個(gè)部份沿著重力的方向或受到其他力量的引 導(dǎo)而流出。如圖1所示，所述內(nèi)部陶瓷殼模10外觀的高度是標(biāo)示為圖號(hào)“a”，以及所述內(nèi)部陶 瓷殼模10表面的寬度是標(biāo)示為圖號(hào)“b”。所述蠟?zāi)＝M件12的膨脹在所述陶瓷殼模10的內(nèi) 部表面形成一壓力P (以每單位面積受力計(jì)算)。當(dāng)加熱完成，在所述陶瓷殼模10內(nèi)部的所 有負(fù)載F(t)或作用力大約是F(t) =PX所有面積=PXaXb = Pab。只對(duì)所述熱區(qū)18加熱造成對(duì)所述蠟?zāi)＝M件12的一局部加熱。所述熱區(qū)18的高 度標(biāo)示為圖號(hào)“d”。當(dāng)只有熱區(qū)18取代整個(gè)所述蠟?zāi)＝M件12被加熱時(shí)，傳到所述陶瓷殼 模10的應(yīng)力才可最小化。當(dāng)加熱所述熱區(qū)18但不加熱所述冷區(qū)16時(shí)，所述負(fù)載或作用力 F(d) = PX 熱區(qū)面積=PXdXb = Pad。對(duì)照比較整個(gè)加熱與局部加熱因此導(dǎo)致一比率F(d)/F(a) = Pad/Pab = d/b。因 此，若d是a的10%，那么在所述陶瓷殼模10內(nèi)部的全部作用力將僅是若所述蠟?zāi)＝M件12 被一次完全加熱時(shí)的全部作用力的10%。對(duì)所述整個(gè)蠟?zāi)＝M件12的一次加熱導(dǎo)致所有加熱作用力被分配至所述陶瓷殼模10的四個(gè)應(yīng)力集中位置的側(cè)邊。陶瓷殼模10邊緣裂開(kāi)會(huì) 發(fā)生在這些位置。由于發(fā)生了減少后的應(yīng)力被傳至其他可能接受應(yīng)力集中的區(qū)域，因此傳 至所述陶瓷殼模10的應(yīng)力減少可避免這些邊緣裂開(kāi)。所述陶瓷殼模10能被建構(gòu)成具有一些多孔性(porosity)。根據(jù)某些示范實(shí)施例， 所述殼模可能具有從10% to至50%的體積是開(kāi)放多孔性。所述陶瓷殼模10能在其上涂 上水份以形成浸透(saturated)。就此而言，所述陶瓷殼模10可能被浸入一水池或被噴上 水。在浸透時(shí)所述蠟?zāi)＝M件12可能存在所述陶瓷殼模10之內(nèi)。所述陶瓷殼模10的微孔 尺寸可能在微米(micron)或納米(nanometer)的尺寸范圍。微孔尺寸在這樣的范圍造成 毛細(xì)作用力高至足夠使水份仍能被快速及容易的吸收然而難以流過(guò)此處。圖6繪示一示范 實(shí)施例每浸泡時(shí)間長(zhǎng)度(分鐘)的所述陶瓷殼模10及蠟?zāi)＝M件12的重量(公克)的曲線 圖。然而，可理解的，根據(jù)其他示范實(shí)施例，浸泡量的變化能用以達(dá)成水份進(jìn)入所述陶瓷殼 模10的壁面吸收變化的程度。在浸入所述熱油池20之前所述陶瓷殼模10的壁面能吸收的 水份量是所述陶瓷殼模10的壁面的水份吸收能力的5%至100%。根據(jù)其他示范實(shí)施例， 水份吸收能力可從40 %至60 %，從75 %至85 %，從85 %至95 %，或從95 %至100 %。所述浸泡陶瓷殼模10與被包含的蠟?zāi)＝M件12可放入一熱油池20 (如圖2所示)， 其是圖1中圓圈2-2的細(xì)部示意圖。在此，所述熱油池20顯示高達(dá)華氏500度，然而但可 理解的，依據(jù)其他示范實(shí)施例所述熱油池20可具有各種溫度。例如，依據(jù)其他示范實(shí)施例 所述熱油池20可能高達(dá)華氏300度或高達(dá)華氏700度。所述陶瓷殼模10浸入所述熱油池 20的量造成所述熱區(qū)18的形成。在所述熱油池20內(nèi)的陶瓷殼模10的這部份因此產(chǎn)生為 一熱殼部對(duì)。當(dāng)浸入所述熱油池20 —特定的時(shí)間之后，所述熱殼部M可能具有大于華氏 250度的溫度。在大部份的情況下，所述熱油池20的溫度可能超過(guò)華氏212度，以便在所述 陶瓷殼模10內(nèi)被吸收的水份能轉(zhuǎn)變成蒸汽22。所述熱殼部M的溫度升高導(dǎo)致所述陶瓷殼 模10內(nèi)的水份被轉(zhuǎn)變成蒸汽22。所述蒸汽22及其相關(guān)熱量通過(guò)傳導(dǎo)而從所述熱殼部M 傳遞至與其接觸的區(qū)域。