專利名稱：一種銀漿激光蝕刻機(jī)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型屬于激光加工觸摸屏制造領(lǐng)域，具體涉及一種銀漿激光蝕刻機(jī)，用于在導(dǎo)電膜、導(dǎo)電玻璃上的銀漿線路上蝕刻各種精細(xì)的圖形和尺寸。
背景技術(shù)：
觸摸屏制造工藝要求銀漿的激光蝕刻必須適應(yīng)銀漿絲印造成的位置誤差。在銀漿的絲印過程中，由于網(wǎng)版的變形不可避免的會造成印刷圖形的畸變，而且大多數(shù)畸變都是不規(guī)則的，因此在蝕刻過程中，必須逐一讀取每單片的印刷標(biāo)記的位置信息。目前采用最多的技術(shù)都是通過單CCD采集印刷標(biāo)記的位置信息，為了要每單片精·準(zhǔn)蝕刻，就必須對每單片的兩個印刷標(biāo)記進(jìn)行位置信息采集，從而據(jù)此調(diào)整銀漿膜的位移和旋轉(zhuǎn)。采集印刷標(biāo)記時，單CCD通常置于透鏡之外，先采集一個印刷標(biāo)記的位置信息，然后移動銀漿膜，再采集另一個印刷標(biāo)記的位置信息，進(jìn)而計算得到銀漿膜所需的位移和旋轉(zhuǎn)量，最后移位銀漿膜進(jìn)入透鏡下方進(jìn)行蝕刻。分析可知，該方法是先后分別采集兩印刷標(biāo)記，并需要多次移動銀漿膜，降低了加工效率，并且還要保證在快速移動采集印刷標(biāo)記位置信息的過程中，移動定位誤差不能太大，才能滿足高精度蝕刻的要求。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于提供一種銀漿激光蝕刻機(jī)，實(shí)現(xiàn)高效、高精度的銀漿蝕刻。一種銀漿激光蝕刻機(jī)，包括光學(xué)平臺、二維移動機(jī)構(gòu)、真空吸附平臺、兩個CCD相機(jī)、吸塵機(jī)構(gòu)、激光器、光學(xué)振鏡和聚焦透鏡。所述光學(xué)平臺，用于提供水平工作臺面；所述二維移動機(jī)構(gòu)，位于光學(xué)平臺上，用于調(diào)整待蝕刻銀漿膜在X軸和Y軸方向的位置，使得待蝕刻銀漿膜的印刷標(biāo)記位于CCD相機(jī)的視場范圍內(nèi)；所述真空吸附平臺，位于水平二維移動機(jī)構(gòu)上，用于通過抽真空將待蝕刻銀漿膜緊緊吸附在其上表面；所述兩個CXD相機(jī)，位于真空吸附平臺上方，同時位于聚焦透鏡下方且在聚焦透鏡的聚焦光輻射區(qū)間外，用于測量各自視場內(nèi)的銀漿膜印刷標(biāo)記位置信息，且印刷標(biāo)記位對應(yīng)的原點(diǎn)與光學(xué)透鏡的原點(diǎn)重合，依據(jù)印刷標(biāo)記位置計算各印刷標(biāo)記相對于光學(xué)透鏡的原點(diǎn)的位移量和旋轉(zhuǎn)量，根據(jù)印刷標(biāo)記的位移量和旋轉(zhuǎn)量調(diào)整所述光學(xué)振鏡的鏡片旋轉(zhuǎn)角度以及下一工作單元的移動坐標(biāo)。所述吸塵機(jī)構(gòu)，位于真空吸附平臺上方且位于CXD定位機(jī)構(gòu)下方，用于吸走蝕刻時銀漿氣化的粉塵。所述激光器、光學(xué)振鏡和聚焦透鏡，位于真空吸附平臺上方，激光器發(fā)出的激光同軸平行入射光學(xué)振鏡，光學(xué)振鏡以被調(diào)整的鏡片旋轉(zhuǎn)角度將入射的平行光反射到聚焦透鏡上，聚焦透鏡對其聚焦以實(shí)現(xiàn)激光蝕刻。