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拋光模面形修改裝置制造方法

文檔序號:27223閱讀:390來源:國知局
專利名稱:拋光模面形修改裝置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種拋光模面形修改裝置,屬于光學(xué)元件加工【技術(shù)領(lǐng)域】。它包括支撐柱、支持架、導(dǎo)軌和驅(qū)動電機(jī),導(dǎo)軌兩端由支撐柱和支持架支撐并與其連接;還包括平移裝置、施壓裝置和修改盤;平移裝置由滑槽固定在導(dǎo)軌上,平移裝置由驅(qū)動電機(jī)驅(qū)動;平移裝置和支撐柱之間設(shè)有限位桿;施壓裝置經(jīng)平移裝置與導(dǎo)軌連接,施壓裝置下部經(jīng)傳壓桿與修改盤連接,修改盤與傳壓桿之間設(shè)有水平度調(diào)整裝置,其由凹槽和其中嵌入的活動輪構(gòu)成。本實(shí)用新型解決了拋光模面形壓力不均勻的問題,實(shí)現(xiàn)了對拋光模面形的高精度修改,減少了環(huán)拋加工中的不確定因素,可對加工元件面形進(jìn)行有效的控制,提升加工元件的加工質(zhì)量和精度,并提高加工的效率,實(shí)現(xiàn)了局部定點(diǎn)修改面形。
【專利說明】拋光模面形修改裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及光學(xué)元件環(huán)拋加工輔助裝置,尤其是環(huán)拋機(jī)拋光模面形修改,屬于光學(xué)元件加工【技術(shù)領(lǐng)域】。

【背景技術(shù)】
[0002]目前,在光學(xué)拋光過程中,無論從機(jī)械磨削理論還是從化學(xué)拋光理論的觀點(diǎn)來看,拋光模均起著重要的作用。拋光模不僅能夠承載拋光液,保證拋光液對元件的微切削作用及化學(xué)作用,而且最重要的是修正元件的面形,使元件達(dá)到高精度。因此,拋光模本身的面形對加工元件的面形有著直接的影響。
[0003]常用的拋光模有柏油拋光模,聚氨酯拋光模等。對于柏油拋光模的修正通常是靠一個比柏油拋光模環(huán)帶大且重量較大的修正盤完成。依靠大而重的修正盤對柏油拋光模的擠壓,從而改變柏油拋光模的形狀。這種修正盤的尺寸及重量通??拷?jīng)驗(yàn)選取,一旦選定無法改變,對拋光模的修正能力有限,無法對拋光模的局部區(qū)域進(jìn)行精密修正,修正效率低且修正過程嚴(yán)重依賴加工人員的判斷。而對于聚氨酯拋光模而言,通常采用金剛石修正器修正拋光模面形,通過對拋光模的磨削去除使拋光模達(dá)到特定的形狀,同樣無法對拋光模的局部誤差進(jìn)行修正,且元件的加工精度不及柏油拋光模所加工的元件精度。對于柏油拋光模及聚氨酯拋光模來說,一般整體面形可通過目前的拋光模修正裝置修正到不錯的精度,但對于拋光模局部誤差缺乏有效地修正措施。
[0004]目前可查的文獻(xiàn)報道和專利中,可見通過卸荷等方式減輕修正盤重量的報道,未見通過局部加壓方式對拋光模進(jìn)行修正的報道。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0005]針對上述不問題,本實(shí)用新型提供一種可以小范圍快速處理環(huán)拋機(jī)拋光模面形的
>J-U ρ?α裝直。
[0006]本實(shí)用新型解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是:拋光模面形修改裝置,包括支撐柱、支持架、導(dǎo)軌和驅(qū)動電機(jī),導(dǎo)軌兩端由支撐柱和支持架支撐并與其連接;還包括平移裝置、施壓裝置和修改盤;平移裝置由滑槽固定在導(dǎo)軌上,平移裝置由驅(qū)動電機(jī)驅(qū)動;平移裝置和支撐柱之間設(shè)有限位桿;施壓裝置經(jīng)平移裝置與導(dǎo)軌連接,施壓裝置下部經(jīng)傳壓桿與修改盤連接,修改盤與傳壓桿之間設(shè)有水平度調(diào)整裝置,其由凹槽和其中嵌入的活動輪構(gòu)成。
[0007]本實(shí)用新型的有益效果是,施壓裝置可主動對拋光模施加壓力,設(shè)計(jì)并采用了一種可變向的修改盤,且修改盤直徑可變,壓力可控制;解決一般的修改盤無法以主動的方式對拋光模單位面積上施加壓力的問題,同時,修改盤解決了拋光模面形壓力不均勻的問題,并且達(dá)到了局部定點(diǎn)的修改面形,實(shí)現(xiàn)了對拋光模面形的高精度修改,減少了環(huán)拋加工中的不確定因素,可對加工元件面形進(jìn)行有效的控制,提升加工元件的加工質(zhì)量和精度,并提高加工的效率,實(shí)現(xiàn)了局部定點(diǎn)修改面形,避免了拋光模矯正板整體下壓修改面形所帶來的低效率和不確定的結(jié)果。