如所示，蒸汽22可能移轉(zhuǎn)進(jìn)入所述熱油池20、緊接在所述熱殼部 24的左方的所述蠟?zāi)＝M件12的熱區(qū)18，或向上或向下至所述陶瓷殼模10的其他部份。所 述蒸汽22具有高蒸汽(vapor)壓，其致使它離開(kāi)它被產(chǎn)生的陶瓷殼模10處。蒸汽22的移轉(zhuǎn)進(jìn)入所述熱區(qū)18導(dǎo)致在所述熱區(qū)18內(nèi)的蠟?zāi)＝M件12變成熱到足 夠使所述蠟12開(kāi)始熔化并隨后從所述陶瓷殼模10脫出。一旦通過(guò)移轉(zhuǎn)某數(shù)量的蠟?zāi)＝M件 12在所述陶瓷殼模10內(nèi)產(chǎn)生一些空間，所述陶瓷殼模10內(nèi)產(chǎn)生的蒸汽22能通過(guò)所述熱區(qū) 18流動(dòng)，因此從所述熱油池20的加熱是有效率的移轉(zhuǎn)進(jìn)入所述蠟?zāi)＝M件12，從而繼續(xù)局部 加熱想要的熱區(qū)18。所述蒸汽22從所述陶瓷殼模10的壁面向內(nèi)移動(dòng)，并因此起作用以迫 使所述蠟?zāi)＝M件12到所述陶瓷殼模10的中心并流出所述灌注杯14。假如所述蒸汽22不 是被從所述陶瓷殼模10的內(nèi)部壁面引導(dǎo)向內(nèi)，熔化的蠟12可能在所述陶瓷殼模10的壁面 上累積或慢速流動(dòng)，因此增加它被脫除的時(shí)間。所述蒸汽22部份因朝它的內(nèi)部方向傳播， 因此起了從所述陶瓷殼模10洗出所述熔化的蠟?zāi)＝M件12作用。雖然，如顯示所述冷區(qū)16及所述熱區(qū)18之間是一相對(duì)平直的邊界線，可理解的， 在某一示范實(shí)施例所述熔化的蠟12可能不會(huì)存在如此一種均勻的方式。例如，所述陶瓷殼 模10的內(nèi)部表面可首先加熱，因此造成鄰接的內(nèi)部表面的蠟12先熔化。遠(yuǎn)離所述內(nèi)部表 面的蠟12將接著熔化，以便造成在所述熱區(qū)18的蠟12的形狀大體上是圓椎型(cone)。如此，可理解的，根據(jù)某些示范實(shí)施例，所述蠟12不可能實(shí)現(xiàn)一完整均勻線狀的熔化。根據(jù)不 同示范實(shí)施例的熱區(qū)18的幾何外形可以變化。大體上來(lái)說(shuō)，至少當(dāng)所述熔化程序開(kāi)始時(shí)所 述熱區(qū)18的體積相對(duì)于所述冷區(qū)16的尺寸為小。根據(jù)某些示范實(shí)施例，所述熱區(qū)18可能 包含一部份是所述蠟12已熔化的一熱熔化區(qū)域，以及一所述蠟12已經(jīng)熔化并流出所述陶 瓷殼模10的熱的空的區(qū)域。當(dāng)所述程序完成約一半或更多時(shí)，所述熱區(qū)18的熱空區(qū)域的 尺寸可能比較所述冷區(qū)16為大。在所述除蠟程序期間，所述熱區(qū)18的熱熔化區(qū)一般相較 所述冷區(qū)16的尺寸為小。在所述熱油池20上方可能引起一氣流28。所述氣流觀可能被導(dǎo)向吹襲所陶瓷殼 模10的一冷殼區(qū)26，以便所述冷殼區(qū)沈維持一冷的溫度，因此導(dǎo)致所述蠟?zāi)＝M件12的冷 區(qū)16不會(huì)發(fā)生加熱及應(yīng)力。所述冷殼區(qū)沈內(nèi)存在的水份進(jìn)一步起了降低所述系統(tǒng)的這部 份的溫度的作用。在此，所述氣流觀吹襲所述浸透的冷殼區(qū)沈造成蒸發(fā)，其依次促進(jìn)所述 冷殼區(qū)沈的額外冷卻。如此，所述氣流28的量可以變化以確保所述冷殼區(qū)沈維持一想要 的溫度，以便所述陶瓷殼模10的某部份的加熱及關(guān)連的壓力不會(huì)發(fā)生。所述冷區(qū)16可能維持在一溫度以便位于其內(nèi)的蠟12不會(huì)熔化。如此，從所述冷 區(qū)16內(nèi)的蠟12的熱膨脹的壓力在所述陶瓷殼模10上減少或消除，因此導(dǎo)致應(yīng)力不會(huì)在其 上產(chǎn)生。當(dāng)所述熱區(qū)18是熱的足以熔化位于其內(nèi)的蠟12的時(shí)候，所述冷區(qū)16可能保持在 室溫。所述氣流28的量可加以選擇，以便產(chǎn)生所述冷區(qū)16適當(dāng)?shù)臏囟?。所述氣?8也可 用以從所述系統(tǒng)移除熱。由于所述氣流觀造成的水份的蒸發(fā)可用以相對(duì)于通過(guò)所述熱油 池20傳送的熱量來(lái)平衡所述陶瓷殼模10的溫度，以便所述蠟12的熔化是以一預(yù)定方式來(lái) 控制。