專利名稱：陰極射線管中的框架的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種陰極射線管中的框架，特別涉及一種用于支撐陰極射線管中的蔭罩以向其施加張力的張力罩形部件的框架。
陰極射線管是如電視接收器或計(jì)算機(jī)監(jiān)視器的顯示器上顯示圖像的主要部件。

圖1說(shuō)明了具有相關(guān)技術(shù)的彩色陰極射線管的局部剖視圖的側(cè)視圖。
參照?qǐng)D1，顯示一個(gè)熒光屏3，在板1的后面并焊接在其上的漏斗2，及漏斗2后端的電子槍8，其中熒光屏3具有涂覆在安裝于陰極射線管前表面的板1內(nèi)表面的紅色、綠色和藍(lán)色熒光材料。蔭罩4安裝在板1內(nèi)部的熒光屏3附近的框架5上，用于選擇電子槍8發(fā)出的電子光束的顏色?；?安裝到板1的側(cè)壁上，用于將框架5緊固在板1上。有一個(gè)固定在框架5一側(cè)的內(nèi)遮板7，用于遮住陰極射線管，這樣使陰極射線管受外部地磁的影響減小。圖2說(shuō)明一個(gè)相關(guān)技術(shù)的框架5的截面。
參照?qǐng)D2，相關(guān)背景技術(shù)的框架5上提供有安裝蔭罩5的主框架11，和支撐主框架11的副框架10。副框架10的主軸和它的曲線如下定義，以表示相關(guān)技術(shù)中副框架的結(jié)構(gòu)。在副框架10與主框架11接觸點(diǎn)之間的副框架10的部分定義為副框架的主軸12。為了描述副框架10的形狀，相對(duì)于蔭罩4的位置，副框架10相對(duì)于副框架的主軸12向外彎曲的程度，即，從蔭罩4和框架5形成的內(nèi)部向外定義為正曲率+R，與之相反，副框架10向蔭罩4和框架5形成的內(nèi)部的向內(nèi)彎曲定義為負(fù)曲率-R。曲率的定義也應(yīng)用于矩形的結(jié)構(gòu)，但曲率的定義也幾乎用于表示副框架12的彎曲方向。副框架主軸12的大部分除了彎曲的兩端外，基本上與蔭罩4平行。即相關(guān)技術(shù)的副框架10的主軸12為沒(méi)有曲率的結(jié)構(gòu)。
然而，前述的副框架有一個(gè)問(wèn)題，即，有相當(dāng)高的張力不能作用在蔭罩4上。也就是，當(dāng)有張力作用在蔭罩4時(shí)，如果固定在副框架10的主框架11向蔭罩4的變形太大，很難對(duì)蔭罩4作用適當(dāng)?shù)膹埩Γ挥幸揽繌椥阅Ａ?、即副框架材料的特性的彈性變形解決上述問(wèn)題。然而，只依靠材料特性減小主框架11的變形受到蔭罩4尺寸增加的限制。同時(shí)，由于副框架10的附加熱處理、或?yàn)樵鰪?qiáng)屈服強(qiáng)度對(duì)材料的改變或副框架10的彈性模量需要相當(dāng)高的成本，盡管這種影響是不確定的，但熱處理或改變材料不能成為基本的解決辦法。
因此，本發(fā)明目的是提供一種陰極射線管中的框架，它基本排除幾個(gè)由于相關(guān)背景技術(shù)的限制和缺點(diǎn)而引起的問(wèn)題。
本發(fā)明的目的是提供一種陰極射線管中的框架，能不改變材料或?qū)Ω笨蚣芨郊拥臒崽幚恚瑢?duì)蔭罩作用適當(dāng)?shù)膹埩Α?br> 本發(fā)明的其他特征和優(yōu)點(diǎn)將在下面的說(shuō)明中得以闡述，并且從說(shuō)明書(shū)中變得更加清楚或從發(fā)明的實(shí)施中進(jìn)行了解。特別是從撰寫(xiě)的說(shuō)明書(shū)和權(quán)利要求以及附圖中指出的結(jié)構(gòu)來(lái)實(shí)現(xiàn)和獲得本發(fā)明的目的和其他優(yōu)點(diǎn)。
為了實(shí)現(xiàn)這些和其他優(yōu)點(diǎn)，依照本發(fā)明的目的，概要和廣義地描述本發(fā)明為，陰極射線管中的框架包括固定蔭罩的主框架，支撐主框架的副框架，借此以作用其上的張力支撐蔭罩，其中副框架有向蔭罩的突出部分，用于使蔭罩上的張力引起的主框架的變形最小。
可以理解，上述一般描述和下面的詳細(xì)描述是示范性和說(shuō)明性的，意在對(duì)權(quán)利要求所述的發(fā)明的進(jìn)一步解釋。
