專利名稱：：高精度球雙自轉(zhuǎn)研磨盤高效研磨裝置的制作方法
技術領域：
：本發(fā)明涉及一種球形零件研磨裝置，特別涉及高速、高精度陶瓷球軸承中高精度陶瓷球的精密研磨/拋光加工裝置，屬于高精度球形零件加工技術。(二)
背景技術：
：高精度球是圓度儀、陀螺、軸承和精密測量中的重要元件，并常作為精密測量的基準，在精密設備和精密加工中具有十分重要的地位，特別是在球軸承中大量使用，是球軸承的關鍵零件，軸承球的精度(球形偏差、球直徑變動量和表面粗糙度)直接影響著球軸承的運動精度、噪聲及壽命等技術指標，進而影響設備、儀器的性能。與傳統(tǒng)的軸承鋼球材料(GCd5)相比，氮化硅等先進陶瓷材料具有耐磨、耐高溫、耐腐蝕、無磁性、低密度(為軸承鋼的40%左右)，熱脹系數(shù)小(為軸承鋼的25%)及彈性模量大(為軸承鋼的1.5倍)等-系列優(yōu)點，被認為是制造噴氣引擎、精密高速機床、精密儀器中高速、高精度及特殊環(huán)境下工作的軸承球的最佳材料。由于氮化硅等先進陶瓷屬硬脆難加工材料，材料燒結(jié)后的陶瓷球毛坯主要采用磨削(粗加工)—研磨(半精加工)—拋光(精加工)的方法進行加工。對于陶瓷球的研磨/拋光工藝而言，加工過程采用游離磨料，在機械、化學效應的作用下，對陶瓷球坯表面材料進行微小的去除，以達到提高尺寸精度，提高表面完整性的目的。傳統(tǒng)的陶瓷球研磨/拋光加工主要是在加工鋼質(zhì)軸承球的V形槽研磨設備上進行的，采用硬質(zhì)、昂貴的金剛石磨料作為磨料，加工周期長(完成一批陶瓷球需要幾周時間)。漫長的加工過程以及昂貴的金剛石磨料導致了高昂的制造成本，限制了陶瓷球的應用。隨著儀器設備精度的不斷提高，對陶瓷球等特殊材質(zhì)球體的加工精度提出了更高的要求，同時需要提高加工效率和一致性以降低生產(chǎn)成本。研磨/拋光裝置對陶瓷球的研磨精度和效率有著重要的影響。研磨過程中，球坯和研具的研磨方式直接決定了球坯的研磨成球運動。在保證毛坯球本身質(zhì)量和其它加工條件(壓力、.速度、磨料)的前提下，研磨跡線能否均勻覆蓋球面是高效研磨球坯，提高球度，獲得高精密球的關鍵。因此，必須對研磨/拋光裝置的運行過程及陶瓷球在研磨/拋光過程的運動狀態(tài)進行深入分析，掌握影響精度和效率的原因，才能為陶瓷球的加工提供合理的設備和相應的加對于陶瓷球的研磨加工，國內(nèi)外己有一些相應的加工裝置，如V形槽研磨加工裝置、圓溝槽研磨加工裝置、錐形盤研磨加工裝置、自轉(zhuǎn)角主動控制研磨裝置、磁懸浮研磨加工裝置等。在V形槽研磨加工裝置、圓溝槽研磨加工裝置、錐形盤研磨加工裝置等設備的加工過程中，球坯只能作"不變相對方位"研磨運動，即球坯的自旋軸對公轉(zhuǎn)軸的相對空間方位固定，球坯繞著一固定的自旋軸自轉(zhuǎn)。實踐和理論分析都表明"不變相對方位"研磨運動對球的研磨是不利的，球坯與研磨盤的接觸點在球坯表面形成的研磨跡線是一組以球坯自轉(zhuǎn)軸為軸的圓環(huán)，研磨盤沿著三接觸點的三個同軸圓跡線對球坯進行"重復性"研磨，不利于球坯表面迅速獲得均勻研磨，在實際加工中需要依靠球坯打滑、攪動等作用，使球坯的自旋軸與公轉(zhuǎn)軸的相對工件方位發(fā)生緩慢變化，達到均勻研磨的目的，但這種自旋角的變化非常緩慢，是隨機、不可控的，從而限制了加工的球度和加工效率。