同樣的，通過(guò)使用水份浸泡的陶瓷殼模10造成低應(yīng)力脫蠟，以產(chǎn)生一配對(duì)的溫度 區(qū)域16及18。根據(jù)某些示范實(shí)施例，所述陶瓷殼模10內(nèi)的水份量可改變。例如，根據(jù)所 述系統(tǒng)的某版本，所述陶瓷殼模10可完全浸透至它無(wú)法再飽含更多的水份。根據(jù)其他實(shí)施 例，所述陶瓷殼模10可充滿它最大吸收水份能力的25%至75%。雖然顯示為一熱油池20，但可理解的是根據(jù)其他示范實(shí)施例不同的加熱源可被使 用。例如，過(guò)熱空氣(superheated air)或火焰能被使用以產(chǎn)生所述系統(tǒng)所需要的熱能。所 述蒸汽22產(chǎn)生的速度是依據(jù)所述熱油池20或其他熱源使用的溫度。所述熱油池20的一 更高的溫度導(dǎo)致更快速的蒸汽22產(chǎn)生。當(dāng)在所述熱區(qū)18內(nèi)的所有蠟12被熔化及移除后， 所述陶瓷殼模10及所述蠟?zāi)＝M件12能被進(jìn)一步降低到所述熱油池20內(nèi)。所述陶瓷殼模 10及所述蠟?zāi)＝M件12的浸入的速率造成所述冷區(qū)16/所述熱區(qū)18邊界以相配的速率向 上移動(dòng)，對(duì)應(yīng)于從所述陶瓷殼模10的蠟?zāi)＝M件12的熔化及移除。所述陶瓷殼模10及蠟?zāi)?組件12能在所述熱油池20內(nèi)降低到一所有的蠟12都從所述陶瓷殼模10熔化及移除的位 置。所述陶瓷殼模10及蠟?zāi)＝M件12可以在不同浸入速率下降低到所述熱油池20內(nèi)。例 如，根據(jù)某些示范實(shí)施例，所述陶瓷殼模10及所述蠟?zāi)＝M件12可以每分鐘0. 1英時(shí)至每分 鐘10英時(shí)的速率降低。根據(jù)某些示范實(shí)施例，所述脫蠟的速率是每分鐘一英時(shí)。根據(jù)其他 示范實(shí)施例，所述浸入的速率可能是從每分鐘半英時(shí)至每分鐘二英時(shí)。雖然顯示有所述灌注杯14，但可理解的是根據(jù)其他示范實(shí)施例可不需存在所述灌 注杯14。所述灌注杯14僅是允許所述蠟12從所述陶瓷殼模10流出的一開(kāi)口。根據(jù)其他 示范實(shí)施例，所述灌注杯14可能是一直線形。此一配置有時(shí)是參考做為一環(huán)圈(collar)。根據(jù)本系統(tǒng)的某些示范實(shí)施例，所述灌注杯14可以是各種形狀或完成不存在。圖3繪示用于脫蠟的系統(tǒng)的另一示范實(shí)施例。所述陶瓷殼模10及所述蠟12浸入 一熱油池20，以便產(chǎn)生蒸汽22用于蠟12的局部加熱及熔化，以便使所述陶瓷殼模10上的 應(yīng)力減少。當(dāng)蠟12是熔化及離開(kāi)所述陶瓷殼模10，所述陶瓷殼模10的一空的空間30是緊 接著產(chǎn)生在所述熱區(qū)18之下。為了隨后的重復(fù)使用或處置，熔化的蠟經(jīng)由重力通過(guò)所述灌 注杯14排出并進(jìn)入一蠟收集區(qū)32。一通氣管34被設(shè)置穿過(guò)所述灌注杯14且延伸至所述 熱油池20之外。所述通氣管34用以分送大氣壓至所述灌注杯14及所述空的空間30。通 過(guò)加熱水份轉(zhuǎn)變成蒸汽22造成所述蒸汽22有移動(dòng)至低壓區(qū)域的傾向。在不同位置的系統(tǒng) 的壓力運(yùn)用可用以引導(dǎo)蒸汽22的流動(dòng)及相關(guān)加熱預(yù)定位置。雖然如揭露具有一通氣管34，但在其他實(shí)施例中不需要提供這管。例如，在圖1 先前描述的實(shí)施例中沒(méi)有所述通氣管34。另外，所述通氣管34不需要位在所述灌注杯14 中，但另可能簡(jiǎn)單設(shè)置在其流體連通件內(nèi)，以便能實(shí)現(xiàn)大氣壓力進(jìn)入所述灌注杯14及所述 空的空間30。另外，所述通氣管34的存在可用以允許在所述系統(tǒng)內(nèi)蒸汽22的產(chǎn)生一個(gè)通 到大氣的出口通道。就這一點(diǎn)來(lái)說(shuō)，一某數(shù)量的蒸汽22可能通過(guò)所述通氣管34通氣至大 氣，而不需加熱所述冷區(qū)16或所述系統(tǒng)不想要加熱的其他部份。