專利名稱：真空槽的防止變形加強(qiáng)構(gòu)造的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及到提高進(jìn)行真空蒸鍍等成膜時(shí)使用的真空槽的強(qiáng)度及膜厚分布精度。
背景技術(shù)：
一般情況下，真空槽具有真空槽主體和排氣口部焊接的構(gòu)造、或其通過固定螺絲接合的構(gòu)造，上述真空槽主體設(shè)有開合的門等，并設(shè)有基板夾具和基板，以及電子槍、電阻加熱等蒸發(fā)源部；上述排氣口連通到用于使該真空槽主體成真空狀態(tài)的真空排氣泵。
圖2表示一般的批量式光學(xué)薄膜成膜用的蒸鍍裝置，以下對(duì)該裝置的薄膜形成概要進(jìn)行說明。
圖2的裝置由以下部件構(gòu)成真空槽主體29及搭載該主體的架臺(tái)28；在基板36、基板圓頂35出入、及向蒸發(fā)源33補(bǔ)充蒸鍍材料39時(shí)開合的真空槽門30；用于使蒸鍍材料39蒸發(fā)的蒸發(fā)源33；在蒸發(fā)結(jié)束時(shí)防止對(duì)基板蒸鍍的擋板34；進(jìn)行蒸鍍的基板36及搭載它的、為了使圓周方向的膜厚分布平均而進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的基板圓頂35；用于使之旋轉(zhuǎn)的基板圓頂旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)37；測(cè)量蒸鍍的膜并判斷蒸鍍是否結(jié)束的膜厚測(cè)量器38；防止蒸鍍材料附著到主閥閥板23的排氣口隔板22；使真空槽內(nèi)排氣的主泵24、粗泵25、粗閥26、輔助閥27。蒸發(fā)源33設(shè)置在真空槽底板32上，基板圓頂旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)37、基板圓頂35、膜厚測(cè)定器38設(shè)置在真空槽頂板31上。
利用該裝置進(jìn)行蒸鍍時(shí)，首先在基板圓頂35上設(shè)置進(jìn)行蒸鍍的基板36，將蒸鍍材料39放入到蒸發(fā)源33。并且關(guān)閉真空槽門30，使用粗泵75、粗閥26、主泵24、輔助閥27對(duì)真空槽主體29內(nèi)部進(jìn)行真空排氣，在主閥閥板23打開的狀態(tài)下，保持高真空排氣。接著使基板圓頂35旋轉(zhuǎn)，在蒸發(fā)源33中使蒸鍍材料39加熱為高溫，從而使其上升到蒸發(fā)溫度并蒸發(fā)。蒸鍍動(dòng)作打開擋板34，使蒸鍍材料39平均附著到通過基板圓頂旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)37旋轉(zhuǎn)的基板圓頂35上的基板36。為了使此時(shí)蒸發(fā)的蒸鍍材料39不附著到主閥閥板23的襯墊部，在排氣口部21上設(shè)置有排氣口隔板22。蒸鍍結(jié)束后，測(cè)量附著到膜厚測(cè)定器38的蒸鍍材料39的膜厚，在到達(dá)設(shè)定膜厚的階段關(guān)閉擋板34，結(jié)束蒸鍍動(dòng)作。如上所述的真空裝置中的排氣口部及隔板的構(gòu)造例如在專利文獻(xiàn)1中被公開。
圖6a表示上述蒸鍍裝置所使用的現(xiàn)有的真空槽及排氣口部，排氣口部?jī)?nèi)基本上是空洞的。
圖6b表示上述真空槽及排氣口部的分解圖。在制造真空槽時(shí)，如該圖所示，通過機(jī)械加工等制造真空槽頂板31、真空槽底板32、真空槽側(cè)面板4、排氣口頂板50、排氣口底板51、排氣口側(cè)面板52。
圖6c表示通過焊接或固定螺絲組裝上述真空槽配件的狀態(tài)。分別組裝真空槽主體29及現(xiàn)有的排氣口部21，將其焊接或通過固定螺絲接合。