自轉(zhuǎn)角主動控制研磨裝置具有可獨立轉(zhuǎn)動的三塊研磨盤，可以通過控制研磨盤轉(zhuǎn)速變化來調(diào)整球坯的自旋軸的方位，球坯能作"變相對方位"研磨運動，球坯表面的研磨跡線是以球坯自轉(zhuǎn)軸為軸的空間球面曲線，能夠覆蓋大部分甚至整個球坯表面，有利于球坯表面獲得均勻、高效的研磨。但裝置動力源多，結(jié)構(gòu)及控制系統(tǒng)復雜，對制造和裝配精度都有較高的要求，加工成本高。陶瓷球磁懸浮研磨加工的主要特征是采用磁流體技術實現(xiàn)對球坯的高效研磨，除了對球坯的加壓的方式不同外，其研磨運動方式同V形槽研磨加工和錐形盤研磨加工中的運動方式基本相同，因此，在其加工過程中球度同樣受到了限制。磁懸浮研磨加工裝置和控制復雜，磁流體的成本也較高。因此，對于陶瓷球等難加工材料高精度球的加工，急需一種既有較高的加工精度和加工效率，又具有結(jié)構(gòu)簡單，制造成本較低的陶瓷球研磨/拋光加工設備。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有球形零件磨盤加工技術中存在的加工球度精度低、加工一致性差、加工效率低和成本高等問題，提供一種加工精度與加工效率、加工--致性高，問時設備結(jié)構(gòu)簡單，加工、裝配的精度要求低的研磨裝置。本發(fā)明所述的高精度球雙自轉(zhuǎn)研磨盤高效研磨裝置，包括設置在機架上的上研磨盤、下研磨外盤、下研磨盤內(nèi)盤，下研磨盤內(nèi)盤外側(cè)的錐面研磨面和下研磨盤外盤的內(nèi)側(cè)的錐形研磨面構(gòu)成V形槽結(jié)構(gòu)，和上研磨盤一起構(gòu)成研磨陶瓷球的三個加工接觸點；上研磨盤、下研磨外盤、下研磨盤內(nèi)盤中任選兩個部件的驅(qū)動軸連接不同的電機，未連接驅(qū)動電機的部件連接加工載荷裝置。所述的下研磨外盤、下研磨盤內(nèi)盤的驅(qū)動軸具有同軸布置的形式，并分別連接不同的電機，以及自上而下對上研磨盤施加的加工載荷裝置。所述的下研磨外盤、下研磨盤內(nèi)盤的驅(qū)動軸之間采用軸承連接。加壓裝置安裝于橫梁中間，加壓桿下端裝有稍帶浮動的上研磨盤、測力計，加壓裝置上還有當研磨盤下降到位后將上研磨盤鎖緊定位的鎖緊裝置；上研磨盤上安裝有用于防止上研磨盤作周向轉(zhuǎn)動的擋臂。本發(fā)明的雙自轉(zhuǎn)研磨盤高效研磨裝置采用三塊研磨盤構(gòu)成構(gòu)成V形槽結(jié)構(gòu)，與陶瓷球構(gòu)成三點接觸進行研磨，任意選擇其中的兩塊研磨盤作為原動件就完全可以實現(xiàn)球坯在兩個自由度方向上的旋轉(zhuǎn)運動，通過調(diào)整這兩塊研磨盤的轉(zhuǎn)速組合，實現(xiàn)球坯自轉(zhuǎn)角的變化，使研磨軌跡能均勻覆蓋整個球坯表面，快速修正球形誤差；另一塊研磨盤不轉(zhuǎn)動，對球坯施加加工載荷。根據(jù)三塊研磨盤配置的不同，該新型研磨裝置可采用數(shù)種結(jié)構(gòu)形式，其設計思想和工作原理相同，下面以其中一種研磨盤配置方式為例給出說明。該研磨裝置采用一塊上研磨盤和兩塊下研磨盤構(gòu)成研磨盤組件。上研磨盤在加工過程中周向固定(不旋轉(zhuǎn))，下端面為研磨面，加壓裝置通過上研磨盤對球坯施加彈性載荷，使較大的球受到較大的載荷，從而在加工過程中始終能保證較好的磨削尺寸選擇性——磨大球，不磨或少磨小球；磨球坯的長軸，不磨或少磨短軸。