所述蠟收集區(qū)32可能是一密封容器32，當(dāng)浸入時(shí)不讓所述熱油池20內(nèi)的油流到 其內(nèi)。所述通氣管34可位在所述蠟收集區(qū)32內(nèi)的一位置上，以便大氣壓力或通氣被分送 到所述蠟收集區(qū)32及所述陶瓷殼模10，并且因此熔化的蠟12不會(huì)進(jìn)入所述通氣管34。所 述密封容器32可能與所述陶瓷殼模10的灌注杯14及所述空的空間30密封在一起，以便 油不會(huì)流入其內(nèi)。所述密封容器32因此具有收集熔化蠟12及分送一所需壓力至所述陶瓷 殼模10的內(nèi)部的功能，并如想要的提供一導(dǎo)管讓蒸汽22泄出。所述系統(tǒng)可能被設(shè)計(jì)成使當(dāng)蒸汽22產(chǎn)生的時(shí)被引導(dǎo)朝向所述蠟?zāi)＝M件12并且不 會(huì)進(jìn)入所述油池20。就這一點(diǎn)來(lái)說(shuō)，所述陶瓷殼模10內(nèi)(例如在所述空的空間30或在所 述灌注杯14內(nèi))的壓力能被保持在一個(gè)相較于所述熱油池20較低的水平。這壓力差可具 有將所述蒸汽22導(dǎo)向到所述系統(tǒng)內(nèi)想要的區(qū)域的傾向。所述陶瓷殼模10位在所述熱油池 20內(nèi)的部份將受到在其上的壓力，其是(部份)根據(jù)在所述熱油池20表面下它的深度來(lái) 決定。由于所述通氣管34的存在，所述陶瓷殼模10在與所述熱油池20的相對(duì)側(cè)上的一側(cè) (例如在所述空的空間30內(nèi))可能具有一大氣壓的壓力。所述空的空間30及所述陶瓷殼 模10的內(nèi)部對(duì)所述熱油池20是保持密封的。在所述熱區(qū)18部份的陶瓷殼模10的內(nèi)部及 外部表面之間的壓力差是它在所述熱油池20的深度乘以所述熱油池20的密度。所述熱油 池20靠近所述陶瓷殼模10的一側(cè)可能有一個(gè)相較于所述陶瓷殼模10的內(nèi)部為高的壓力， 因此造成大部份產(chǎn)生在所述熱殼區(qū)M的蒸汽22吹入所述陶瓷殼模10有蠟的一側(cè)。所述 蒸汽22的方向可用以增加傳送至所述熱區(qū)18的數(shù)量然后因此促進(jìn)所述蠟12排出。另外， 經(jīng)由一壓力差的蒸汽22的方向可用以最大化傳送至所述蠟12的熱量，以便產(chǎn)生一較薄的 (較少壓力的)熱區(qū)18。圖4是圖3中圓圈4-4的一細(xì)部示意圖，其顯示產(chǎn)生蒸汽22的方向如何進(jìn)入所述 陶瓷殼模10內(nèi)的空的空間30及所述熱區(qū)18。雖然描述的例如保持在一大氣壓力下，但可 理解的是所述系統(tǒng)的內(nèi)部部份(如所述熱區(qū)18、灌注杯14及空的空間30)可能保持在其他 不同于大氣的壓力下。所述系統(tǒng)因此配置成可在不同的壓力下運(yùn)作，只要在內(nèi)部的壓力比外部的壓力小就能在一想要的方法下引導(dǎo)所產(chǎn)生的蒸汽22。雖然描述的是使用壓力差，但 可理解的是根據(jù)其他示范實(shí)施例也可不提供壓力差。舉例來(lái)說(shuō)，在所述陶瓷殼模10內(nèi)側(cè)上 的壓力可能相同于所述陶瓷殼模10外側(cè)的壓力(例如在所述熱油池20內(nèi))。在如此情況 下，蒸汽22仍將產(chǎn)生并且熱能傳送仍將發(fā)生。圖7繪示一示范實(shí)施例，其中一陶瓷模芯40設(shè)置于所述蠟?zāi)＝M件12內(nèi)。所述陶 瓷模芯40是通過(guò)使用一插銷(xiāo)42附加于所述陶瓷殼模10。所述陶瓷模芯40是設(shè)置以使鑄 件產(chǎn)生不同的幾何形狀。在所述脫蠟程序期間，所述陶瓷模芯40可能受到所述蠟?zāi)＝M件12 施加于其上的壓力。所述局部性的加熱本身造成一相當(dāng)數(shù)量的壓力以傳至所述陶瓷模芯40 的所有側(cè)邊，因而在所述陶瓷殼模10內(nèi)的陶瓷模芯40的位置不會(huì)偏移及/或所述陶瓷模 芯40在所述脫蠟程序期間不會(huì)損壞。所述系統(tǒng)可供用于在低蒸汽22溫度下的脫臘，因而可以減少對(duì)所述陶瓷殼模10 表面覆層(facecoat)及陶瓷模芯40的化學(xué)及機(jī)械的損壞。封閉的模穴及通氣系統(tǒng)可供清 除可能進(jìn)入所述陶瓷殼模10的模穴及造成鑄造缺陷的外物。如果必要的話，所述熔化的蠟 模組件12能被收集及重復(fù)使用。另外，由于其上的應(yīng)力可能減少，因此所述系統(tǒng)可允許使 用于較薄的陶瓷殼模10。所述較薄的陶瓷殼模10的使用能減少其另外可能產(chǎn)生的熱裂開(kāi) (hot-tear)及RX缺點(diǎn)。另外，使用所述熱油池20替代一高壓蒸汽加熱器可以較少的維護(hù) 提供較安全的作業(yè)。然而，可理解的是，在其他示范實(shí)施例中仍可能使用一高壓蒸汽加熱