現(xiàn)在，蒸鍍薄膜同時(shí)要求非常嚴(yán)格的膜厚精度規(guī)格及高生產(chǎn)效率。為了提高生產(chǎn)效率，需要盡量提高蒸鍍薄膜的膜厚的再現(xiàn)性及膜厚分布。為了實(shí)現(xiàn)這一點(diǎn)，需要使基板圓頂旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)37及基板圓頂35的旋轉(zhuǎn)軸和蒸發(fā)源的垂線的角度總保持一致。
具體參照?qǐng)D7進(jìn)行說明。在該圖中，53表示基板圓頂35的旋轉(zhuǎn)軸，54表示蒸發(fā)源33的垂線，55及56表示相對(duì)于旋轉(zhuǎn)軸53配置在對(duì)稱位置的基板a及基板b，X1及X2表示蒸發(fā)材料39和基板a55及b56的距離，θ1及θ2表示基板a55及b56相對(duì)于蒸發(fā)源的垂線54的角度。圖7a表示旋轉(zhuǎn)軸53和蒸發(fā)源33的垂線54一致時(shí)、即X1＝X2的情況，圖7b表示不一致時(shí)，即X1≠X2的情況。如圖7b所示，當(dāng)旋轉(zhuǎn)軸53和蒸發(fā)源33的垂線54不一致時(shí)，蒸發(fā)源33和基板36之間的距離產(chǎn)生不均，附著到配置在圓周上的基板36的薄膜的厚度分布中產(chǎn)生不均。
在圖7b的情況下，由于基板圓頂35旋轉(zhuǎn)，因此基板a55和基板b56描繪的軌跡相等。但是在蒸發(fā)開始時(shí)、擋板34關(guān)閉蒸發(fā)結(jié)束時(shí)的瞬間，由于距蒸發(fā)源33的距離不同，膜厚產(chǎn)生分布不均。附著到基板36的蒸鍍材料39一般與cosθ1及cosθ2成正例，與蒸發(fā)材料39到基板36的距離X1及X2的二次方成反比。并且，將蒸鍍材料附著到基板的速度稱為速率，該速率和上述一樣，與cosθ1及cosθ2成正例，與X1及X2的二次方成反比。因此在蒸發(fā)開始時(shí)、擋板34關(guān)閉蒸發(fā)結(jié)束以外的時(shí)間，附著到基板a55及基板b56的膜厚因速度差的累積而產(chǎn)生大的偏差。并且，附著到基板的蒸鍍材料的折射率受速率的較大影響，因此膜質(zhì)也產(chǎn)生較大的差。
如上所述，在接合真空槽主體29和排氣口部21時(shí)進(jìn)行焊接等。此時(shí)通過焊接部57的材料的收縮，如圖8所示，真空槽主體29向變形方向58的方向變形，因此真空槽頂板31和真空槽底板32的平行度無法保持，產(chǎn)生上述基板圓頂?shù)男D(zhuǎn)軸53和蒸發(fā)源的垂線54的角度不一致的問題。
在蒸鍍動(dòng)作中，當(dāng)對(duì)真空槽內(nèi)進(jìn)行真空排氣時(shí)，真空槽內(nèi)的壓力達(dá)到5E-5Pa左右。這種情況下，真空槽內(nèi)的壓力和大氣壓相比無限接近0，因此在真空槽側(cè)面板41、真空槽門30、真空槽頂板31、真空槽底板32、現(xiàn)有的排氣口部21的所有部位中，每1平方厘米施加約1kgf的外力。如圖9所示，收縮的力施加到真空槽整體。在現(xiàn)有的排氣口21中，內(nèi)部是空洞的，且在真空槽側(cè)面板4的安裝部中變?yōu)殚_口，因此該部位的強(qiáng)度較弱，真空槽主體29的后方收縮。
真空槽門30、真空槽主體29的前面開口部，如圖10所示，為用于密封真空的凸緣形狀，真空槽主體一側(cè)變?yōu)楸∑?9，門一側(cè)變?yōu)橐r墊面60，一般由于使用有厚度的材料，因此強(qiáng)度較大。并且，在和主泵支管20的接合部也具有同樣的構(gòu)造，強(qiáng)度較大。
在此為了解決因真空排氣或加工精度引起真空槽變形導(dǎo)致槽內(nèi)部配置的設(shè)備及部件的位置關(guān)系被破壞的上述課題，公開了改良的槽內(nèi)部的設(shè)備及部件的設(shè)置方法(例如專利文獻(xiàn)2或3)。在專利文獻(xiàn)2中，基板不受來自腔內(nèi)的機(jī)械性約束，因此在基板和腔之間設(shè)置連接部件，基板保持平行。在專利文獻(xiàn)3中，在真空容器內(nèi)光學(xué)基準(zhǔn)臺(tái)在力學(xué)上獨(dú)立，裝置內(nèi)的各部件的位置關(guān)系保持一定。