下研磨盤由內(nèi)外兩個盤組成，分別由兩個電機通過一套同軸傳動裝置驅(qū)動，可獨立轉(zhuǎn)動，下研磨盤內(nèi)盤外側(cè)的錐面研磨面和下研磨盤外盤的內(nèi)側(cè)的錐形研磨面構(gòu)成V形槽結(jié)構(gòu)。加工過程中，陶瓷球坯在V形槽中受到研磨盤的驅(qū)動公轉(zhuǎn)并自轉(zhuǎn)，在磨料的作用下實現(xiàn)材料去除，研磨成球。由于存在兩個驅(qū)動，完全可以實現(xiàn)球坯兩個自由度方向的旋轉(zhuǎn)，實現(xiàn)完整的成球運動，即通過控制下研磨盤外盤和下研磨盤內(nèi)外盤的轉(zhuǎn)速組合，可使研磨過程中球坯的自旋軸與公轉(zhuǎn)軸的相對方位發(fā)生變化，實現(xiàn)球坯"變相對方位"的成球運動，使球坯表面獲得均勻研磨，快速修正球形偏差，從而提高加工精度與加工效率。該裝置采用上研磨盤、下研磨盤外盤獨立旋轉(zhuǎn)，下研磨盤內(nèi)盤加壓的，或上研磨盤、下研磨盤內(nèi)盤獨立旋轉(zhuǎn)，下研磨盤外盤加壓等配置方式也可以達到同樣的效果。本發(fā)明與自轉(zhuǎn)角主動控制研磨裝置一樣能夠?qū)崿F(xiàn)球坯自轉(zhuǎn)軸與公轉(zhuǎn)軸相對方位的調(diào)整，實現(xiàn)球坯表面的均勻研磨/拋光，區(qū)別在于本發(fā)明的上研磨盤是無需旋轉(zhuǎn)的，與下研磨的同軸要求較低；上盤稍有浮動，降低了上、下研磨盤的平行度要求，并便于通過上盤對球坯加壓；驅(qū)動、傳動裝置由三個減少至兩個。這樣，設備的結(jié)構(gòu)得到很大簡化，加工、裝配的精度要求也相對降低。本發(fā)明給出的其中一種雙自轉(zhuǎn)研磨盤高效研磨裝置包括上研磨盤、下研磨盤內(nèi)盤、下研磨盤外盤、下研磨盤內(nèi)外盤驅(qū)動軸、加壓裝置、驅(qū)動機構(gòu)、電機、左右立柱、橫梁、鎖緊裝置、擋臂等組成。下研磨盤組件由下研磨盤內(nèi)盤和下研磨盤外盤組成，分別安裝在以同軸形式布置的內(nèi)外驅(qū)動軸上，內(nèi)外驅(qū)動軸之間采用軸承連接，分別由電機通過傳動帶驅(qū)動，可帶動下研磨盤內(nèi)盤和下研磨盤外盤獨立轉(zhuǎn)動，轉(zhuǎn)速可調(diào)。下研磨盤內(nèi)盤外側(cè)的錐面研磨面和下研磨盤外盤的內(nèi)側(cè)的錐形研磨面構(gòu)成V形槽結(jié)構(gòu)。研磨過程中球坯就放置在環(huán)形的V形槽內(nèi)，在研磨盤的帶動下公轉(zhuǎn)并自轉(zhuǎn)。下研磨盤內(nèi)盤和下研磨盤外盤可獨立旋轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速可控。研磨過程中，通過控制下研磨盤外盤和下研磨盤內(nèi)外盤的轉(zhuǎn)速組合來實現(xiàn)球坯的"變相對方位"的研磨成球運動。加壓裝置(可以是液壓、氣壓或機械加壓)安裝于橫梁中間。加壓桿下端裝有稍帶浮動的上研磨盤，加壓桿可上下移動，實現(xiàn)上研磨盤在上、下球坯的升降。當上研磨盤與球坯接觸后，加壓桿把壓力通過彈簧傳遞至上研磨盤，對球坯施加加工載荷。通過調(diào)整加壓桿的下壓行程條件加工載荷，壓力值可以通過測力計顯示。上研磨盤下降到位后，由鎖緊裝置將上研磨盤鎖緊，防止上研磨盤向上運動，保證穩(wěn)定加壓。