進(jìn)一步地，所述銀漿激光蝕刻機(jī)還包括可二維調(diào)節(jié)CXD位置的雙CXD自動定位機(jī)構(gòu)，所述CCD移動機(jī)構(gòu)包括直線導(dǎo)軌、兩滑塊、兩過渡塊、兩滾輪滑塊、兩根滾輪直線導(dǎo)軌和兩精密位移臺；直線導(dǎo)軌上鑲嵌兩滑塊，兩滑塊分別通過一過渡塊連接一滾動滑塊，兩滾動滑塊上分別鑲嵌一滾輪直線導(dǎo)軌，滾輪直線導(dǎo)軌上分別設(shè)有一精密位移臺，兩精密位移臺分別連接一 CXD相機(jī)。進(jìn)一步地，所述銀漿激光蝕刻機(jī)還包括垂直升降機(jī)構(gòu)，位于光學(xué)平臺上，包括升降平臺、傳動單元、同步電機(jī)、滑臺和調(diào)平組件，所述升降平臺上設(shè)有傳動單元，傳動單元的一端連接同步電機(jī)，另一端連接滑臺，所述滑臺連接調(diào)平組件，調(diào)平組件連接激光器、光學(xué)振鏡和聚焦透鏡。進(jìn)一步地，所述銀漿激光蝕刻機(jī)還包括吸塵機(jī)構(gòu)，位于真空吸附平臺上方，用于吸走蝕刻銀漿膜時產(chǎn)生的粉塵。進(jìn)一步地，所述吸塵機(jī)構(gòu)包括吸塵罩、滾輪導(dǎo)軌、氣動伸縮組件、鈑金方管、離子發(fā)生器和風(fēng)棒；所述滾輪導(dǎo)軌的一端連接吸塵罩和氣動伸縮組件；滾輪導(dǎo)軌的另一端和氣動伸縮組件一起緊鎖于鈑金方管內(nèi)；吸塵罩前方安裝所述離子發(fā)生器，離子發(fā)生器與風(fēng)棒通過管道連接，吸塵罩的吸風(fēng)口通過氣管連接外部渦旋風(fēng)機(jī)。進(jìn)一步地，所述銀漿激光蝕刻機(jī)還包括一支撐架，位于光學(xué)平臺上。進(jìn)一步地，所述支撐架為龍門支架。進(jìn)一步地，所述吸附平臺由上、中、下層通過氣密性連接構(gòu)成，上層上開有若干個通孔；中層上開有與上層通孔一一對應(yīng)的若干個通孔；下層的內(nèi)部有一空腔，所述上、中層的通孔均正對所述空腔；空腔壁連通外部抽氣管道。進(jìn)一步地，所述激光器采用1064紅外激光器。本實(shí)用新型的技術(shù)效果體現(xiàn)在根據(jù)上述要求如何高效和高精度蝕刻成為這個行業(yè)加工的技術(shù)難題，針對此難題本實(shí)用新型提出一種銀漿激光蝕刻機(jī)，采用雙CCD，位于所述真空吸附平臺上方且位于所述聚焦透鏡下方，兩CCD同時測量各自視場內(nèi)的銀漿膜印刷標(biāo)記位置信息，與單CCD測量相t匕，節(jié)省了測量時間，并省去了銀漿膜的移動。另外，CCD位于所述聚焦透鏡下方且在所述聚焦透鏡的聚焦光輻射區(qū)間外，這樣在CCD順利讀到位置信息時不會干涉激光蝕刻，基本上實(shí)現(xiàn)了單片銀漿膜的位置調(diào)整和蝕刻同時實(shí)現(xiàn)，提高了加工效率。銀漿膜的位置調(diào)整間接的通過光學(xué)振鏡的偏角角度調(diào)整來實(shí)現(xiàn)，整個過程無需移動銀漿膜，避免了因移動產(chǎn)生的誤差，滿足高精度蝕刻的要求。所述CCD測量印刷標(biāo)記位置采用的原點(diǎn)與所述光學(xué)透鏡的原點(diǎn)重合，從而實(shí)現(xiàn)激光與CCD的同軸，減少了測量完成后同時蝕刻銀漿圖形所占用的時間。本實(shí)用新型通過采用雙目視覺對印刷標(biāo)記的智能識別，根據(jù)計算結(jié)果對蝕刻圖形進(jìn)行位置和姿態(tài)調(diào)整，在與雙CCD同軸的激光的氣化下使印刷銀漿精確分離，從而實(shí)現(xiàn)高效、高精的銀漿蝕刻。

