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工作平臺(tái)和激光加工設(shè)備的制作方法

文檔序號(hào):40638826發(fā)布日期:2025-01-10 18:44閱讀:2來(lái)源:國(guó)知局
工作平臺(tái)和激光加工設(shè)備的制作方法

本技術(shù)涉及工作臺(tái),特別涉及一種工作平臺(tái)和激光加工設(shè)備。


背景技術(shù):

1、在精密工程和制造業(yè)中,對(duì)于大型工作平臺(tái)的平面度要求極為嚴(yán)格。這些應(yīng)用場(chǎng)合要求工作臺(tái)所使用的材料具備優(yōu)良的均勻性和高穩(wěn)定性,以確保工作平臺(tái)的整個(gè)工作面的平整度符合高精度標(biāo)準(zhǔn)。然而,由于現(xiàn)有加工機(jī)器的尺寸限制,大型平面的加工成為一個(gè)技術(shù)難題,而且很難找到能夠承接此類(lèi)加工任務(wù)的制造商。


技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本實(shí)用新型的主要目的是提出一種工作平臺(tái)和激光加工設(shè)備,旨在降低工作平臺(tái)的平面制造難度。

2、為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型提出的工作平臺(tái),包括基座和設(shè)于基座的至少兩個(gè)子平臺(tái),所述子平臺(tái)包括:

3、平臺(tái)本體,至少兩個(gè)所述平臺(tái)本體的上表面拼接構(gòu)成一個(gè)工作面;和

4、調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu),所述調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)設(shè)于所述平臺(tái)本體的下方并連接所述基座,所述調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)能夠調(diào)節(jié)所述平臺(tái)本體的相對(duì)所述基座的高度位置。

5、在一實(shí)施方式中,所述調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)設(shè)有至少三個(gè),至少三個(gè)所述調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)間隔分布在所述平臺(tái)本體的下表面。

6、在一實(shí)施方式中,所述調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)包括安裝板和下限位組件,所述安裝板設(shè)于所述基座,所述下限位組件包括活動(dòng)設(shè)于所述安裝板的上調(diào)件,所述上調(diào)件的上端連接所述平臺(tái)本體,并能夠限制所述平臺(tái)本體的向下位移。

7、在一實(shí)施方式中,所述上調(diào)件配置為絲桿,所述下限位組件還包括設(shè)于所述安裝板的螺母座,所述絲桿的上端螺紋穿過(guò)所述螺母座并用于頂升所述平臺(tái)本體。

8、在一實(shí)施方式中,所述下限位組件還包括設(shè)于所述絲桿的上端的推力軸承、及設(shè)于所述平臺(tái)本體的軸承座,所述軸承座套設(shè)于所述推力軸承的周圈,所述推力軸承的上端面抵接在所述平臺(tái)本體的下表面,所述絲桿的上表面與所述平臺(tái)本體的下表面間隔設(shè)置。

9、在一實(shí)施方式中,所述下限位組件還包括設(shè)于所述絲桿的下端的調(diào)節(jié)手輪,所述調(diào)節(jié)手輪的外周面設(shè)有刻度,所述安裝板對(duì)應(yīng)所述刻度設(shè)有指針。

10、在一實(shí)施方式中,所述下限位組件還包括鎖止單元,所述鎖止單元包括設(shè)于所述安裝板的卡箍件、及螺接所述卡箍件的鎖緊件,所述鎖緊件能夠調(diào)節(jié)所述卡箍件的開(kāi)孔的孔徑,所述絲桿的穿設(shè)在所述開(kāi)孔的部分能夠受所述卡箍件的夾持,以實(shí)現(xiàn)所述絲桿相對(duì)所述安裝板的固定。

11、在一實(shí)施方式中,所述調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)還包括上限位組件,所述上限位組件包括活動(dòng)設(shè)于所述安裝板的下調(diào)件,所述下調(diào)件的上端連接所述平臺(tái)本體,并能夠限制所述平臺(tái)本體的向上位移。

12、在一實(shí)施方式中,所述基座包括承托架,所述安裝板設(shè)于所述承托架的上側(cè),所述上限位組件還包括設(shè)于所述安裝板的下表面的套筒,所述螺母抵接在所述套筒的下端面,并在向下的方向上超出所述承托架的下表面。

13、在一實(shí)施方式中,所述下調(diào)件配置為螺栓,所述上限位組件還包括設(shè)于所述安裝板的螺母,所述螺栓的下端穿過(guò)所述安裝板并與所述螺母螺紋連接。