上研磨盤上安裝有擋臂，以防止上研磨盤作周向轉(zhuǎn)動。本發(fā)明進行陶瓷球研磨/拋光過程中，其單個陶瓷球研磨機理分析如下上研磨盤周向固定，假設球坯為標準球體，球坯和研磨盤接觸點之間無變形，無相對滑動，球坯之間無推擠現(xiàn)象，陶瓷球只受研磨盤作用，下研磨盤通過與陶瓷球的接觸點無滑動地帶動陶瓷球作研磨運動。設定研磨盤與陶瓷球的接觸點分別為A、B、(〕。三接觸點到下研磨盤回轉(zhuǎn)軸的距離分別為ij、Ws、&，。下研磨盤轉(zhuǎn)速分別為^j、Qc。半徑為Q的球坯在下研磨盤組成的V形槽內(nèi)以角速度06公轉(zhuǎn)，同時以角速度W6自轉(zhuǎn)。V形槽道的形狀由下研磨盤內(nèi)盤和下研磨盤外盤的斜角a、y9確定，并有iB-仏+was'a，^-i^—r&aw/。在實際的工程應用中，一般a=P。陶瓷球的自轉(zhuǎn)軸恒保持在陶瓷球經(jīng)度剖面大圓平面上，自轉(zhuǎn)角速度0)6矢量在此平面上的方向山&表示。在^角不變的情況下，A、B、C三接觸點在陶瓷球表面形成的三條研磨軌跡是同軸的三個圓。自轉(zhuǎn)角^的取值與輸入轉(zhuǎn)速Ds、f2c緊密相關，通過改變輸入轉(zhuǎn)速r&、^c，自轉(zhuǎn)角0可以在O18O。范圍內(nèi)取值，使研磨軌跡覆蓋整個球面。這樣就可以通過調(diào)整^和Oc的速度組合，使陶瓷球作"變相對方位"，使研磨跡均勻分布在球的表面上，實現(xiàn)對陶瓷球表面的均勻研磨。同時，加壓裝置對球坯施加彈性載荷，能使較大的球受到較大的載荷，從而在加工過程中始終能保證較好的磨削尺寸選擇性——磨大球，不磨或少磨小球；磨球坯的長軸，不磨或少磨短軸，因此能快速修正球形偏差，從而提高加工精度與加工效率。本發(fā)明對陶瓷球進行研磨/拋光加工所涉及的幾何和工藝參數(shù)很多，但對陶瓷球研磨有重要影響的主要有幾何參數(shù)o、l、a、y5等，以及加工載荷特W&、A:、磨料等工藝參數(shù)。這里著重探討其中最重要的三個參數(shù)一加工載荷時卩下研磨盤轉(zhuǎn)速i^、i2c。陶瓷球在研磨中的隨機打滑對陶瓷球研磨最為有害，不僅直接破壞陶瓷球的研磨質(zhì)量，而且還破壞正常的研磨運動，從而引起相鄰陶瓷球之間的擠碰，更嚴重的會影響到陶瓷球研磨加工的正常進行。因此，分析加工載荷和兩塊下研磨盤轉(zhuǎn)速的出發(fā)點是》必須確保陶瓷球在研磨中作無隨機打滑研磨運動。而隨機打滑現(xiàn)象直接與加工載荷與研磨盤轉(zhuǎn)速參數(shù)是緊密相關的。提高加工載荷和研磨盤轉(zhuǎn)速有利于提高球坯的材料去除率，但由此造成的隨機打滑和尺寸旋轉(zhuǎn)性下降則會降低球度精度。因此，在確定具體值時，必須兼顧加工質(zhì)量和加工效率。例如，在粗研時可選擇較大的研磨壓力和研磨盤轉(zhuǎn)速，以提高加工余量的去除速度；如果側(cè)重于研磨精度，仏、^c、『應該選小一點。仏、O:、『的最后確定，還必須通過大量的分析、仿真和陶瓷球研磨的現(xiàn)場實驗，以取得最佳的研磨效果。陶瓷屬于脆性材料，在磨粒的作用下，表面會產(chǎn)生不同程度的裂紋，所以，陶瓷球的研磨加工要分步進行，由粗到精分多道工序來完成。工序多時輔助時間長，加工時間多，球的清洗取放時間長，最大優(yōu)點是可以合理分配加工余量，每道工序效率高。