ο根據(jù)某㈣示范實(shí)施例實(shí)施的實(shí)騎為了觀察本系統(tǒng)的性能，根據(jù)一示范實(shí)施例實(shí)施一方法。豆油(soy oil) 20被預(yù) 熱至一大約華氏250-350度的溫度。一 15英時(shí)長(zhǎng)的陶瓷葉片殼模10被浸泡在水中達(dá)10 分鐘接著排水10分鐘。所述潤(rùn)濕的陶瓷葉片殼模10接著是以一大約每分鐘0. 5英時(shí)的速 率垂直的浸入所述熱豆油池20。所述上升的熱豆油池20相對(duì)于所述陶瓷葉片殼模10的方 向是以圖fe的箭頭38來(lái)表示。一風(fēng)扇在所述熱豆油池20的表面上方提供一氣流觀。在所述豆油池20的表面上方的陶瓷葉片殼模10的溫度在整個(gè)程序中被測(cè)量。所 述陶瓷葉片殼模10被浸入所述豆油池20在6英時(shí)之后，所述程序停止，然后所述陶瓷葉片 殼模10被移開(kāi)，及檢視它的邊緣。所述陶瓷葉片殼模10隨后被切開(kāi)及檢視。所述陶瓷葉片殼模10的測(cè)量及檢視可顯示出在所述豆油池20的表面上方的冷殼 部沈有少于華氏10度(+/-5度)的溫度變化。這溫度監(jiān)視是在所述豆油池20的表面上 方半英時(shí)(one halfinch)的一個(gè)位置上進(jìn)行。沒(méi)有觀察到所述陶瓷葉片殼模10的破裂。 當(dāng)所述潤(rùn)濕的陶瓷葉片殼模10被浸入所述豆油池20時(shí)，輕微的蒸汽氣泡在所述陶瓷葉片 殼模10的周?chē)挥^察到。圖恥繪示所述陶瓷葉片殼模10具有一剖面部份以顯示所述冷 區(qū)16及所述熱區(qū)18實(shí)現(xiàn)給予所述陶瓷葉片殼模10的最大浸入程度。一空的空間30在所 述熱區(qū)18的下方的一點(diǎn)位置被觀察到。所述冷區(qū)16及所述熱區(qū)18之間的邊緣線在約6 英時(shí)的地方被觀察到。在圖如及恥中所述邊緣線是以一熱油線36來(lái)表示，其標(biāo)示這兩個(gè) 區(qū)域之間的過(guò)渡。所述熱區(qū)18測(cè)量出具有一個(gè)約半英時(shí)的厚度。幾乎整個(gè)的被浸入的陶 瓷葉片殼模10是被加以脫蠟。與一般的高壓蒸汽加熱器的脫蠟程序相比，傳至所述陶瓷葉 片殼模10的應(yīng)力的估計(jì)比率是0. 5/15，其等于1/30的比率。根據(jù)進(jìn)一步示范實(shí)施例實(shí)施的其他方法在附加例子中被達(dá)成。20個(gè)不同配置類(lèi)型的EQ模具10被以熱油池20來(lái)脫蠟，溫度范圍從華氏250度至華氏350度。使用現(xiàn)有的脫 蠟方法，某些配置的陶瓷殼模10典型具有70%至100%的殼裂開(kāi)。當(dāng)根據(jù)在此揭露的方法 脫蠟時(shí)，達(dá)到0%的殼裂開(kāi)。根據(jù)結(jié)果成功的各種示范實(shí)施例，被使用的浸入的速率是每分 鐘0. 5英時(shí)、每分鐘1英時(shí)及每分鐘2英時(shí)。在加熱至華氏1600度后，所述陶瓷殼模10被 檢視但沒(méi)有觀察到破裂。根據(jù)另一示范實(shí)施例實(shí)施的另一實(shí)驗(yàn)，一單晶的殼模10以根據(jù)在此揭露的方法 進(jìn)行脫蠟。所述熱油池20的溫度是華氏300度。所述陶瓷殼模10先前被浸泡在水中10 分鐘隨后進(jìn)行少于10分中的脫蠟。合宜的進(jìn)入所述熱油池20的速率是每分鐘1英時(shí)。在 加熱至華氏1600度之后，所述陶瓷殼模10被檢視但沒(méi)有觀察到破裂。一額外實(shí)驗(yàn)被實(shí)施，其中模具10包含兩個(gè)模芯，多葉片(multi-vane)分段的蠟?zāi)?12，是以一現(xiàn)有的七層加上一覆蓋層的陶瓷殼模10的方法來(lái)制作。閃火(Flash)除蠟是被 用來(lái)通過(guò)將所述模具10插入一 1600° F的熔爐并保持在此溫度一個(gè)小時(shí)，以移除所述蠟 模12。