14、在一實(shí)施方式中,相鄰兩個(gè)所述平臺(tái)本體之間具有配合間隙,所述配合間隙的取值范圍為0.2mm至1mm。

15、在一實(shí)施方式中,所述配合間隙的取值范圍為3mm至10mm,所述工作平臺(tái)還包括嵌設(shè)于所述配合間隙的緩沖墊片。

16、本實(shí)用新型還提出一種激光加工設(shè)備,包括前述的工作平臺(tái)。

17、本實(shí)用新型的技術(shù)方案,通過(guò)將工作平臺(tái)拆分為多個(gè)平臺(tái)本體,且平臺(tái)本體能夠利用調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)實(shí)現(xiàn)其上表面的高度位置調(diào)整,從而使該工作平臺(tái)既能滿(mǎn)足高精度平面度要求,又能適應(yīng)現(xiàn)有加工設(shè)備的尺寸限制,并且整體重量不會(huì)很大。



技術(shù)特征:

1.一種工作平臺(tái),其特征在于,包括基座和設(shè)于所述基座的至少兩個(gè)子平臺(tái),所述子平臺(tái)包括:

2.如權(quán)利要求1所述的工作平臺(tái),其特征在于,所述調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)設(shè)有至少三個(gè),至少三個(gè)所述調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)間隔分布在所述平臺(tái)本體的下表面。

3.如權(quán)利要求2所述的工作平臺(tái),其特征在于,所述調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)包括安裝板和下限位組件,所述安裝板設(shè)于所述基座,所述下限位組件包括活動(dòng)設(shè)于所述安裝板的上調(diào)件,所述上調(diào)件的上端連接所述平臺(tái)本體,并能夠限制所述平臺(tái)本體的向下位移。

4.如權(quán)利要求3所述的工作平臺(tái),其特征在于,所述上調(diào)件配置為絲桿,所述下限位組件還包括設(shè)于所述安裝板的螺母座,所述絲桿的上端螺紋穿過(guò)所述螺母座并用于頂升所述平臺(tái)本體。

5.如權(quán)利要求4所述的工作平臺(tái),其特征在于,所述下限位組件還包括設(shè)于所述絲桿的上端的推力軸承、及設(shè)于所述平臺(tái)本體的軸承座,所述軸承座套設(shè)于所述推力軸承的周圈,所述推力軸承的上端面抵接在所述平臺(tái)本體的下表面,所述絲桿的上表面與所述平臺(tái)本體的下表面間隔設(shè)置;

6.如權(quán)利要求3所述的工作平臺(tái),其特征在于,所述調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)還包括上限位組件,所述上限位組件包括活動(dòng)設(shè)于所述安裝板的下調(diào)件,所述下調(diào)件的上端連接所述平臺(tái)本體,并能夠限制所述平臺(tái)本體的向上位移。

7.如權(quán)利要求6所述的工作平臺(tái),其特征在于,所述下調(diào)件配置為螺栓,所述上限位組件還包括設(shè)于所述安裝板的螺母,所述螺栓的下端穿過(guò)所述安裝板并與所述螺母螺紋連接。

8.如權(quán)利要求7所述的工作平臺(tái),其特征在于,所述基座包括承托架,所述安裝板設(shè)于所述承托架的上側(cè),所述上限位組件還包括設(shè)于所述安裝板的下表面的套筒,所述螺母抵接在所述套筒的下端面,并在向下的方向上超出所述承托架的下表面。

9.如權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的工作平臺(tái),其特征在于,相鄰兩個(gè)所述平臺(tái)本體之間具有配合間隙,所述配合間隙的取值范圍為0.2mm至1mm;

10.一種激光加工設(shè)備,其特征在于,包括如權(quán)利要求1至9中任一項(xiàng)所述的工作平臺(tái)。


技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)公開(kāi)了一種工作平臺(tái)和激光加工設(shè)備,涉及工作臺(tái)技術(shù)領(lǐng)域,其中,工作平臺(tái)包括基座和設(shè)于基座的至少兩個(gè)子平臺(tái),子平臺(tái)包括平臺(tái)本體和調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu),至少兩個(gè)平臺(tái)本體的上表面拼接構(gòu)成一個(gè)工作面;調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)設(shè)于平臺(tái)本體的下方并連接基座,調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)能夠調(diào)節(jié)平臺(tái)本體的相對(duì)基座的高度位置。本技術(shù)提供的技術(shù)方案能夠降低工作平臺(tái)的平面制造難度。

技術(shù)研發(fā)人員:趙盛宇,鄒海天,葉華朋,孫玉芬,吳恒,劉宗明,黃鑫
受保護(hù)的技術(shù)使用者:海目星激光科技集團(tuán)股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日:20240419
技術(shù)公布日:2025/1/9
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