圖I為本實(shí)用新型銀漿激光蝕刻機(jī)整體結(jié)構(gòu)圖。圖2為(XD定位機(jī)構(gòu)結(jié)構(gòu)圖。圖3為二維移動機(jī)構(gòu)和吸附平臺結(jié)構(gòu)圖。[0026]圖4為吸塵機(jī)構(gòu)結(jié)構(gòu)圖。圖5為升降機(jī)構(gòu)結(jié)構(gòu)圖。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖對本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例做進(jìn)一步的詳細(xì)說明。參見圖I中，本實(shí)用新型銀漿激光蝕刻機(jī)包括光學(xué)平臺I、二維移動機(jī)構(gòu)2、真空吸附平臺3、支撐架4、吸塵機(jī)構(gòu)5、雙CXD移動機(jī)構(gòu)6、垂直升降機(jī)構(gòu)7、兩個CXD相機(jī)8、激光器9、振鏡10和聚焦透鏡11。光學(xué)平臺I用于提供水平臺面，平臺由整塊厚實(shí)的花崗巖制成；底座由金屬結(jié)構(gòu)件組成，其下端裝有若干調(diào)整腳。光學(xué)平臺I與底座采用牢固而具有一定彈性的連接，加上調(diào)整腳的調(diào)節(jié)性能，一并調(diào)整得到水平、穩(wěn)定而墩實(shí)的光學(xué)平臺。參見圖3，二維移動機(jī)構(gòu)2包括呈十字交叉放置的X軸移動滑臺2-1和y軸移動滑臺2-2，用于提供待蝕刻銀漿膜在水平面的X軸和Y軸方向移動，其安裝在光學(xué)平臺上的相應(yīng)連接孔中，并調(diào)整與光學(xué)平臺一樣的水平程度，以達(dá)到被吸附的膜也呈水平狀態(tài)，并能快速準(zhǔn)確的把膜向XY方向移動，而保證蝕刻質(zhì)量和蝕刻面積。參見圖3，吸附平臺3由上、中、下層三部分構(gòu)成。上層3-1可采用工程塑料制作，在數(shù)控機(jī)床上按設(shè)計要求獲取尺寸精確、表面光滑、分布均勻的若干個小通孔。中層3-2采用加工性能好的輕質(zhì)合金材料制作成與上層通孔一一對應(yīng)的若干個小通孔?？蓪⑸?、中層栓在一起一并制作，可獲得更佳的效果。下層3-3采用輕質(zhì)合金材料制作，其內(nèi)部有一空腔，上、中層的全部小通孔均正對該空腔，下層的空腔壁上開有兩螺孔，以便安裝外部的抽氣管道。上、中、下層之間采用氣密性連接，以便在工作時抽盡吸附平臺中的氣體，而將大面積導(dǎo)電膜/玻璃牢牢吸附在上層上。吸附平臺通過連接板3-4，用機(jī)械連接方式安裝在二維移動機(jī)構(gòu)2上的相應(yīng)連接孔中，牢牢的緊固到垂直下方的二維滑臺2上。參見圖I，光學(xué)平臺側(cè)面中部牢牢緊固了一套支撐架4，支撐架4優(yōu)選龍門支架，其頂面和底面與光學(xué)平臺9平行。龍門支架中部安放了雙CCD移動機(jī)構(gòu)6，垂直下方為吸塵機(jī)構(gòu)5，吸塵機(jī)構(gòu)5高于吸附平臺3。參見圖4，吸塵機(jī)構(gòu)5包括吸塵罩5-1、滾輪導(dǎo)軌5-2、氣動伸縮組件5_3、鈑金方管5-4、離子發(fā)生器5-5和風(fēng)棒5-6。吸塵罩5-1固定在滾輪導(dǎo)軌5_2的一端,滾輪導(dǎo)軌5_2還連接氣動伸縮組件5-3，以帶動吸塵罩5-5做伸縮運(yùn)動。滾輪導(dǎo)軌5-2的另一端和氣動伸縮組件5-3緊鎖到鈑金方管5-4中，鈑金方管5-4通過機(jī)械連接方式連接到龍門支架上。氣動伸縮組件5-9包括相連接的氣動伸縮桿5-7和氣動伸縮腔5-8，吸塵罩5-1側(cè)方安裝了離子發(fā)生器5-5，通過管道連接使離子通過固定在吸塵罩前方的風(fēng)棒5-6把離子吹入吸塵罩5-1中，吸塵罩5-1另一側(cè)吸風(fēng)口通過氣管連接到外部渦旋風(fēng)機(jī)，而保證了在加工過程中，及時的吸走蝕刻銀漿時產(chǎn)生的粉塵。