一種用于電感器焊錫工藝過(guò)程的帶溝槽翻轉(zhuǎn)工裝的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及電感器輔助工具技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種用于電感器焊錫工藝過(guò)程的帶溝槽翻轉(zhuǎn)工裝。
【背景技術(shù)】
[0002]電感器是能夠?qū)㈦娔苻D(zhuǎn)化為磁能而儲(chǔ)存起來(lái)的元件。電感器的結(jié)構(gòu)包括基座1、圓形磁芯2和繞組3。如圖1所示，繞組3纏繞于圓形磁芯2后嵌入基座I進(jìn)行封裝。繞組3一般為漆包線。
[0003]焊錫是電感器制造工藝中的一道工序，一般需要將多個(gè)電感器排列在焊錫工裝上同時(shí)進(jìn)行焊錫操作。焊錫工裝上，電感器是管腳朝上放置的，然而在之前的工序中不一定已經(jīng)將電感器按照管腳朝上的方式排布好，需要一個(gè)一個(gè)地將電感器從管腳朝下的形態(tài)翻轉(zhuǎn)為管腳朝上的形態(tài)。如果逐一進(jìn)行手動(dòng)翻轉(zhuǎn)，其過(guò)程十分費(fèi)時(shí)，從而影響整個(gè)工藝的消耗時(shí)間。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0004]有鑒于此，本實(shí)用新型提供了一種用于電感器焊錫工藝過(guò)程的帶溝槽翻轉(zhuǎn)工裝，能夠一次性翻轉(zhuǎn)多個(gè)電感器，從而避免逐一手動(dòng)翻轉(zhuǎn)帶來(lái)的各種弊端，而且翻轉(zhuǎn)成功率高。
[0005]為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型采用如下方案實(shí)現(xiàn):
[0006]一種用于電感器焊錫工藝過(guò)程的帶溝槽翻轉(zhuǎn)工裝，該翻轉(zhuǎn)工裝包括長(zhǎng)條形的底座和長(zhǎng)條形的待敷磁基體和磁片，待敷磁基體短于底座；待敷磁基體固定在底座上表面中央，底座兩端作為手持部；
[0007]待敷磁基體的上端面開有長(zhǎng)條形凹槽，根據(jù)一次所需翻轉(zhuǎn)的電感器數(shù)量設(shè)計(jì)長(zhǎng)條形凹槽的長(zhǎng)度；
[0008]凹槽底面和兩內(nèi)側(cè)面鋪設(shè)或鑲嵌磁片，形成槽型吸附腔；所述槽型吸附腔的寬度比電感器上已纏繞繞組的圓形磁芯外徑大0.8?1.2mm，所述槽型吸附腔的深度大于電感器上已纏繞繞組的圓形磁芯厚度。
[0009]優(yōu)選地，所述磁片為軟磁鐵或磁鋼。
[0010]優(yōu)選地，在所述槽型吸附腔的內(nèi)壁覆蓋一層表面光滑的薄膜。
[0011]優(yōu)選地，薄膜以包裹形式覆蓋槽型吸附腔內(nèi)壁、待敷磁基體上表面和外側(cè)面。
[0012]所述薄膜采用膠帶。
[0013]有益效果:
[0014](I)本實(shí)用新型提供的翻轉(zhuǎn)工裝，能夠一次性翻轉(zhuǎn)多個(gè)電感器，從而避免逐一手動(dòng)翻轉(zhuǎn)帶來(lái)的各種弊端。而且溝槽的設(shè)計(jì)可以提高翻轉(zhuǎn)成功率，并且減少對(duì)電感器繞組的摩擦。
[0015](2)在槽型吸附腔的內(nèi)壁覆蓋一層表面光滑的薄膜，這樣可以減少磁片表面對(duì)電感器中纏繞在磁芯上的繞組的摩擦，保護(hù)比較脆弱的繞組。
[0016](3)薄膜可以包裹槽型吸附腔內(nèi)壁、待敷磁基體上表面和外側(cè)面，從而實(shí)現(xiàn)全方位保護(hù)，以避免邊角對(duì)磁芯上的繞組的摩擦。
【附圖說(shuō)明】
[0017]圖1為電感器的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0018]圖2為本實(shí)用新型翻轉(zhuǎn)工裝的正視圖。
[0019]圖3為本實(shí)用新型翻轉(zhuǎn)工裝的側(cè)視圖。
[0020]其中，1-基座，2-圓形磁芯，3-繞組，101-底座，102-待敷磁基體，103-磁片。
【具體實(shí)施方式】
[0021]下面結(jié)合附圖并舉實(shí)施例，對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)描述。
[0022]本實(shí)用新型提供了一種用于電感器焊錫工藝過(guò)程的帶溝槽翻轉(zhuǎn)工裝，如圖2所示，該翻轉(zhuǎn)工裝包括長(zhǎng)條形的底座101、長(zhǎng)條形的待敷磁基體102和磁片103，待敷磁基體102短于底座101 ;待敷磁基體102固定在底座101上表面中央，底座101兩端作為手持部。