專利文獻(xiàn)1特開2001-239143號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)2特開2001-181821號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)3特開平10-293200號(hào)公報(bào)但是，如上所述在改良槽內(nèi)部的設(shè)備及部件的設(shè)置方向時(shí)，特別是在真空槽和基板圓頂機(jī)械或力學(xué)性地獨(dú)立的構(gòu)造下，其構(gòu)造較為復(fù)雜，存在批量生產(chǎn)性差，成本較高的問題。

發(fā)明內(nèi)容
因此本發(fā)明的目的在于，采用將基板圓頂固定到真空槽的構(gòu)造，另一方面，強(qiáng)化排氣口部構(gòu)造，解決上述課題，提高批量生產(chǎn)性并降低成本。
本發(fā)明的第一方面是，一種真空裝置，由具有排氣口部的真空槽、及與該真空槽底部相對(duì)配置的基板圓頂構(gòu)成，其中，在該排氣口部的內(nèi)部或周邊部配置加強(qiáng)部件。并且，作為加強(qiáng)部件的一個(gè)例子，加強(qiáng)部件是至少一根以上的加強(qiáng)用柱。進(jìn)一步，在該排氣口內(nèi)部設(shè)置隔板，所述隔板防止成膜材料卷入到該排氣口內(nèi)部，該隔板的固定用框起到加強(qiáng)部件的作用。
本發(fā)明的第二方面是，一種真空裝置，由具有排氣口部的真空槽、及與該真空槽底部相對(duì)配置的基板圓頂構(gòu)成，其中，排氣口部的周邊方向的截面形狀上，垂直方向的壁厚大于水平方向的壁厚。并且，截面形狀的一個(gè)例子是在垂直方向上具有二個(gè)平行的側(cè)面。
本發(fā)明的第三方面是，一種光學(xué)薄膜形成用裝置，在具有排氣口部的真空槽內(nèi)部至少具有基板圓頂及蒸發(fā)源，將成膜基板安裝到該基板圓頂上并使之旋轉(zhuǎn)，向與該成膜基板相對(duì)配置的蒸發(fā)源照射電子束，使蒸發(fā)物質(zhì)堆積在該成膜基板上，其中，在排氣口部配置加強(qiáng)部件。
進(jìn)一步，在上述第一至第三方面中，其構(gòu)造是基板圓頂固定在真空槽上。
本發(fā)明的第四側(cè)面是，一種接合具有基板圓頂?shù)恼婵詹酆团艢饪诓康姆椒?，其中，將加?qiáng)部件提前配置在排氣口部的內(nèi)部，接合真空槽的槽壁的一部分上設(shè)置的開口部和該排氣口部。并且，加強(qiáng)部件是至少一根以上的加強(qiáng)用柱。進(jìn)一步，基板圓頂固定在真空槽上。
根據(jù)本發(fā)明，槽內(nèi)部的設(shè)備及部件的設(shè)置方法不會(huì)復(fù)雜化，在僅以強(qiáng)化排氣口部的簡(jiǎn)單構(gòu)造保持真空槽頂板和底板的平行度，可顯著提高附著到基板的薄膜的膜厚分布的再現(xiàn)性。


圖1a是第一實(shí)施例的排氣口的概要圖。
圖1b是第一實(shí)施例的排氣口的分解圖。
圖2是第一實(shí)施例的真空蒸鍍裝置的概要圖。
圖3是第一實(shí)施例的隔板的概要圖。
圖4a是現(xiàn)有的真空槽頂板和底板的角度計(jì)算。
圖4b是本發(fā)明的真空槽頂板和底板的角度計(jì)算。
圖5a是第二實(shí)施例的真空蒸鍍裝置的概要圖。
圖5b是第二實(shí)施例的基板圓頂?shù)凝X輪的概要圖。
圖6a是現(xiàn)有的真空槽主體及排氣口部的概要圖。
圖6b是現(xiàn)有的真空槽主體及排氣口部的分解圖。
圖6c是現(xiàn)有的真空槽主體及排氣口部的接合概要圖。