工序少時輔助時間短，加工時間長，磨粒度差別大，必須保證足夠的加工余量才能去除前道工序所留缺陷及逐漸提高加工精度。工序的劃分要根據(jù)加工批量，球坯余量，誤差大小等綜合確定，批量較大時，工序劃分有助于整體效率的提高。因此，本發(fā)明進行陶瓷球研磨加工的一個合理的加工工藝為粗研一半精研一精研一超精研一拋光。為保證研磨效率和精度，應根據(jù)批量大小、球坯的余量來合理安排工序，由粗到精，逐步減小研磨壓力和轉(zhuǎn)速。調(diào)整合理的研磨劑有助于提高研磨精度和效率，需采取措施使磨料在研磨液中懸浮，研磨液循環(huán)要均勻。研磨裝置的精度對研磨效率和精度的提高有很大的影響，主要應保證上下研磨盤之間的平行度、兩塊下研磨盤的同軸度，垂直度，偏心及導向精度，這直接關系到球坯的受力和運動狀態(tài)。與現(xiàn)有技術相比，本發(fā)明的有益效果為本裝置結(jié)構(gòu)較為簡單，能達到主動控制球坯在研磨過程中的運動狀態(tài)，實現(xiàn)"變相對方位"的研磨成球運動，同時通過研磨盤轉(zhuǎn)速的自動化控制，減少了人為因素的影響，提高了加工的一致性和穩(wěn)定性。結(jié)合合理的研磨加工工藝，可以有效提高陶瓷球的研磨精度和研磨效率，實現(xiàn)批量生產(chǎn)，在加工精度、效率及機械結(jié)構(gòu).上具有明顯的綜合優(yōu)勢。該設備同時還可以用于加工高精度鋼制軸承球、瑪瑙球以及其它材料的球形零件，將對提高精密球批量生產(chǎn)的研磨精度和研磨效率，發(fā)展超高精度球和陶瓷球等特殊材質(zhì)球都將起到非常積極的作用，可為高速、高精度主軸系統(tǒng)提供關鍵的基礎零件，促進數(shù)控機床、精密儀器等相關產(chǎn)業(yè)向著高速、高效、高精度的方向快步發(fā)展，而且可以逐步形成專業(yè)生產(chǎn)高精度陶瓷球軸承的高科技產(chǎn)業(yè)，培育新的經(jīng)濟增長點。(四)圖l是本發(fā)明給出的其中一個實施實例的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2-l為本發(fā)明中陶瓷球研磨機理圖。圖2-2為本發(fā)明中陶瓷球研磨幾何關系圖。圖2-3為本發(fā)明中陶瓷球研磨運動分析圖。圖3為陶瓷球表面研磨跡線仿真示意圖。具體實施方式下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的具體技術方案及工作過程作進一步說明實施例一參見附圖高精度球雙自轉(zhuǎn)研磨盤高效研磨裝置包括設置在機架1上的上研磨盤9、下研磨外盤6、下研磨盤內(nèi)盤7，下研磨盤內(nèi)盤驅(qū)動電機2，下研磨盤內(nèi)盤傳動裝置3，下研磨盤內(nèi)盤主軸4，下研磨盤外盤驅(qū)動電機19，下研磨盤外盤傳動裝置18，下研磨盤外盤主軸5，托盤8，加壓裝置ll，測力計IO，橫梁12，鎖緊機構(gòu)13，加壓桿14，擋臂15，立柱16，控制臺17，下研磨盤內(nèi)盤外側(cè)的錐面研磨面和下研磨盤外盤的內(nèi)側(cè)的錐形研磨面構(gòu)成V形槽結(jié)構(gòu)，和上研磨盤一起構(gòu)成研磨陶瓷球的三個加工接觸點；下研磨外盤、下研磨盤內(nèi)盤的驅(qū)動軸連接不同的電機，所述的下研磨外盤、下研磨盤內(nèi)盤的驅(qū)動軸之間采用軸承連接，上研磨盤連接加工載荷裝置。.