參見圖2，雙C⑶移動機(jī)構(gòu)6通過連接過渡板6-1用機(jī)械連接方式固定在龍門支架中部位置，過渡板6-1上安放了一根直線導(dǎo)軌6-2，直線導(dǎo)軌6-2上鑲嵌了兩個滑塊，滑塊正面上連接了 6-3過渡塊，過渡塊6-3上方安放了 6-4滾輪滑塊，滾輪滑塊上方鑲嵌了兩根滾輪直線導(dǎo)軌6-5、6-6，直線導(dǎo)軌6-2的前端安放了精密位移臺6-7，可以調(diào)整固定在其上方的CCD8的焦距，從而滿足不同厚度膜更換后CCD可以清晰的采集印刷標(biāo)記，避免采集誤差。通過直線導(dǎo)軌X方向上的運(yùn)動和滾輪導(dǎo)軌Y方向上的運(yùn)動簡化了固定在精密位移臺上的雙CCD為了讀取不同大小尺寸范圍的印刷標(biāo)記可以快速調(diào)整位置的步驟。當(dāng)雙CCD移動到采集印刷標(biāo)記位置后，可以通過固定螺釘6-8和限位條6-9，牢靠的鎖緊雙CXD在移動裝置上的位置，避免了在加工過程中，C⑶的偏移造成測量誤差。兩個(XD8，位于真空吸附平臺上方，同時位于所述聚焦透鏡下方且在聚焦透鏡的聚焦光輻射區(qū)間外，與光學(xué)振鏡電連接，用于同時測量各自視場內(nèi)的銀漿膜印刷標(biāo)記位置信息，CCD測量印刷標(biāo)記位置采用的原點(diǎn)與所述光學(xué)透鏡的原點(diǎn)重合，依據(jù)印刷標(biāo)記位置計算各印刷標(biāo)記相對于光學(xué)透鏡的原點(diǎn)的位移量和旋轉(zhuǎn)量，根據(jù)印刷標(biāo)記的位移量和旋轉(zhuǎn)量調(diào)整所述光學(xué)振鏡的鏡片旋轉(zhuǎn)角度。參見圖5，垂直升降機(jī)構(gòu)7安放·在光學(xué)平臺I后方上，位于所述光學(xué)平臺上，包括升降平臺7-1、傳動單元7-2、同步電機(jī)7-3、滑臺7-4和調(diào)平組件7_5，升降平臺7_1上設(shè)有傳動單元7-2，傳動單元7-2的一端連接所述同步電機(jī)7-3，另一端連接滑臺7-4，滑臺7_4連接調(diào)平組件7-5，調(diào)平組件7-5連接激光器9、光學(xué)振鏡10和聚焦透鏡11。升降平臺7_1底部也用同一樣花崗巖制成，色彩一致，融于一體。頂面和底面與光學(xué)平臺I平行，底面緊固安裝在光學(xué)平臺I上。升降平臺7-1用金屬材料經(jīng)精加工而成，傳動單元7-2采用滑道、垂直精密絲焊和同步輪，通過同步電機(jī)旋轉(zhuǎn)同步輪，就可提升或下降滑臺，從而使固定在滑臺上的激光器等裝置的升降要求。升降平臺7-1上設(shè)有激光器9、振鏡10以及聚焦鏡11，激光器發(fā)出的激光同軸平行入射振鏡，振鏡將入射的平行光反射到聚焦鏡上，聚焦鏡對其聚焦以實(shí)現(xiàn)激光蝕刻。透鏡與雙CCD同軸垂直升降機(jī)構(gòu)的升降平臺上還安設(shè)有由多層輕質(zhì)合金材料板疊放構(gòu)成的調(diào)平組件7-5，用于對紅外激光器進(jìn)行精確地升降調(diào)節(jié)、水平方向的精確調(diào)節(jié)、旋轉(zhuǎn)方向以及俯仰方向的精確調(diào)節(jié)等以實(shí)現(xiàn)調(diào)平。