圖7是基板圓頂?shù)男D(zhuǎn)軸和蒸發(fā)源的垂線的角度比較。
圖8是現(xiàn)有的真空槽主體及排氣口部的焊接的概要圖。
圖9是向真空槽主體及排氣口部施加的外力的概要圖。
圖10是真空槽主體及排氣口部的凸緣部的概要圖。
標(biāo)記說明1真空槽開口2真空槽頂板3真空槽底板4真空槽側(cè)面板5排氣口部6加強(qiáng)柱20主泵支管21現(xiàn)有的排氣口22排氣口隔板23主閥閥板24主泵25粗泵26粗閥27輔助閥28架臺(tái)29真空槽主體
30真空槽門31真空槽頂板32真空槽底板33蒸發(fā)源34擋板35基板圓頂36基板37基板圓頂旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)38膜厚測(cè)量器39蒸鍍材料50排氣口頂板51排氣口底板52排氣口側(cè)面板53基板圓頂?shù)男D(zhuǎn)軸54蒸發(fā)源的垂線55基板a56基板b57焊接部58變形方向59薄片面60襯墊61隔板62隔板框63基板圓頂旋轉(zhuǎn)用馬達(dá)64基板圓頂側(cè)齒輪65馬達(dá)側(cè)齒輪66基板圓頂側(cè)齒輪支持件具體實(shí)施方式
(實(shí)施例1)
圖1a是用于說明本發(fā)明排氣口部的實(shí)施例的概要透視圖，圖1b表示圖1a所示的排氣口部的分解圖。
為簡(jiǎn)化說明，使用圖1所示的排氣口部的真空裝置除了排氣口部21外，與圖2所示的裝置相同，對(duì)和現(xiàn)有裝置相同的賦予相同的標(biāo)記并省略其說明。以下對(duì)于將本發(fā)明的排氣口構(gòu)造搭載到圖2所示的批量式光學(xué)薄膜成膜用的蒸鍍裝置的情況進(jìn)行說明，但可實(shí)施本發(fā)明的真空裝置不限于此。
在圖1中，排氣口部5通過焊接與真空槽主體后方設(shè)置的開口部1接合配置。如圖1b所示，在組裝排氣口部的階段，通過焊接接合加強(qiáng)柱6。加強(qiáng)柱6由在接合時(shí)或真空排氣時(shí)可承受向壓縮排氣口的內(nèi)部空間的方向的力的強(qiáng)度的部件來構(gòu)成即可。在本實(shí)施例中，加強(qiáng)柱6在排氣口內(nèi)部配置二根，為了提高剛性使用截面為100mm×33mm的不銹鋼等，優(yōu)選根據(jù)真空槽的頂板的大小、底板的大小等計(jì)算對(duì)真空槽的壓縮力，以適當(dāng)選擇具有充分耐力的截面積及根數(shù)的柱。柱的位置可適當(dāng)選擇排氣口部的內(nèi)部或周邊部。
進(jìn)一步，在圖1中，如上所述表示了配置柱的方法，但加強(qiáng)部件不限為柱，例如也可提高排氣口側(cè)面板52的厚度來加強(qiáng)排氣口，作為用來取代上述柱的方法。并且，在圖1中排氣口的截面為長(zhǎng)方形，提高面板52的厚度，而只要是垂直方向的厚度大于水平方向的厚度，也可是其他形狀。
通過上述構(gòu)造，在真空槽主體和排氣口部接合時(shí)，例如可防止通過焊接等引起接合部收縮而造成的真空槽的變形。并且，在真空槽排氣時(shí)，可防止真空槽內(nèi)外的氣壓差引起的真空槽的變形。
本發(fā)明著眼于真空槽加工時(shí)及形成真空時(shí)，因真空槽主體的排氣口變形引起真空槽主體變形這一情況，通過加強(qiáng)排氣口部防止真空槽的變形，并提高膜厚分布精度的再現(xiàn)性。并不強(qiáng)化所有槽壁，而僅強(qiáng)化排氣口部，可通過這一簡(jiǎn)單的構(gòu)造來解決課題，因此具有成本較低，并且可對(duì)應(yīng)于所有真空槽的效果。
本發(fā)明的加強(qiáng)柱在進(jìn)行真空成膜動(dòng)作時(shí)，也可作為排氣口隔板的固定框使用。例如在圖1所示的情況下，加強(qiáng)柱6可兼用作圖2的排氣口隔板22的安裝框。
