專利名稱：研磨裝置和研磨方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及對玻璃板等板材的兩表面進行研磨的研磨裝置和研磨方法，特別涉及 能夠傳送并且同時對兩表面進行研磨的對策。
背景技術(shù)：
一般地，當(dāng)使用玻璃板等板材制造規(guī)定的產(chǎn)品時，會對該板材的表面進行研磨。作為此時所使用的研磨裝置，已知有例如如專利文獻1所記載的，一邊傳送板材 一邊對單個表面分別進行研磨的研磨裝置、例如如專利文獻2所記載的，保持住板材同時 對兩表面進行研磨的研磨裝置。專利文獻1 日本特開2002-066886號公報(第4頁，圖3)專利文獻2 日本特開2001-334459號公報(第5頁，圖1 圖2)

發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的問題然而，在上述以往的情況下，無法一邊傳送一邊同時對兩表面進行研磨，因此存在 難以實現(xiàn)節(jié)拍的高速化的問題。本發(fā)明是鑒于上述問題點而完成的，其主要目的在于當(dāng)對玻璃板等板材的兩表面 進行研磨時，能夠一邊傳送板材一邊同時對其兩表面進行研磨，由此能夠有助于節(jié)拍的高 速化。用于解決問題的方案為了達到上述的目的，在本發(fā)明中，以兩個研磨頭夾住板材，在該狀態(tài)下在與板材 的傳送方向交叉的方向上使兩個研磨頭振動。具體地，本發(fā)明的研磨裝置具備傳送機構(gòu)，其在規(guī)定的傳送方向上傳送板材；兩 個研磨頭，其分別具有對上述板材的對應(yīng)面進行研磨的研磨面，被配置成使上述研磨面與 板材的對應(yīng)面相接觸并在板厚方向夾住該板材，并且被設(shè)置成能一邊允許利用上述傳送機 構(gòu)來傳送板材，一邊沿著上述對應(yīng)面且在與上述傳送機構(gòu)的傳送方向交叉的方向即位移方 向上進行位移；以及勵振機構(gòu)，其使上述兩個研磨頭分別以在上述位移方向上進行反復(fù)位 移的方式來振動。另外，作為對板材的兩表面進行研磨的研磨方法，使用分別對板材的兩表面進行 研磨的兩個研磨頭，一邊在規(guī)定的傳送方向上傳送該板材，一邊使上述兩個研磨頭相對于 該板材的兩表面分別以沿著該板材的對應(yīng)面且在與上述傳送方向交叉的方向即位移方向 上進行反復(fù)位移的方式來振動，由此，會一邊傳送板材一邊同時對其兩表面進行研磨。此外，在上述結(jié)構(gòu)中，對于各研磨頭，可以使該研磨頭的位移方向上的研磨面的尺 寸比相同位移方向上的板材的尺寸大，也可以使該位移方向是與傳送方向大致正交的方向 (與傳送方向?qū)嵸|(zhì)上正交的方向)。另外，對于勵振機構(gòu)，可以采用使兩個研磨頭以相互反向地進行位移的方式來振動的結(jié)構(gòu)。并且，除了上述結(jié)構(gòu)以外，還可以具備液體提供單元，該液體提供單元向利用研磨 頭正在研磨的板材的對應(yīng)面上提供液體(例如，水等)。這時，在研磨頭具有形成該研磨頭 的研磨面的多個研磨塊的情況下，液體提供單元可以采用具有多個噴出噴嘴的結(jié)構(gòu)，其中， 上述多個噴出噴嘴分別被配置在上述研磨塊之間來輸出液體。此外，作為本發(fā)明的研磨裝置的具體用途，作為一個例子，除了在液晶顯示面板的 制造過程中，對TFT陣列基板、對置電極基板等電極基板的基底所使用的玻璃板進行的研 磨之外，可以舉出對貼附偏光板之前的液晶顯示面板自身進行的研磨、對未貼附如上那樣 的偏光板的種類的液晶顯示面板進行的研磨等。發(fā)明效果根據(jù)本發(fā)明，以兩個研磨頭夾住正在傳送的板材，使上述兩個研磨頭以沿著板材 的對應(yīng)面且與板材的傳送方向交叉的方向即位移方向上進行反復(fù)位移的方式來振動，由此 能夠一邊傳送板材，一邊對其兩表面進行研磨，因此能夠在研磨工序自身，更進一步地，在 使用如上所述的板材的產(chǎn)品的制造過程中有助于節(jié)拍的高速化。