值得注意的是，由于一個(gè)或多個(gè)預(yù)先成形的陶瓷模芯失敗，大約60%的鑄件無(wú)法符 合鑄件壁厚規(guī)格而報(bào)廢。根據(jù)另一示范實(shí)施例實(shí)施一進(jìn)一步的實(shí)驗(yàn)，其中模具10(相當(dāng)于那些在上次實(shí) 驗(yàn)所提到所述實(shí)驗(yàn)所制作的模具)是使用在此描述的一低應(yīng)力脫蠟程序來(lái)脫蠟。所述 陶瓷殼模10是浸泡在自來(lái)水(tap water) 15分鐘，然后以2英時(shí)/每分鐘的速率浸入 340° F SOYEASY 淬火油20。所述陶瓷殼模10維持一分鐘然后從所述油20中移開(kāi)。 所述陶瓷殼模10緊接著被浸入一 1600° F熔爐并且保持在此溫度達(dá)一個(gè)小時(shí)。在所述脫 蠟程序期間，因?yàn)闊o(wú)法符合鑄件壁厚規(guī)格(因?yàn)閼?yīng)力減少了導(dǎo)致模芯失敗)而造成的鑄后 (Post-casting)報(bào)廢的比例減少至小于鑄件的5%。一額外實(shí)驗(yàn)被實(shí)施，其中包含八個(gè)有套罩葉片模的模具10是使用一現(xiàn)有八層加 一覆蓋層的陶瓷殼模10來(lái)制作。一閃火脫蠟的程序通常是通過(guò)將所述模具10插入一 1600° F熔爐然后保持在此溫度達(dá)一小時(shí)，以移除所述蠟?zāi)?2。在閃火脫蠟之后，大約75% 的模具包含外部可見(jiàn)的且在鑄造前需要修補(bǔ)的裂痕。一個(gè)進(jìn)一步的實(shí)驗(yàn)根據(jù)另一示范實(shí)施例以此描述的方式被實(shí)施。六個(gè)相等于那 些在上一段落的示范實(shí)施例所產(chǎn)生的模具10使用如在此描述的低應(yīng)力脫蠟程序來(lái)脫蠟。 所述模具10被浸泡在一自來(lái)水中達(dá)15分鐘，然后緊接著在一 2英時(shí)/每分鐘的速率浸入 340° F SOYEASY 淬火油20。所述模具10維持一分鐘然后從所述油20移開(kāi)。所述模 具10接著插入一 1600° F熔爐，然后保持在此溫度達(dá)一小時(shí)。沒(méi)有所述模具10包含外部 可見(jiàn)的裂痕。另一實(shí)驗(yàn)被實(shí)施。在此，模具10包含56個(gè)使用一現(xiàn)有七層加一覆蓋的陶瓷殼模 10制作的小型核心葉片模。所述核芯包含一小的熔接二氧化硅(silica)桿。所述模具10 在一高壓蒸汽加熱器內(nèi)使用90磅/平方英寸(psi)的蒸汽壓力來(lái)脫蠟。所述模具10接著 通過(guò)相同的壓熱器循環(huán)第二次再運(yùn)行。在模具預(yù)熱及鑄造后，大約25%的鑄件因?yàn)樗鋈?接二氧化硅桿失敗而報(bào)廢導(dǎo)致無(wú)法符合鑄件壁厚規(guī)格。根據(jù)另一示范實(shí)施例的一額外實(shí)驗(yàn)以相當(dāng)于那些在先前段落討論的模具10來(lái)實(shí) 施。一模具使用在此描述的低應(yīng)力脫蠟程序來(lái)脫蠟。所述模具10被浸泡在一自來(lái)水中達(dá) 15分鐘，然后緊接著在一 2英時(shí)/每分鐘的速率浸入340° F SOYEASY 淬火油20。所述模具10維持一分鐘，然后從所述油20移開(kāi)。所述模具10接著插入一 1600° F熔爐，然 后保持在此溫度達(dá)一小時(shí)。在鑄造之后只有一個(gè)元件(小于2%)因?yàn)樗鋈劢佣趸?桿失敗而無(wú)法符合鑄件壁厚規(guī)格。根據(jù)另一實(shí)驗(yàn)實(shí)施例的另一實(shí)驗(yàn)被實(shí)施，其中包含使用一現(xiàn)有七層加一覆蓋陶瓷 殼模10所制作的20個(gè)小型槳葉片模的二個(gè)模具10。所述模具10被浸泡在一自來(lái)水中達(dá) 15分鐘，然后緊接著在一 1. 5英時(shí)/每分鐘的速率浸入340° F SOYEASY 淬火油20。 所述模具10維持1.5分鐘，然后從所述油20移開(kāi)。所述模具10接著插入一 1600° F熔 爐，并保持在此溫度達(dá)一小時(shí)。在加熱至1600° F后所述模具10有一小裂痕出現(xiàn)在所有氣 翼的根部。