所包含的附圖提供本發(fā)明的進(jìn)一步說(shuō)明，包括在說(shuō)明書(shū)中并構(gòu)成說(shuō)明書(shū)的一部分，闡述了本發(fā)明的實(shí)施例并和文字描述一起解釋本發(fā)明的原理。
圖中圖1說(shuō)明了帶有局部剖面的相關(guān)技術(shù)的陰極射線管的側(cè)視圖；圖2說(shuō)明圖1所示的相關(guān)技術(shù)框架的剖面；圖3說(shuō)明依照本發(fā)明第一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例的框架的剖面；圖4說(shuō)明依照本發(fā)明第二個(gè)優(yōu)選實(shí)施例的框架的剖面；圖5說(shuō)明依照本發(fā)明第三個(gè)優(yōu)選實(shí)施例的框架的剖面；圖6說(shuō)明本發(fā)明框架的工作狀態(tài)。
下面具體參考附圖中解釋本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例。圖3說(shuō)明了依照本發(fā)明第一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例的框架的剖面。
參照?qǐng)D3，依照本發(fā)明第一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例的框架包括有為負(fù)曲率-R的突出部分22，其中負(fù)曲率-R是根據(jù)支撐主框架20的副框架主軸23上形成的副框架曲率定義的。主軸23是如前所限定的相關(guān)技術(shù)的副框架的水平部件。本發(fā)明具有突出部分22的第一個(gè)實(shí)施例的框架通過(guò)彎曲突出部分22而形成。有彎曲突出部分22的副框架21在左右方向?qū)ΨQ形成，使得固定在副框架21兩端的主框架的變形相同。即，隨著副框架本身的主軸23在左右方向?qū)ΨQ地形成部分彎曲而具有負(fù)曲率，形成彎曲突出部分22，使中心部分似乎與面向上的凸透鏡類似，在水平方向從凸透鏡端部向副框架的主軸23兩端部的傾斜部分延伸?；蛘吲c之不同的，形成的突出部分22從沒(méi)有水平部分的副框架的主軸23兩側(cè)開(kāi)始傾斜的部分開(kāi)始，并整個(gè)具有負(fù)曲率-R。突出部分22向蔭罩4移動(dòng)副框架的主軸21的中心，導(dǎo)致在蔭罩4和副框架的主軸23之間形成間隙H，以盡量減小突出部分22的高度“b”。蔭罩4和副框架主軸23之間的間隙“h”定義為力矩長(zhǎng)度‘h’。那么，副框架主軸23的中心的彎曲力矩，即蔭罩4的張力‘T’與力矩長(zhǎng)度‘h’的乘積比相關(guān)技術(shù)中的彎曲力矩‘T×H’小。突出部分22的彎曲程度可以調(diào)整，以增加突出部分22的高度‘b’，提供各種副框架21的形式，來(lái)減少副框架的主軸中心的彎曲力矩。然而，除了突出部分22的高度‘b’和寬度‘a(chǎn)’不同外，突出部分22總的形式幾乎是類似的。
參照?qǐng)D4，與凸出形式的突出部分22不同，通過(guò)彎曲副框架21到需要的角度可形成突出部分30。即，多次部分地彎曲副框架的主軸21，形成具有與蔭罩4平行表面的突出部分30。也就是突出部分的剖面可以是矩形或?yàn)樵谧笥曳较驅(qū)ΨQ的負(fù)曲率-R的不規(guī)則四邊形，這樣安裝到副框架21上的主框架20在其兩端的變形相同。即，在副框架本身的主軸23在向左右方向?qū)ΨQ地多次彎曲到所需角度時(shí)，形成彎曲形式的突出部分30，這樣形成的副框架的主軸23具有矩形或在中心部分不規(guī)則四邊形的剖面，并具有從彎曲的端部到副框架21的主軸兩端傾斜部分的水平部分?；騾^(qū)別為，整個(gè)具有負(fù)曲率-R的突出部分30可以從副框架主軸兩端的傾斜部分開(kāi)始。前述的突出部分30向蔭罩4移動(dòng)副框架的主軸23的中心，導(dǎo)致在蔭罩4和副框架的主軸之間形成一個(gè)間隙‘H’，以盡量減小突出部分22的高度‘b’。并與第一個(gè)實(shí)施例相同，也在這種情況下，在蔭罩4的主軸23中心的彎曲力矩，蔭罩4的張力‘T’與力矩長(zhǎng)度‘h’的乘積，比相關(guān)技術(shù)中的副框架的彎曲力矩‘ T×H’小。如果故意增大突出部分30的高度‘b’以減小副框架的主軸23的中心彎曲力矩，可以提供很多具有突出部分30的副框架21。并且，除了突出部分30的高度‘b’和寬度‘a(chǎn)’不同外，突出部分30總的形式幾乎是類似的。