【附圖說明】

[0008]圖1是本實(shí)用新型總體結(jié)構(gòu)示意圖;
[0009]圖2是圖1中修改盤和傳壓桿結(jié)構(gòu)(放大)示意圖;
[0010]圖3是圖2的正面視圖;
[0011]圖4是圖3的A— A剖面圖。
[0012]圖中零部件及編號:
[0013]圖中零部件以及編號
[0014]I一驅(qū)動電機(jī),2一限位桿,3一修改盤,4一施壓裝置,5一平移裝置,
[0015]6—導(dǎo)軌,7—傳壓桿,8—活動輪,9—修改盤,10一支撐柱,11一支持架。

【具體實(shí)施方式】
[0016]下面結(jié)合實(shí)施例對本實(shí)用新型進(jìn)一步說明。
[0017]參見圖1一4,拋光模面形修改裝置,包括支撐柱10、支持架11、導(dǎo)軌6和驅(qū)動電機(jī)1,導(dǎo)軌6兩端由支撐柱10和支持架11支撐并與其連接;還包括平移裝置5、施壓裝置4和修改盤3 ;平移裝置5由滑槽固定在導(dǎo)軌6上,平移裝置5由驅(qū)動電機(jī)I驅(qū)動;平移裝置5和支撐柱10之間設(shè)有限位桿2 ;施壓裝置4經(jīng)平移裝置5與導(dǎo)軌6連接,施壓裝置4下部經(jīng)傳壓桿7與修改盤3連接,修改盤3與傳壓桿7之間設(shè)有水平度調(diào)整裝置,其由凹槽9和其中嵌入的活動輪8構(gòu)成。
[0018]修改盤3的直徑小于拋光模環(huán)帶的寬度。修改盤3的直徑可調(diào)整,可主動壓載在拋光模上,可對拋光模單位面積上施加壓力,具有自由度調(diào)整的功能;并且修改盤3能隨拋光模的轉(zhuǎn)動而轉(zhuǎn)動。
[0019]施壓裝置4為氣動液壓裝置。對修改盤3進(jìn)行垂直方向上的施壓作用。施壓裝置4將壓力傳動至修改盤3,施壓裝置4與修改盤3被固定于平移裝置5上,隨平移裝置5可在導(dǎo)軌6的范圍內(nèi)移動。施壓裝置4可轉(zhuǎn)動,并且可帶動修改盤3轉(zhuǎn)動。
[0020]修改盤3材料為聚四氟乙烯。聚四氟乙烯為一種十分耐磨且極難變形的材料,且在磨損過程中不會產(chǎn)生污染。
[0021]導(dǎo)軌6的材料為鋁型材。
[0022]平移裝置5是由驅(qū)動電機(jī)I進(jìn)行移動的。
[0023]施壓裝置4與修改盤3經(jīng)平移裝置5與導(dǎo)軌6連接,平移裝置(由滑槽固定在導(dǎo)軌6上,平移裝置5保持垂直方向上的固定,且只能在徑向上運(yùn)動。導(dǎo)軌6由支撐柱10、支持架11兩端支撐;修改盤3具有傳壓桿7、活動輪8,修改盤3為一個凹型結(jié)構(gòu),傳壓桿7上端連接在施壓裝置4上,傳壓桿7下端為與壓力盤3內(nèi)底部的松配合,活動輪8置于傳壓桿7與修改盤3之間的凹槽9中,通過活動輪8的作用,使修改盤3在傳壓桿7的壓力作用下,可以在垂直方向上有一定起伏和變形,從而達(dá)到對拋光模均勻施力的作用,傳壓桿7、活動輪8和修改盤3構(gòu)成施壓裝置4的主體。