圖1是表示本發(fā)明的實施方式的研磨裝置的整體結(jié)構(gòu)的立體圖。圖2是表示一邊傳送玻璃板一邊研磨的狀態(tài)的側(cè)面圖。圖3是表示一邊使上側(cè)研磨頭和下側(cè)研磨頭以相互反向位移的方式來振動一邊 提供水來對玻璃板進行研磨的狀態(tài)的正面圖。圖4是放大表示對玻璃板和研磨塊提供水的狀態(tài)的截面圖。圖5是圖3的V-V線截面圖。附圖標(biāo)記說明10 傳送機構(gòu)；20 上側(cè)研磨頭(研磨頭)；21 研磨塊；30 下側(cè)研磨頭(研磨頭)； 31 研磨塊；40 勵振機構(gòu)；50 給水機構(gòu)(液體提供機構(gòu))；51 灑水噴嘴(噴出噴嘴)；T 傳送方向；w:玻璃板(板材)。
具體實施例方式以下基于

本發(fā)明的實施方式。圖1是示意性表示本發(fā)明的實施方式的研磨裝置的整體結(jié)構(gòu)的立體圖，該研磨裝 置是在使用玻璃板w作為材料之一而制造出的產(chǎn)品的制造過程中，被用于對該玻璃板w的 兩表面進行研磨。該研磨裝置具備傳送機構(gòu)10，其傳送被進料的玻璃板w ；兩個研磨頭20、30，其分 別具有對玻璃板w的對應(yīng)面進行研磨的研磨面，被配置成一邊允許利用傳送機構(gòu)10來傳送 正在傳送的玻璃板w—邊使研磨面與該玻璃板w的對應(yīng)面相接觸并在板厚方向夾住該玻璃 板w;以及勵振機構(gòu)40，其使上述兩個研磨頭20、30各自沿著玻璃板w的對應(yīng)面且在利用傳 送機構(gòu)10傳送玻璃板w的方向T交叉的方向上振動。在本實施方式中，傳送機構(gòu)10使玻璃板w在水平狀態(tài)下進料，因此會保持水平狀 態(tài)來傳送玻璃板W。具體地，軸心在水平方向延伸的多個傳送輥11被設(shè)置成分別在規(guī)定的
4傳送方向T上并排。這時，也如作為側(cè)面圖的圖2所示，位于傳送方向T上游側(cè)(同圖的左 側(cè))的多個傳送輥11與位于同方向T下游側(cè)(同圖的右側(cè))的多個傳送輥11之間的間隔 被設(shè)定成比在傳送方向T上相鄰的其它傳送輥11相互之間的間隔大。但是，該間隔被設(shè)定 成比傳送方向T上的玻璃板w的尺寸小。這些傳送輥11以相互在相同方向上相互以相同 圓周速度轉(zhuǎn)動的方式與圖外的驅(qū)動部驅(qū)動連接。此外，傳送輥11的長度尺寸被設(shè)定成在比 與傳送方向T正交的方向(以下稱作傳送路寬方向)上的玻璃板w的尺寸大。上述兩個研磨頭20、30被上下重疊地配置在傳送方向T上游側(cè)的傳送輥11與相 同方向T下游側(cè)傳送輥11之間。各研磨頭20、30被圖外的引導(dǎo)支撐機構(gòu)引導(dǎo)支撐，能夠在 傳送路寬方向上進行位移。在上側(cè)研磨頭20的下表面?zhèn)冉诲e狀地安裝有分別含有磨粒而 成的大致圓柱狀的多個(圖示的例子中為11個)研磨塊21。具體地，研磨塊21分別被配 置成在傳送路寬方向上延伸的兩列，在傳送方向T上并排，傳送方向T下游側(cè)的列的研磨塊 21的個數(shù)是相同方向T上游側(cè)的列的研磨塊21的個數(shù)(圖示的例子中為5個)力卩1的個 數(shù)(圖示的例子中為6個)。