檢查所述模具10發(fā)現(xiàn)當(dāng)它被浸入所述油20而沒(méi)有一開(kāi)口通道以離開(kāi)模具(相 同于所述模具部份提供唯一可能的路徑之前它進(jìn)入所述油20)時(shí)在此區(qū)域的一部份的蠟 模12將被熔化。這熔化的蠟12被固態(tài)蠟12所阻塞，及當(dāng)它熔化時(shí)它將膨脹及壓迫模具。 這證明被使用于所述揭露的脫蠟程序中的鑄造模具10可能需要設(shè)計(jì)以消除受到阻塞的溶 化蠟的體積。雖然本發(fā)明是以關(guān)于某些較佳實(shí)施例來(lái)進(jìn)行描述，但可理解的是，本發(fā)明包含的 主題內(nèi)容不是被限制于那些特定的實(shí)施例。相反的，它是想要使本發(fā)明的主題內(nèi)容包含至 所有變化、修改及等效如在下列權(quán)利要求可能包含的精神及領(lǐng)域的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種用于脫蠟的系統(tǒng)，其特征在于包含一陶瓷殼模，具有一壁部，其中水份存在所述陶瓷殼模的壁部?jī)?nèi)；一蠟?zāi)＝M件，位于所述陶瓷殼模內(nèi)；以及一熱源，配置用于加熱所述陶瓷殼模的至少一部份所述壁部，以便轉(zhuǎn)換所述陶瓷殼模 的壁部?jī)?nèi)的至少一部份水份成為蒸汽，用以熔化至少一部份的蠟?zāi)！?br> 2.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于在以所述熱源加熱之前，所述陶瓷殼模的壁 部具有水涂敷于其上，并且進(jìn)一步包含一陶瓷模芯位于所述蠟?zāi)＝M件內(nèi)，以及其中所述蒸 汽具有一高于華氏212度的溫度。
3.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于所述熱源是一熱油池，所述陶瓷殼模被浸入 其內(nèi)，其中所述熱油池的溫度是從華氏250至500度。
4.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于所述陶瓷殼模及所述蠟?zāi)＝M件以每秒0.1 至5. 0英時(shí)的速率被浸入所述熱油池。
5.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于所述蠟?zāi)＝M件及所述陶瓷殼模定義出一空 間，并且在所述空間內(nèi)維持在一個(gè)比所述壁部被所述熱源加熱的部份的外部為低的壓力， 使得在所述陶瓷殼模的壁部?jī)?nèi)產(chǎn)生的至少一部份蒸汽被吸入所述空間。
6.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于另包含一氣流，配置用以被導(dǎo)向吹襲至所述 陶瓷殼模的壁部未被所述熱源加熱的部份的外部，其中所述氣流配置用以降低所述陶瓷殼 模的壁部未被所述熱源加熱的部份的溫度。
7.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于另包含一灌注杯，銜接所述陶瓷殼模并布置成所述蠟?zāi)＝M件的熔蠟流出所述陶瓷殼模及通過(guò) 所述灌注杯，其中所述陶瓷殼模的壁部被加熱的第一部份鄰近于所述灌注杯；及一通氣管，配置用以維持所述陶瓷殼模的內(nèi)部于大氣壓力，其中所述通氣管配置供所 述蒸汽從所述陶瓷殼模的內(nèi)部通氣；一密封容器，配置用以接收從所述灌注杯流出的溶蠟并且儲(chǔ)存所述溶蠟于其內(nèi)，其中 所述熱源是一熱油池，及其中在所述密封容器是密封的，以便防止所述熱油池的油進(jìn)入所 述密封容器的內(nèi)部。
8.一種用于脫蠟的系統(tǒng)，其特征在于包含一陶瓷殼模，具有一壁部的；一蠟?zāi)＝M件，位于所述陶瓷殼模內(nèi)；一熱油池，其中所述陶瓷殼模被置于所述熱油池內(nèi)，其中一熱殼部被建立在所述陶瓷 殼模位在所述熱油池內(nèi)的部份，其中一冷殼部被建立在所述陶瓷殼模不位在所述熱油池內(nèi) 的部份，其中所述熱油池用以通過(guò)所述陶瓷殼模傳送熱能進(jìn)入所述蠟?zāi)＝M件，以便熔化所 述蠟?zāi)?；以及一蠟收集區(qū)，位在所述熱油池內(nèi)，其中來(lái)自所述蠟?zāi)＝M件的溶蠟被送入所述蠟收集區(qū) 并儲(chǔ)存于所述蠟收集區(qū)內(nèi)。