所述的下研磨外盤、下研磨盤內(nèi)盤的驅(qū)動軸具有同軸布置的形式，并分別連接不同的電機，以及自上而下對上研磨盤施加的加工載荷裝置。加壓裝置安裝于橫梁中間，加壓桿下端裝有稍帶浮動的上研磨盤、測力計，加壓裝置上還有當研磨盤下降到位后將上研磨盤鎖緊定位的鎖緊裝置；上研磨盤上安裝有用于防止上研磨盤作周向轉(zhuǎn)動的擋臂。上研磨盤安裝在加壓桿的下端，稍帶浮動，上研磨下端面為研磨面，不能周向轉(zhuǎn)動。加壓桿可上下移動實現(xiàn)上研磨盤在上、下球坯時的升降。當上研磨盤與球坯接觸后，加壓桿把壓力通過彈簧傳遞至上研磨盤，對球坯施加加工載荷。通過調(diào)整加壓桿的下壓行程條件加工載荷，壓力值可以通過測力計顯示。上研磨盤下降到位后，由鎖緊機構(gòu)將上研磨盤鎖緊，防止上研磨盤向上運動，保證穩(wěn)定加壓。上研磨盤上安裝有擋臂，以防止上研磨盤作周向轉(zhuǎn)動。下研磨盤組件由下研磨盤內(nèi)盤和下研磨盤外盤組成，分別安裝在以同軸形式布置的內(nèi)外驅(qū)動軸上，內(nèi)外驅(qū)動軸之間采用軸承連接，分別由電機通過傳動帶驅(qū)動，可帶動下研磨盤內(nèi)盤和下研磨盤外盤獨立轉(zhuǎn)動，轉(zhuǎn)速可調(diào)。下研磨盤內(nèi)盤外側(cè)的錐面研磨面和下研磨盤外盤的內(nèi)側(cè)的錐形研磨面構(gòu)成V形槽結(jié)構(gòu)。研磨過程中球坯就放置在環(huán)形的V形槽內(nèi)，在研磨盤的帶動下公轉(zhuǎn)并自轉(zhuǎn)。下研磨盤內(nèi)盤和下研磨盤外盤可獨立旋轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速可控。下表列出了雙自轉(zhuǎn)研磨法陶瓷球研磨加工條件<table>tableseeoriginaldocumentpage10</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage11</column></row><table>研磨磨料使用金剛石磨料，也可以使用SiC，B4C磨料。金剛石磨料成本較高，加工效率高。粗研磨有兩個作用一是消除球坯表面較大的制備缺陷，減少球形誤差，統(tǒng)一球徑；二是高效去初余量滿足球徑要求。粗研應首先將球坯按最大直徑分組，縮短研磨初期的不穩(wěn)定過程，并盡量減少其跳動以提高研磨效率。精研的目的是提高球的精度和表面質(zhì)量，去除余量應保證消除前道工序所遺留的缺陷，不僅如此，還應保證足夠余量以便逐漸提高精度。拋光的主要目的是提高表面質(zhì)量。下表列出了一個較合理的加工工藝參數(shù)。<table>tableseeoriginaldocumentpage11</column></row><table>下表列出的是成品陶瓷球的檢測結(jié)果。從檢測結(jié)果看加工出的陶瓷球的精度水平已達到鋼球的G3精度。采用雙自轉(zhuǎn)研磨盤研磨設備加工的陶瓷球的部分技術指標(j_im)<table>tableseeoriginaldocumentpage11</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage12</column></row><table>下表給出了給定工藝條件下，在半精加工階段采用固著磨料技術，采用雙自轉(zhuǎn)研磨盤研磨設備加工G5和G305mm陶瓷球，精研一超精研一拋光所需的時間，與傳統(tǒng)的V形槽研磨設備相比，加工時間是傳統(tǒng)加工方法的1/2~1/4。