[0024]驅(qū)動電機(jī)I為精密電機(jī)。通過精密電機(jī)驅(qū)動本裝置主體作徑向位移。
[0025]傳壓桿7與修改盤3之間形成松配合,使修改盤3在受壓過程中只在垂直方向上的具有一定的移動自由度。
[0026]拋光模面形修改裝置的工作步驟是:
[0027]A.確定需要修改的拋光模表面區(qū)域(主要是以高出平均高度的區(qū)域作為需要修改的區(qū)域),得到拋光模R半徑位置,啟動拋光設(shè)備,拋光模旋轉(zhuǎn);
[0028]B.驅(qū)動電機(jī)驅(qū)動平移裝置徑向移動到拋光模R半徑位置并等待指令;
[0029]C.讀取計(jì)算機(jī)平臺里面的起伏量H與變形面積S并對修改所需的壓力值F進(jìn)行估算,最后對施壓裝置發(fā)出指令;
[0030]D.施壓裝置開始施壓,作用于傳壓桿,從而作用于修改盤,開始修改面形;
[0031]E.拋光模旋轉(zhuǎn)至修改盤不再覆蓋于變形面積S時,施壓裝置減壓并提升修改盤,使之下表面脫離于拋光模表面;
[0032]F.拋光模再次旋轉(zhuǎn)至修改盤下表面可覆蓋于變形面積S時,施壓裝置增壓并下降修改盤,使下表面緊貼于拋光模表面;
[0033]G.依照以上方式完成對拋光模表面上所有的變形面積S的修改,完成拋光模面形修改,反饋計(jì)算機(jī)平臺。
【權(quán)利要求】
1.一種拋光模面形修改裝置,包括支撐柱(10)、支持架(11 )、導(dǎo)軌(6)和驅(qū)動電機(jī)(I),導(dǎo)軌(6)兩端由支撐柱(10)和支持架(11)支撐并與其連接;其特征在于,還包括平移裝置(5)、施壓裝置(4)和修改盤(3);平移裝置(5)由滑槽固定在導(dǎo)軌(6)上,平移裝置(5)由驅(qū)動電機(jī)(I)驅(qū)動;平移裝置(5 )和支撐柱(10 )之間設(shè)有限位桿(2 );施壓裝置(4 )經(jīng)平移裝置(5)與導(dǎo)軌(6)連接,施壓裝置(4)下部經(jīng)傳壓桿(7)與修改盤(3)連接,修改盤(3)與傳壓桿(7)之間設(shè)有水平度調(diào)整裝置,其由凹槽(9)和其中嵌入的活動輪(8)構(gòu)成。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光模面形修改裝置,其特征在于,所述的修改盤(3)的直徑小于拋光模環(huán)帶的寬度。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光模面形修改裝置,其特征在于,所述的施壓裝置(4)為氣動液壓裝置。
【文檔編號】B24B13-01GK204277692SQ201420707533
【發(fā)明者】馬平, 游云峰, 謝磊 [申請人]成都精密光學(xué)工程研究中心
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