另外，傳送路寬方向上相鄰的兩個研磨塊21、21之間的間隙尺 寸比同傳送路寬方向上的各研磨塊21的尺寸小。這些研磨塊21被設(shè)置為各研磨塊21的 下端面相互位于同一平面上，通過這些下端面形成研磨頭20的研磨面。另一方面，在下側(cè)研磨頭30的上表面?zhèn)?，也與上側(cè)研磨頭20的情況相同，交錯狀 地安裝有分別含有磨粒而成的大致圓柱狀的多個(圖示的例子中為11個)研磨塊31，在傳 送路寬方向上相鄰的兩個研磨塊31、31之間的間隙尺寸比相同傳送路寬方向上的研磨塊 31的尺寸小。因此，這些研磨塊31被設(shè)置成各研磨塊31的上端面相互位于同一平面上， 通過這些上端面形成下側(cè)研磨頭30的研磨面。另外，上側(cè)研磨頭20的研磨塊21和下側(cè)研 磨頭30的研磨塊31被配置為在上下方向上相互對置。另外，傳送路寬方向上的各研磨頭 20,30的研磨面的尺寸被設(shè)定為比相同傳送路寬方向上的玻璃板w的尺寸大，由此，不僅使 玻璃板w的兩表面的整個面被沒有空余地研磨，在對比該玻璃板w傳送路寬方向尺寸小的 玻璃板進行研磨的情況下也能夠使用本實施方式的研磨裝置。在上述傳送機構(gòu)10的傳送路的一側(cè)方(圖1的右方)，設(shè)置有勵振機構(gòu)40，其中 勵振機構(gòu)40使上述兩個研磨頭20、30以在傳送路寬方向的規(guī)定尺寸范圍內(nèi)進行反復(fù)位移 的方式來振動。這時，勵振機構(gòu)40使兩個研磨頭20、30相互反向地進行位移。S卩，狀態(tài)如 下如作為正面圖的圖3中實線的空心白箭頭所示，當(dāng)上側(cè)研磨頭20向與傳送機構(gòu)10相反 的側(cè)(同圖的左側(cè))進行位移時，下側(cè)研磨頭30向傳送機構(gòu)10側(cè)(同圖的右側(cè))進行位 移，如同圖中的虛線空心白箭頭所示，當(dāng)上側(cè)研磨頭20向傳送機構(gòu)10側(cè)(同圖的右側(cè))進 行位移時，下側(cè)研磨頭30向傳送機構(gòu)10的相反的側(cè)(同圖的左側(cè))進行位移。由此，各研 磨頭20、30的振動對玻璃板w所造成的在傳送路寬方向的影響相互抵消，因此能夠抑制玻 璃板w在傳送路寬方向上的錯位。此外，作為振動的具體的樣式的一個例子，能夠舉出振幅 為數(shù)mm、振動次數(shù)為1秒期間數(shù)次左右的振動。如作為放大表示圖3的要部的截面圖的圖4所示，在兩研磨頭20、30中，連設(shè)有對 玻璃板w的兩表面提供水的給水機構(gòu)50。具體地，在各研磨頭20、30中，分別設(shè)有用于向利 用該研磨頭20、30正在研磨的玻璃板w的對應(yīng)面上灑水的多個(圖示的例子中為5個)灑 水噴嘴51。如作為圖3的V-V線截面圖的圖5所示，上側(cè)研磨頭20中的各灑水噴嘴51，分 別被配置于在傳送路寬方向(同圖的左右方向)上相鄰的兩個長列側(cè)研磨塊21和與該兩
5個長列側(cè)研磨塊21鄰接的一個短列側(cè)研磨塊21之間的大約中央處。另外，灑水噴嘴51被 設(shè)置成該灑水噴嘴51的灑水口相對于玻璃板w的對應(yīng)面與同一研磨頭20的研磨塊21的 端面相比遠的位置(參考圖4)。各灑水噴嘴51通過圖外的配管與給水部52的出口側(cè)連 接，來自該給水部52經(jīng)由上述配管而提供的水從灑水口灑出。由此，在玻璃板w的表面形 成有水膜，因此由于該水膜研磨塊21與玻璃板w之間的滑動阻力降低了，能夠降低由于該 滑動阻力而對玻璃板w的表面造成的劃痕等損害。