9.如權(quán)利要求8所述的系統(tǒng)，其特征在于所述蠟收集區(qū)是一完全浸入所述熱油池的 密封容器，其中所述密封容器是配置成防止所述熱油池的油進(jìn)入所述密封容器的內(nèi)部。
10.如權(quán)利要求9所述的系統(tǒng)，其特征在于另包含一陶瓷核芯，位于所述蠟?zāi)＝M件內(nèi)的 ’及一灌注杯，設(shè)于所述陶瓷殼模及所述密封容器之間，其中來(lái)自所述蠟?zāi)＝M件的熔蠟通 過(guò)所述灌注杯流入所述密封容器，其中所述灌注杯是完全浸入所述熱油池內(nèi)；其中以所述熱油池加熱之前，所述陶瓷殼模的壁部具有水份涂敷在其上，其中所述熱 油池的溫度是從華氏212至500度，其中所述陶瓷殼模及所述蠟?zāi)＝M件以每分鐘0. 1至5. 0 英時(shí)的速率浸入所述熱油池，以及其中造成所述熱油池的熱能傳至水份而形成蒸汽。
11.如權(quán)利要求10所述的系統(tǒng)，其特征在于另包含一通氣管以連通于所述陶瓷殼模 的內(nèi)部，其中所述通氣管設(shè)置成通過(guò)所述所述密封容器及所述灌注杯，其中所述通氣管用 以使所述陶瓷殼模的內(nèi)部通氣至大氣，以便所述陶瓷殼模的內(nèi)部維持于大氣壓力。
12.如權(quán)利要求8所述的系統(tǒng)，其特征在于水份存在于所述陶瓷殼模的壁部?jī)?nèi)，以及 其中水份在所述陶瓷殼模的熱殼部被轉(zhuǎn)變?yōu)檎羝渲兴稣羝靡詡魉蜔崮苤了鱿災(zāi)?組件，以便熔化所述蠟?zāi)?，其中所述蒸汽具有一高于華氏212度的溫度。
13.如權(quán)利要求12所述的系統(tǒng)，其特征在于所述蠟?zāi)＝M件及所述陶瓷殼模定義出一 空間，及在所述空間內(nèi)維持在一個(gè)比所述熱油池施加在所述陶瓷殼模的熱殼部的壓力為低 的壓力，其中在所述熱殼部產(chǎn)生的至少一部份蒸汽因壓力差被吸入所述空間。
14.如權(quán)利要求12所述的系統(tǒng)，其特征在于所述陶瓷殼模的壁部在應(yīng)用于所述熱油 池之前是被水浸透。
15.如權(quán)利要求8所述的系統(tǒng)，其特征在于另包含一氣流被導(dǎo)向吹襲所述陶瓷殼模的 冷殼區(qū)，其中所述氣流用以冷卻所述冷殼區(qū)。
16.一種脫蠟的方法，其特征在于包含步驟提供具有一壁部的一陶瓷殼模；將水份涂敷至所述壁部，以便水份被所述壁部吸收；及一部份的陶瓷殼模浸入一熱油池，以便形成所述陶瓷殼模的一熱殼部，其中所述陶瓷 殼模的壁部?jī)?nèi)的水份被轉(zhuǎn)變?yōu)檎羝?br> 17.如權(quán)利要求16所述的方法，其特征在于所述浸入步驟是以每分鐘0.1至5. 0英 時(shí)的速率進(jìn)行，及其中所述浸入步驟從所述陶瓷殼模具有一模具開(kāi)口的一部份開(kāi)始，其中 所述熱油池具有一從華氏212至500度的溫度。
18.如權(quán)利要求16所述的方法，其特征在于另包含以一氣流冷卻所述陶瓷殼模沒(méi)有 浸入所述熱油池的一部份的壁部的步驟，其中維持所述空間的步驟包含維持所述空間于大 氣壓力。
19.如權(quán)利要求16所述的方法，其特征在于另包含維持在所述陶瓷殼模內(nèi)的一空間 在一個(gè)比所述熱殼部的外部的壓力為低的壓力的步驟，以便所述熱殼部?jī)?nèi)形成的蒸汽吸入 所述空間內(nèi)，其中所述蒸汽熔化在所述陶瓷殼模內(nèi)的一蠟?zāi)＝M件。
20.如權(quán)利要求16所述的方法，其特征在于另包含步驟收集所述熔蠟在一完全浸入所述熱油池的密封容器內(nèi)，其中所述密封容器是密封的， 以便防止所述熱油池的油進(jìn)入所述密封容器的內(nèi)部；以及對(duì)來(lái)自所述陶瓷殼模內(nèi)的空間的蒸汽進(jìn)行通氣。
全文摘要
提供一種用于脫蠟的系統(tǒng)及方法。所述系統(tǒng)包含具有一壁部的一陶瓷殼模。水份存在所述陶瓷殼模的壁部?jī)?nèi)。一蠟?zāi)＝M件位在所述陶瓷殼模內(nèi)。一熱源配置用以加熱所述陶瓷殼模的至少一部份壁部，以便轉(zhuǎn)換所述陶瓷殼模的壁部?jī)?nèi)的至少一部份水份成為蒸汽，用以熔化至少一部份的蠟?zāi)！?br> 文檔編號(hào)B22C1/14GK102112252SQ200980130761
公開(kāi)日2011年6月29日 申請(qǐng)日期2009年4月30日 優(yōu)先權(quán)日2008年5月30日
發(fā)明者?！?申請(qǐng)人:希·楊