圖3表示一般的排氣口隔板的構(gòu)造。用于防止成膜材料卷入到排氣口內(nèi)部的隔板61安裝在隔板框62上，并配置在排氣口內(nèi)部。取代該隔板框62而使用本發(fā)明的加強(qiáng)柱，則可形成具有強(qiáng)度的框，且可防止真空槽的變形。通過上述構(gòu)造，本發(fā)明加強(qiáng)部件可作為隔板的固定框使用，從而可簡(jiǎn)化裝置構(gòu)造，并有效利用排氣口的內(nèi)部空間。
接著對(duì)本實(shí)施方式所示的真空蒸鍍裝置的動(dòng)作進(jìn)行說明。
在使用本發(fā)明的排氣口的真空蒸鍍裝置中，如上所述，放入基板、蒸鍍材料，使真空槽內(nèi)為真空狀態(tài)，進(jìn)行蒸鍍動(dòng)作。為了高精度地形成薄膜，必須提高真空槽頂板和真空槽底板的平行度。
因此，具體測(cè)量使用本發(fā)明的排氣口和現(xiàn)有的排氣口時(shí)的真空槽頂板和真空槽底板的平行度，通過計(jì)算來進(jìn)行比較。
圖4a表示接合了現(xiàn)有的排氣口時(shí)的真空槽主體。h1及h2的長(zhǎng)度為1801mm、1796mm。并且，d的長(zhǎng)度為925mm。根據(jù)tanθ＝(h1-h2)/d，真空槽頂板和真空槽底板的角度θ求得為0.31°。
圖4b表示接合了本發(fā)明的排氣口時(shí)的真空槽主體。h1及h2的長(zhǎng)度為1401mm、1399mm。并且，d的長(zhǎng)度為925mm。根據(jù)tanθ＝(h1-h2)/d，真空槽頂板和真空槽底板的角度θ求得為0.12°。
如上例所示，在縱深d＝925的真空槽中，在使用現(xiàn)有的排氣口時(shí)在h1和h2的差較大時(shí)為5mm左右，在使用本發(fā)明的排氣口時(shí)，即使h1和h2的差較大也可抑制為2mm以下。即，可使真空槽的頂板和底板的角度抑制在0.15°以下。并且，在使用本發(fā)明的排氣口時(shí)，h1和h2的差的幅度為0～2mm，與之相對(duì)，在使用現(xiàn)有的排氣口時(shí)為0～5mm，因此即使在預(yù)估焊接時(shí)收縮長(zhǎng)度，提前使h2相對(duì)h1的長(zhǎng)度設(shè)計(jì)得較大，由于收縮長(zhǎng)度各不相同，因此也無法實(shí)現(xiàn)，并且無法抑制形成真空時(shí)的真空槽的變形。因此在使用本發(fā)明的排氣口時(shí)，在真空槽加工時(shí)及形成真空時(shí)均可獲得抑制變形的效果。
如上所述，與使用現(xiàn)有的排氣口時(shí)相比，在使用本發(fā)明的排氣口時(shí)，真空槽頂板和真空槽底板之間的角度較小，因此可明顯提高成膜的再現(xiàn)性。
(實(shí)施例2)在上述實(shí)施例中，對(duì)將基板圓頂?shù)男D(zhuǎn)機(jī)構(gòu)配置在真空槽的頂板上的情況進(jìn)行了說明，但如圖5a所示，將基板圓頂?shù)男D(zhuǎn)機(jī)構(gòu)配置到真空槽的側(cè)面板的情況下，本發(fā)明的排氣口構(gòu)造也是有效的。圖5a所示的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)是基板旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)配置在真空槽主體29的側(cè)面的真空蒸鍍裝置的例子。
基板圓頂35配置在基板圓頂側(cè)齒輪64上，基板圓頂旋轉(zhuǎn)用馬達(dá)63的旋轉(zhuǎn)通過馬達(dá)側(cè)齒輪65傳送。
圖5b是基板圓頂側(cè)齒輪64和馬達(dá)側(cè)齒輪65的俯視圖。基板圓頂側(cè)齒輪64的中心部是空洞的，以在從蒸發(fā)源33飛濺的蒸鍍材料39附著到基板36時(shí)不成為遮擋。