本實(shí)用新型銀漿激光蝕刻機(jī)工作過程具體為吸附平臺將當(dāng)前待蝕刻銀漿膜牢牢吸附在其上層，通過水平二維滑臺將銀漿膜的兩印刷標(biāo)記移動到雙CCD視場內(nèi)，兩CCD同時采集各自視場內(nèi)的印刷標(biāo)記得到印刷標(biāo)記位置信息，依據(jù)印刷標(biāo)記位置信息計算印刷標(biāo)記的位移量和旋轉(zhuǎn)量，進(jìn)而根據(jù)印刷標(biāo)記的位移量和旋轉(zhuǎn)量控制光學(xué)振鏡的鏡片旋轉(zhuǎn)角度，以實(shí)現(xiàn)當(dāng)前銀漿膜的準(zhǔn)確蝕刻。當(dāng)前銀漿膜準(zhǔn)確蝕刻完畢后，根據(jù)印刷標(biāo)記的位移量和旋轉(zhuǎn)量控制十字滑臺的移動，以使得下一單片銀漿膜的兩印刷標(biāo)記分別位于兩CCD的視場內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種銀漿激光蝕刻機(jī)，包括光學(xué)平臺、二維移動機(jī)構(gòu)、真空吸附平臺、兩個CCD相機(jī)、吸塵機(jī)構(gòu)、激光器、光學(xué)振鏡和聚焦透鏡。所述光學(xué)平臺，用于提供水平工作臺面；所述二維移動機(jī)構(gòu)，位于光學(xué)平臺上，用于調(diào)整待蝕刻銀漿膜在X軸和Y軸方向的位置，使得待蝕刻銀漿膜的印刷標(biāo)記位于CCD相機(jī)的視場范圍內(nèi)；所述真空吸附平臺，位于水平二維移動機(jī)構(gòu)上，用于通過抽真空將待蝕刻銀漿膜緊緊吸附在其上表面；所述兩個C⑶相機(jī)，位于真空吸附平臺上方，同時位于聚焦透鏡下方且在聚焦透鏡的聚焦光輻射區(qū)間外，用于測量各自視場內(nèi)的銀漿膜印刷標(biāo)記位置信息，且印刷標(biāo)記位對應(yīng)的原點(diǎn)與光學(xué)透鏡的原點(diǎn)重合，依據(jù)印刷標(biāo)記位置計算各印刷標(biāo)記相對于光學(xué)透鏡的原點(diǎn)的位移量和旋轉(zhuǎn)量，根據(jù)印刷標(biāo)記的位移量和旋轉(zhuǎn)量調(diào)整所述光學(xué)振鏡的鏡片旋轉(zhuǎn)角度以及下一工作單元的移動坐標(biāo)。所述吸塵機(jī)構(gòu)，位于真空吸附平臺上方且位于CCD定位機(jī)構(gòu)下方，用于吸走蝕刻時銀漿氣化的粉塵。所述激光器、光學(xué)振鏡和聚焦透鏡，位于真空吸附平臺上方，激光器發(fā)出的激光同軸平行入射光學(xué)振鏡，光學(xué)振鏡以被調(diào)整的鏡片旋轉(zhuǎn)角度將入射的平行光反射到聚焦透鏡上，聚焦透鏡對其聚焦以實(shí)現(xiàn)激光蝕刻。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的銀漿激光蝕刻機(jī)，其特征在于，所述銀漿激光蝕刻機(jī)還包括可二維調(diào)節(jié)C⑶位置的雙CXD自動定位機(jī)構(gòu)，
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的銀漿激光蝕刻機(jī)，其特征在于，所述CCD移動機(jī)構(gòu)包括直線導(dǎo)軌、兩滑塊、兩過渡塊、兩滾輪滑塊、兩根滾輪直線導(dǎo)軌和兩精密位移臺；直線導(dǎo)軌上鑲嵌兩滑塊，兩滑塊分別通過一過渡塊連接一滾動滑塊，兩滾動滑塊上分別鑲嵌一滾輪直線導(dǎo)軌，滾輪直線導(dǎo)軌上分別設(shè)有一精密位移臺，兩精密位移臺分別連接一 CCD相機(jī)。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的銀漿激光蝕刻機(jī)，其特征在于，所述銀漿激光蝕刻機(jī)還包括垂直升降機(jī)構(gòu)，位于光學(xué)平臺上，包括升降平臺、傳動單元、同步電機(jī)、滑臺和調(diào)平組件，所述升降平臺上設(shè)有傳動單元，傳動單元的一端連接同步電機(jī)，另一端連接滑臺，所述滑臺連接調(diào)平組件，調(diào)平組件連接激光器、光學(xué)振鏡和聚焦透鏡。