[0023]待敷磁基體102的上端面開有長(zhǎng)條形凹槽，根據(jù)一次所需翻轉(zhuǎn)的電感器數(shù)量設(shè)計(jì)長(zhǎng)條形凹槽的長(zhǎng)度。如圖3所示，長(zhǎng)條形凹槽的底面和兩內(nèi)側(cè)面鋪設(shè)或鑲嵌磁片103，形成槽型吸附腔。磁片103可以采用軟磁鐵或磁鋼。
[0024]槽型吸附腔的寬度比電感器上已纏繞繞組的圓形磁芯外徑大0.8?1.2mm，從而可以有更多的空間容納圓形磁芯，即便電感器位置有一些偏移也可以被吸入槽型吸附腔內(nèi)。槽型吸附腔的深度大于電感器上已纏繞繞組的圓形磁芯厚度，從而避免圓形磁芯與槽型吸附腔底面接觸，保護(hù)纏繞在磁芯上的比較脆弱的繞組。
[0025]該翻轉(zhuǎn)工裝結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，能夠一次性翻轉(zhuǎn)多個(gè)電感器，從而避免逐一手動(dòng)翻轉(zhuǎn)帶來(lái)的各種弊端。而且溝槽的設(shè)計(jì)可以提高翻轉(zhuǎn)成功率。
[0026]為了進(jìn)一步減少磁片表面對(duì)電感器中纏繞在磁芯上的繞組的摩擦，可以在槽型吸附腔的內(nèi)壁覆蓋一層表面光滑的薄膜(圖中未示出)，例如工廠中比較容易獲得的膠帶。薄膜可以包裹槽型吸附腔內(nèi)壁、待敷磁基體上表面和外側(cè)面，從而進(jìn)行全方位保護(hù)，以避免邊角對(duì)磁芯上的繞組的摩擦。
[0027]使用時(shí)，在之前的工序中若干電感器被并列排布為一排，且為了防止圓形磁芯上纏繞的繞組受到損害，圓形磁芯均面朝上放置，此時(shí)將本翻轉(zhuǎn)工裝的槽型吸附腔面向圓形磁芯，同時(shí)吸附一排電感器，然后通過(guò)手動(dòng)旋轉(zhuǎn)底座上電感器翻轉(zhuǎn)為管腳朝上，從而完成了本工序的翻轉(zhuǎn)。
[0028]綜上所述，以上僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，并非用于限定本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種用于電感器焊錫工藝過(guò)程的帶溝槽翻轉(zhuǎn)工裝，其特征在于，該翻轉(zhuǎn)工裝包括長(zhǎng)條形的底座(101)和長(zhǎng)條形的待敷磁基體(102)和磁片(103)，待敷磁基體(102)短于底座(101);待敷磁基體(102)固定在底座(101)上表面中央，底座(101)兩端作為手持部； 待敷磁基體(102)的上端面開有長(zhǎng)條形凹槽，根據(jù)一次所需翻轉(zhuǎn)的電感器數(shù)量設(shè)計(jì)長(zhǎng)條形凹槽的長(zhǎng)度； 長(zhǎng)條形凹槽底面和兩內(nèi)側(cè)面鋪設(shè)或鑲嵌磁片(103)，形成槽型吸附腔；所述槽型吸附腔的寬度比電感器上已纏繞繞組的圓形磁芯外徑大0.8?1.2mm，所述槽型吸附腔的深度大于電感器上已纏繞繞組的圓形磁芯厚度。
2.如權(quán)利要求1所述的翻轉(zhuǎn)工裝，其特征在于，所述磁片(103)為軟磁鐵或磁鋼。
3.如權(quán)利要求1所述的翻轉(zhuǎn)工裝，其特征在于，在所述槽型吸附腔的內(nèi)壁覆蓋一層表面光滑的薄膜。
4.如權(quán)利要求3所述的翻轉(zhuǎn)工裝，其特征在于，薄膜以包裹形式覆蓋槽型吸附腔內(nèi)壁、待敷磁基體上表面和外側(cè)面。
5.如權(quán)利要求3或4所述的翻轉(zhuǎn)工裝，其特征在于，所述薄膜采用膠帶。
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種用于電感器焊錫工藝過(guò)程的帶溝槽翻轉(zhuǎn)工裝，該翻轉(zhuǎn)工裝包括長(zhǎng)條形的底座和長(zhǎng)條形的待敷磁基體和磁片，待敷磁基體短于底座；待敷磁基體固定在底座上表面中央，底座兩端作為手持部；待敷磁基體的上端面開有長(zhǎng)條形凹槽，根據(jù)一次所需翻轉(zhuǎn)的電感器數(shù)量設(shè)計(jì)長(zhǎng)條形凹槽的長(zhǎng)度；凹槽底面和兩內(nèi)側(cè)面鋪設(shè)或鑲嵌磁片，形成槽型吸附腔。該翻轉(zhuǎn)工裝能夠一次性翻轉(zhuǎn)多個(gè)電感器，從而避免逐一手動(dòng)翻轉(zhuǎn)帶來(lái)的各種弊端。而且溝槽的設(shè)計(jì)可以提高翻轉(zhuǎn)成功率，并且減少對(duì)電感器繞組的摩擦。
【IPC分類】B23K3-08
【公開號(hào)】CN204321358
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201420811561
【發(fā)明人】晉家貴, 鄭應(yīng)華, 李軍飛
【申請(qǐng)人】貴陽(yáng)高新金達(dá)電子科技有限公司
【公開日】2015年5月13日
【申請(qǐng)日】2014年12月19日