在圖5a的裝置中，其他構(gòu)造和圖2相同。在該真空蒸鍍裝置中，與圖2的真空蒸鍍裝置一樣，當(dāng)真空槽頂板31和真空槽底板32的平行度因強(qiáng)度不足無法保持時(shí)，保持基板圓頂側(cè)齒輪64的基板圓頂側(cè)齒輪支持件66傾斜，因此基板圓頂35和蒸發(fā)源的垂線54的角度不一致。因此本發(fā)明只要將基板圓頂旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)設(shè)置在真空槽主體29上就是有效的。
并且不限于將成膜材料安裝到真空槽的底板上的情況，在安裝到真空槽的側(cè)面板上時(shí)，本發(fā)明的排氣口構(gòu)造也是有效的。
在上述實(shí)施例中對(duì)利用蒸鍍法的成膜進(jìn)行了說明，可實(shí)施本發(fā)明裝置及方法的成膜方法不限于蒸鍍法，還可以包括測(cè)射法、離子噴鍍法等多種方法。
權(quán)利要求
1.一種真空裝置，由具有排氣口部的真空槽、及與該真空槽底部相對(duì)配置的基板圓頂構(gòu)成，其特征在于，在該排氣口部的內(nèi)部或周邊部配置加強(qiáng)部件。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空裝置，其特征在于，所述加強(qiáng)部件是至少一根以上的加強(qiáng)用柱。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空裝置，其特征在于，在該排氣口內(nèi)部設(shè)置隔板，所述隔板防止成膜材料卷入到該排氣口內(nèi)部，所述加強(qiáng)部件是該隔板的固定用框。
4.一種真空裝置，由具有排氣口部的真空槽、及與該真空槽底部相對(duì)配置的基板圓頂構(gòu)成，其特征在于，該排氣口部的周邊方向的截面形狀是垂直方向的壁厚大于水平方向的壁厚的截面形狀。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的真空裝置，其特征在于，該截面形狀在垂直方向上具有二個(gè)平行的側(cè)面。
6.一種光學(xué)薄膜形成用裝置，在具有排氣口部的真空槽內(nèi)部至少具有基板圓頂及蒸發(fā)源，將成膜基板安裝到該基板圓頂上并使之旋轉(zhuǎn)，向與該成膜基板相對(duì)配置的蒸發(fā)源照射電子束，使蒸發(fā)物質(zhì)堆積在該成膜基板上，其特征在于，在該排氣口部配置加強(qiáng)部件。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至6的任意一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，所述基板圓頂固定在所述真空槽上。
8.一種接合具有基板圓頂?shù)恼婵詹酆团艢饪诓康姆椒?，其特征在于，將加?qiáng)部件提前配置在該排氣口部的內(nèi)部，接合該真空槽的槽壁的一部分上設(shè)置的開口部和該排氣口部。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，所述加強(qiáng)部件是至少一根以上的加強(qiáng)用柱。
10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的方法，其特征在于，所述基板圓頂固定在所述真空槽上。
全文摘要
抑制因真空排氣或加工精度引起的真空槽的變形，使槽內(nèi)部配置的設(shè)備及部件的位置關(guān)系保持一定，其中，在由具有排氣口部的真空槽及與真空槽底部相對(duì)配置的基板圓頂構(gòu)成的真空裝置中，在排氣口部的內(nèi)部或周邊部配置加強(qiáng)部件。
文檔編號(hào)C23C14/24GK1973058SQ20058001304
公開日2007年5月30日 申請(qǐng)日期2005年1月24日 優(yōu)先權(quán)日2004年5月10日
發(fā)明者瀧本昌行, 小室弘之, 阿部辰彌, 布施豐, 青名端一仁 申請(qǐng)人:株式會(huì)社昭和真空