<table>tableseeoriginaldocumentpage12</column></row><table>實施例上研磨盤、下研磨盤內(nèi)盤的驅(qū)動軸連接不同的電機，下研磨外盤連接加工載荷裝置。本實施例其余結(jié)構(gòu)與實現(xiàn)方式與實施例一相同。實施例三上研磨盤、下研磨外盤的驅(qū)動軸連接不同的電機，下研磨盤內(nèi)盤連接加工載荷裝置。本實施例其余結(jié)構(gòu)與實現(xiàn)方式與實施例-一相同。權(quán)利要求1.高精度球雙自轉(zhuǎn)研磨盤高效研磨裝置，包括設置在機架上的上研磨盤、下研磨外盤、下研磨盤內(nèi)盤，其特征在于下研磨盤內(nèi)盤外側(cè)的錐面研磨面和下研磨盤外盤的內(nèi)側(cè)的錐形研磨面構(gòu)成V形槽結(jié)構(gòu)，和上研磨盤一起構(gòu)成研磨陶瓷球的三個加工接觸點；上研磨盤、下研磨外盤、下研磨盤內(nèi)盤中任選兩個部件的驅(qū)動軸連接不同的電機，未連接驅(qū)動電機的部件連接加工載荷裝置。2、如權(quán)利要求1所述的高精度球雙自轉(zhuǎn)研磨盤研磨裝置，其特征在于所述的下研磨外盤、下研磨盤內(nèi)盤的驅(qū)動軸具有同軸布置的形式，并分別連接不同的電機，以及自上而下對上研磨盤施加的加工載荷裝置。3、如權(quán)利要求2所述的高精度球雙自轉(zhuǎn)研磨盤研磨裝置，其特征在于所述的下研磨外盤、下研磨盤內(nèi)盤的驅(qū)動軸之間采用軸承連接。4、如權(quán)利要求l-3之一所述的高精度球雙自轉(zhuǎn)研磨盤研磨裝置，其特征在于加工載荷裝置具有如下結(jié)構(gòu)加壓裝置安裝于橫梁中間，加壓桿下端裝有稍帶浮動的上研磨盤、測力計，加壓裝置上還有當研磨盤下降到位后將上研磨盤鎖緊定位的鎖緊裝置；上研磨盤上安裝有用于防止上研磨盤作周向轉(zhuǎn)動的擋臂。全文摘要一種高精度球雙自轉(zhuǎn)研磨盤高效研磨裝置，包括設置在機架上的上研磨盤、下研磨外盤、下研磨盤內(nèi)盤，下研磨盤內(nèi)盤外側(cè)的錐面研磨面和下研磨盤外盤的內(nèi)側(cè)的錐形研磨面構(gòu)成V形槽結(jié)構(gòu)，和上研磨盤一起構(gòu)成研磨陶瓷球的三個加工接觸點；上研磨盤、下研磨外盤、下研磨盤內(nèi)盤中任選兩個部件的驅(qū)動軸連接不同的電機，未連接驅(qū)動電機的部件連接加工載荷裝置。本發(fā)明能夠?qū)崿F(xiàn)球坯自轉(zhuǎn)軸與公轉(zhuǎn)軸相對方位的調(diào)整，實現(xiàn)球坯表面的均勻研磨/拋光，加工精度與加工效率、加工一致性高，同時驅(qū)動、傳動裝置由三個減少至兩個，結(jié)構(gòu)簡單，加工、裝配的精度要求低的研磨裝置。文檔編號B24B11/06GK101204786SQ20061015532公開日2008年6月25日申請日期2006年12月19日優(yōu)先權(quán)日2006年12月19日發(fā)明者呂冰海,王志偉,袁巨龍,秦許申請人:浙江工業(yè)大學