5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的銀漿激光蝕刻機(jī)，其特征在于，所述銀漿激光蝕刻機(jī)還包括吸塵機(jī)構(gòu)，位于真空吸附平臺上方，用于吸走蝕刻銀漿膜時產(chǎn)生的粉塵。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的銀漿激光蝕刻機(jī)，其特征在于，所述吸塵機(jī)構(gòu)包括吸塵罩、滾輪導(dǎo)軌、氣動伸縮組件、鈑金方管、離子發(fā)生器和風(fēng)棒；所述滾輪導(dǎo)軌的一端連接吸塵罩和氣動伸縮組件；滾輪導(dǎo)軌的另一端和氣動伸縮組件一起緊鎖于鈑金方管內(nèi)；吸塵罩前方安裝所述離子發(fā)生器，離子發(fā)生器與風(fēng)棒通過管道連接，吸塵罩的吸風(fēng)口通過氣管連接外部渦旋風(fēng)機(jī)。
7.根據(jù)權(quán)利要求2至6任意一項權(quán)利要求所述的銀漿激光蝕刻機(jī)，其特征在于，所述銀漿激光蝕刻機(jī)還包括一支撐架，位于光學(xué)平臺上。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的銀漿激光蝕刻機(jī)，其特征在于，所述支撐架為龍門支架。
9.根據(jù)權(quán)利要求2至6任意一項權(quán)利要求所述的銀漿激光蝕刻機(jī)，其特征在于，所述吸附平臺由上、中、下層通過氣密性連接構(gòu)成，上層上開有若干個通孔；中層上開有與上層通孔一一對應(yīng)的若干個通孔；下層的內(nèi)部有一空腔，所述上、中層的通孔均正對所述空腔；空腔壁連通外部抽氣管道。
10.根據(jù)權(quán)利要求2至6任意一項權(quán)利要求所述的銀漿激光蝕刻機(jī)，其特征在于，所述激光器采用1064紅外激光器。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種銀漿激光蝕刻機(jī)，主要包括真空吸附平臺、兩個CCD相機(jī)、激光器、光學(xué)振鏡和聚焦透鏡，兩個CCD相機(jī)位于真空吸附平臺上方，同時位于聚焦透鏡下方且在聚焦透鏡的聚焦光輻射區(qū)間外，用于測量各自視場內(nèi)的銀漿膜印刷標(biāo)記位置信息，且印刷標(biāo)記位對應(yīng)的原點(diǎn)與光學(xué)透鏡的原點(diǎn)重合，依據(jù)印刷標(biāo)記位置計算各印刷標(biāo)記相對于光學(xué)透鏡的原點(diǎn)的位移量和旋轉(zhuǎn)量，根據(jù)印刷標(biāo)記的位移量和旋轉(zhuǎn)量調(diào)整所述光學(xué)振鏡的鏡片旋轉(zhuǎn)角度以及下一工作單元的移動坐標(biāo)。本實(shí)用新型通過采用雙目視覺對印刷標(biāo)記的智能識別，根據(jù)計算結(jié)果對蝕刻圖形進(jìn)行位置和姿態(tài)調(diào)整，在與雙CCD同軸的激光的氣化下使印刷銀漿精確分離，從而實(shí)現(xiàn)高效、高精的銀漿蝕刻。
文檔編號B23K26/02GK202726319SQ20122041252
公開日2013年2月13日 申請日期2012年8月21日 優(yōu)先權(quán)日2012年8月21日
發(fā)明者段光前, 張昱 申請人:武漢先河激光技術(shù)有限公司