另外，由于研磨而產(chǎn)生的研磨屑等異物 通過灑水而被沖刷，從而從玻璃板w的表面排出，因此能夠避免這樣的異物被研磨塊21拖 拽或者卷入的情況。特別地，在由于伴隨著研磨的摩擦容易產(chǎn)生靜電的情況下，這樣的靜電 的發(fā)生也受到上述的水膜的抑制，因此能夠提前防止由于這樣的靜電而使異物殘留在玻璃 板w的表面的情況。此外，在下側(cè)研磨頭30的情況的說明中，將上面的說明中的研磨塊21 替換成了研磨塊31，因此省略說明。另外，圖3中上側(cè)研磨頭20的研磨塊21、21之間的向 下的箭頭和下側(cè)研磨頭30的研磨塊31、31之間的向上的箭頭表示利用給水機構(gòu)50灑水的 狀態(tài)。接下來，說明如上所述而構(gòu)成的研磨裝置的動作。在水平狀態(tài)下被進料的玻璃板w保持該水平狀態(tài)被載置在傳送機構(gòu)10的傳送方 向T上游側(cè)的傳送輥11上。這樣，玻璃板W根據(jù)傳送機構(gòu)10的動作在傳送輥11上向傳送 方向T傳送，從該傳送方向T的前端部起進入兩個研磨頭20、30之間的間隙。勵振機構(gòu)40 使兩個研磨頭20、30相對于該玻璃板w在傳送路寬方向上振動，伴隨該振動，上側(cè)研磨頭20 在傳送路寬方向上對玻璃板w的上表面進行研磨，下側(cè)研磨頭30在傳送路寬方向上對玻璃 板w的下表面進行研磨。另一方面，玻璃板w —邊受到兩個研磨頭20、30的研磨，一邊被傳 送機構(gòu)在傳送方向T傳送。因此，玻璃板w會一邊被傳送一邊兩表面同時被研磨。另外，當(dāng)進行上述研磨時，從灑水噴嘴51灑出的水在玻璃板w的對應(yīng)面上形成水 膜，由于該水膜玻璃板w與研磨塊21、31之間的滑動阻力會降低，因此能夠抑制由于研磨塊 21,31對玻璃板w造成劃痕等的損害的情況。并且，研磨屑等異物由于受到流水洗刷，因此 在玻璃板w上不會發(fā)生任何殘留而被除去。如上所述，一邊被傳送一邊兩表面同時被研磨的玻璃板w從傳送路終端部向下道 工序保持水平狀態(tài)出料。因此，根據(jù)本實施方式，在使用玻璃板w作為材料之一而制造出的產(chǎn)品的制造過 程中，作為在對該玻璃板w的兩表面進行研磨的研磨工序中所使用的研磨裝置，通過勵振 機構(gòu)40使被配置成夾住利用傳送機構(gòu)10正在傳送的玻璃板w的兩表面的研磨頭20、30在 與傳送方向T正交的方向上振動，能夠一邊傳送玻璃板w —邊同時對其兩表面進行研磨，因 此，與如以往那樣的，一邊傳送玻璃板一邊分別對該玻璃板的單個表面進行研磨，或者使玻 璃板靜止同時對其兩表面進行研磨的情況相比，能夠有利于研磨工序自身、更進一步有利 于制造過程整體的節(jié)拍的高速化。此外，在上述的實施方式中，配置成在水平狀態(tài)(相對于水平面的角度的α為α =0° )下傳送玻璃板w，并且使兩個研磨頭20、30在上下方向上對置，但是在例如玻璃板w 在相對于水平面而傾斜了規(guī)定的角度α (0° < α <90° )的量的狀態(tài)(包括垂直狀態(tài)) 下被進料等情況下，可以配置成在與進料時大致相同的傾斜狀態(tài)下傳送玻璃板w，并且使兩 個研磨頭20、30在與其傾斜面大約正交的方向上對置。
