專(zhuān)利名稱(chēng)：一種工件表層納米陶瓷薄膜制備裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及陶瓷薄膜制備裝置，具體是一種工件表層納米陶瓷薄膜制備裝置。
本實(shí)用新型解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是這樣的即一種工件表層納米陶瓷薄膜制備裝置，包括機(jī)架、機(jī)架上部設(shè)置的真空反應(yīng)室、射頻電源、真空泵組、升降機(jī)構(gòu)、帶有質(zhì)量流量計(jì)的氣瓶組及與氣瓶組連接的氣體管路和接在氣路中的電磁閥；其特征在于真空反應(yīng)室的頂部具有帶法蘭的罩蓋，罩蓋的頂部與升降機(jī)構(gòu)的提升端連接；罩蓋內(nèi)具有帶升降機(jī)構(gòu)的陽(yáng)極板，其極端通過(guò)導(dǎo)線接射頻電源，陽(yáng)極板的下面設(shè)置有帶小孔的分流管外接氣體管路；真空反應(yīng)室的底部安裝有由加熱板支撐的電熱絲，加熱板上面由絕緣座支撐有溫度緩沖板，由其支撐加工工件極板，其極端通過(guò)導(dǎo)線接射頻電源；在機(jī)架內(nèi)具有充氣閥和真空規(guī)管分別與真空反應(yīng)室底部連接；真空反應(yīng)室底部由帶蝶閥的抽氣管外接出機(jī)架與真空泵組連接。
本實(shí)用新型由于所述結(jié)構(gòu)而具有以下的優(yōu)點(diǎn)1、真空反應(yīng)室的空間大，其內(nèi)徑為900mm～2500mm，加工高度為200mm～1500mm，滿足小工件的大批量加工及大型工件的加工；2、設(shè)置有加熱板、加熱絲、溫度緩沖板及溫度傳感器，與高精度的PID溫度控制系統(tǒng)相配合，精確控制溫度，增強(qiáng)了工件表層的活性，縮短了加工時(shí)間，提高了裝置的生產(chǎn)效率，降低了加工成本；3、真空系統(tǒng)設(shè)置在機(jī)架外，真空泵組與蝶閥單獨(dú)成一體系，操作簡(jiǎn)單，故障率低，維修容易；4、設(shè)置有帶升降陽(yáng)極板，連續(xù)可調(diào)，使加工工件質(zhì)量穩(wěn)定，重復(fù)性好；5、設(shè)置有帶小孔的氣體分流管，在工作氣體形成等離子后，均勻地滲入工件，保證了加工工件的均勻性；6、在氣體管路上設(shè)置有電磁閥，當(dāng)發(fā)生意外時(shí)，能夠及時(shí)地關(guān)閉工作氣體，避免危險(xiǎn)發(fā)生；
7、設(shè)置有氣柜，氣瓶設(shè)置在氣柜內(nèi)，當(dāng)氣瓶發(fā)生泄漏時(shí)，排風(fēng)系統(tǒng)將泄漏氣體排到室外，從而保證了操作人員的人身安全。與高精度的操作控制系統(tǒng)配合使用，用于制備具有優(yōu)良力學(xué)性能及催化性能的各種新型納米陶瓷薄膜材料。
附圖
中1、氣柜；2、氣瓶；3、質(zhì)量流量計(jì)；4、電磁閥；5、氣體管路；6、射頻電源；7、機(jī)架；8、真空反應(yīng)室；9、帶法蘭盤(pán)帶底板的圓筒；10、帶發(fā)蘭盤(pán)的罩蓋；11、升降機(jī)構(gòu)；12、充氣閥；13、真空規(guī)管；14、加熱板；15、加熱絲；16、絕緣座；17、溫度緩沖板；18、加工工件極板；19、帶螺旋升降的極板；20、氣體分流管；21、溫度傳感器；22、蝶閥；23、抽氣管路；24、真空泵組。
權(quán)利要求1.一種工件表層納米陶瓷薄膜制備裝置，包括機(jī)架、機(jī)架上部設(shè)置的真空反應(yīng)室、射頻電源、真空泵組、升降機(jī)構(gòu)、帶有質(zhì)量流量計(jì)的氣瓶組及與氣瓶組連接的氣體管路和接在氣路中的電磁閥；其特征在于真空反應(yīng)室的頂部具有帶法蘭的罩蓋，罩蓋的頂部與升降機(jī)構(gòu)的提升端連接；罩蓋內(nèi)具有帶升降機(jī)構(gòu)的陽(yáng)極板，其極端通過(guò)導(dǎo)線接射頻電源，陽(yáng)極板的下面設(shè)置有帶小孔的分流管外接氣體管路；真空反應(yīng)室的底部安裝有由加熱板支撐的電熱絲，加熱板上面由絕緣座支撐有溫度緩沖板，由其支撐加工工件極板，其極端通過(guò)導(dǎo)線接射頻電源；在機(jī)架內(nèi)具有充氣閥和真空規(guī)管分別與真空反應(yīng)室底部連接；真空反應(yīng)室底部由帶蝶閥的抽氣管外接出機(jī)架與真空泵組連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工件表層納米陶瓷薄膜制備裝置，其特征在于陽(yáng)極板(19)的頂部固定有螺桿或螺套與罩蓋(10)內(nèi)頂?shù)穆萏谆蚵輻U配合構(gòu)成陽(yáng)極板螺旋升降機(jī)構(gòu)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工件表層納米陶瓷薄膜制備裝置，其特征在于在真空反應(yīng)室筒壁上設(shè)置有溫度傳感器(21)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工件表層納米陶瓷薄膜制備裝置，其特征在于氣瓶組(2)設(shè)置在氣柜(1)內(nèi)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工件表層納米陶瓷薄膜制備裝置，其特征在于氣體分流管(20)為螺旋環(huán)狀。
專(zhuān)利摘要一種工件表層納米陶瓷薄膜制備裝置，其特征是真空反應(yīng)室的頂部具有帶法蘭的罩蓋，罩蓋的頂部與升降機(jī)構(gòu)的提升端連接；罩蓋內(nèi)具有帶升降機(jī)構(gòu)的陽(yáng)極板，其極端通過(guò)導(dǎo)線接射頻電源，陽(yáng)極板的下面設(shè)置有帶小孔的分流管外接氣體管路；真空反應(yīng)室的底部安裝有由加熱板支撐的電熱絲，加熱板上面由絕緣座支撐有溫度緩沖板，由其支撐加工工件極板，其極端通過(guò)導(dǎo)線接射頻電源；在機(jī)架內(nèi)具有充氣閥和真空規(guī)管分別與真空反應(yīng)室底部連接；真空反應(yīng)室底部由帶蝶閥的抽氣管外接出機(jī)架與真空泵組連接。具有真空反應(yīng)室空間大，設(shè)置有加熱機(jī)構(gòu)、真空泵組設(shè)置在機(jī)架外，設(shè)置有可升降陽(yáng)極板，設(shè)置氣體分流管，在氣體管路上設(shè)置有電磁閥，氣瓶設(shè)置在氣柜內(nèi)等特點(diǎn)。
文檔編號(hào)C23C16/513GK2587886SQ0224511
公開(kāi)日2003年11月26日 申請(qǐng)日期2002年12月10日 優(yōu)先權(quán)日2002年12月10日
發(fā)明者賈文峰, 梅國(guó)蘋(píng), 羅雄超 申請(qǐng)人:賈文峰