另外，上述的實施方式中，使兩個研磨頭20、30在傳送路寬方向(與傳送方向T所 成的角度β為β = 90°的方向)上進行位移，但是也可以在與傳送方向T成的角度β不 足90° (β <90°。但是0° < β)的方向上進行位移。其中，這種情況下，需要使位移方 向上的研磨頭20、30的研磨面的尺寸變大，和/或使研磨頭20、30的振幅變大。另外，上述實施方式中，當(dāng)利用多個研磨塊來形成各研磨頭的研磨面時，該研磨塊 的形狀為大致圓柱狀，但是研磨塊的形狀并不限于大致圓柱狀，可以形成各種立體形狀。另外，在上述實施方式中，利用多個研磨塊來形成研磨面，但是也可以利用一個研 磨塊來形成研磨面，在這種情況下，可以在研磨塊自身中設(shè)置孔來確保水的通路，并且可以 在研磨塊的研磨面上設(shè)置漕等來使得水流動、由此易于排除異物。并且，在上述的實施方式中，在使用玻璃板w作為材料之一而制造的產(chǎn)品的制造 過程中，說明了對該玻璃板w的兩表面進行研磨的情況，但是本發(fā)明能夠應(yīng)用于除了玻璃 板w之外的、對各種板材的兩表面進行研磨的研磨裝置。工業(yè)上的可利用件如上說明所示，本發(fā)明對于對玻璃板等板材的兩表面進行研磨的研磨裝置和研磨 方法是有效的。
權(quán)利要求
一種研磨裝置，其特征在于具備傳送機構(gòu)，其在規(guī)定的傳送方向上傳送板材；兩個研磨頭，其分別具有對上述板材的對應(yīng)面進行研磨的研磨面，被配置成使上述研磨面與板材的對應(yīng)面相接觸并在板厚方向夾住該板材，被設(shè)置成能一邊允許利用上述傳送機構(gòu)來傳送板材，一邊沿著上述對應(yīng)面且在與上述傳送機構(gòu)的傳送方向交叉的方向即位移方向上進行位移；以及勵振機構(gòu)，其使上述兩個研磨頭分別以在各研磨頭的位移方向上進行反復(fù)位移的方式來振動。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨裝置，其特征在于各研磨頭的位移方向上的該研磨頭的研磨面的尺寸比相同位移方向上的板材的尺寸大。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨裝置，其特征在于 各研磨頭的位移方向是與傳送方向大致正交的方向。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨裝置，其特征在于勵振機構(gòu)采用使兩個研磨頭以相互反向地進行位移的方式來振動的結(jié)構(gòu)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨裝置，其特征在于具備液體提供單元，上述液體提供單元向利用研磨頭正在研磨的板材的對應(yīng)面上提供 液體。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨裝置，其特征在于 研磨頭具有形成該研磨頭的研磨面的多個研磨塊，液體提供單元具有多個噴出噴嘴，其中，上述多個噴出噴嘴被配置在上述研磨塊之間 來輸出液體。
7.一種研磨方法，對板材的兩表面進行研磨，上述研磨方法的特征在于 使用分別對板材的兩表面進行研磨的兩個研磨頭，一邊在規(guī)定的傳送方向上傳送上述板材，一邊使上述兩個研磨頭相對于該板材的兩表 面分別以沿著該板材的對應(yīng)面且在與上述傳送方向交叉的方向即位移方向上進行反復(fù)位 移的方式來振動。
全文摘要
以兩個研磨頭夾住利用傳送機構(gòu)正在傳送的板材，一邊通過勵振機構(gòu)使上述兩個研磨頭在與板材的傳送方向(T)交叉的方向上振動，一邊通過傳送機構(gòu)傳送上述板材。
文檔編號B24B1/04GK101909814SQ200880122610
公開日2010年12月8日 申請日期2008年12月15日 優(yōu)先權(quán)日2008年3月31日
發(fā)明者增田幸則, 谷井敏展 申請人:夏普株式會社