如前實(shí)施例所述，形成突出部分22或30以在副框架的主軸上減少?gòu)澢氐脑蚴?，為了在?duì)安裝在副框架21的主框架20施加張力時(shí)，減小主框架20的變形。下面將闡述形成有多個(gè)突出部分以滿足上述目的的第一和第二實(shí)施例的改進(jìn)形式。
第一個(gè)實(shí)施例的兩個(gè)彎曲部分可左右對(duì)稱地形成在副框架上，或也可形成一個(gè)彎曲突出部分在中心和兩個(gè)彎曲突出部分在其左右側(cè)，或在副框架上左右方向?qū)ΨQ形成第二個(gè)實(shí)施例的兩個(gè)彎曲部分，或可形成在中心部分的一個(gè)彎曲部分和左右側(cè)兩個(gè)彎曲突出部分。突出部分的改進(jìn)形式減小了副框架的變形以及主框架的變形。然而，需要考慮框架的材料和蔭罩所需的張力選擇地應(yīng)用相應(yīng)實(shí)施例的改進(jìn)形式，因?yàn)?，提供很多不合理的突出部分可能造成副框架的?qiáng)度減弱，使副框架的制造困難。
同時(shí)，參照?qǐng)D5說(shuō)明作為本發(fā)明第三個(gè)實(shí)施例的是第一或第二個(gè)實(shí)施例的改進(jìn)形式、也就是使主框架的變形最小的形式。
參照?qǐng)D5，副框架沒(méi)有傾斜部分，提供平坦的副框架，第一或第二實(shí)施例中的突出部分30形成在副框架的主軸上。由于第三個(gè)實(shí)施例的副框架比其他實(shí)施例的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，它有最方便的制造過(guò)程和小的變形，在副框架突出部分端部點(diǎn)的受力相當(dāng)大。因此，盡管對(duì)蔭罩不合理地作用很高的張力很危險(xiǎn)，也能應(yīng)用比相關(guān)技術(shù)更高的張力。
由于本發(fā)明實(shí)施例的前述框架的工作幾乎相同，因此，參照第二個(gè)實(shí)施例和圖6闡述本發(fā)明框架的工作情況。
由于相關(guān)技術(shù)的副框架沒(méi)有彎曲，即沒(méi)有突出部分，因而在副框架的主軸上有彎曲力矩作用在其中部，彎曲力矩為張力‘T’與力矩間隙‘H’的乘積，具有在副框架的主軸23上形成為負(fù)曲率的突出部分30的本發(fā)明的副框架具有值為張力‘T’與力矩間隙‘h’乘積的彎曲力矩，該力距由于減小了力矩間隙而比相關(guān)技術(shù)中的力矩小。結(jié)果，在本發(fā)明的副框架21結(jié)構(gòu)中的主框架在張力方向包含了小于相關(guān)技術(shù)的主框架的變形“S”。具體地說(shuō)，由于在具有負(fù)曲率的突出部分30存在較小彎曲力矩，導(dǎo)致在副框架21的中心較小的彎曲，而主要彎曲是在突出部分30的端部?jī)牲c(diǎn)‘P’處，此處是副框架的主軸彎曲或變彎，使主框架的彎曲‘S’小于相關(guān)技術(shù)中的彎曲，能允許框架向蔭罩4施加很大的張力，以盡可能減小主框架20的變形‘S’。
如上所述，本發(fā)明陰極射線管中的框架還有如下的優(yōu)點(diǎn)。
通過(guò)改變本發(fā)明副框架的結(jié)構(gòu)獲得副框架較小的彎曲變形，允許在端部向蔭罩4施加較大的張力。對(duì)蔭罩作用較大的張力改進(jìn)了由于蔭罩中孔和來(lái)自蔭罩的熱變形的電子束之間不匹配而引起的拱頂問(wèn)題，以及改進(jìn)了振鳴問(wèn)題，和由于較大的張力增加了蔭罩的固有頻率而由外部震動(dòng)或碰撞而引起的蔭罩的震動(dòng)等問(wèn)題。在保持相關(guān)技術(shù)中用于提供前述作用的框架基本結(jié)構(gòu)的同時(shí)，僅改變副框呆架結(jié)構(gòu)就允許本發(fā)明簡(jiǎn)單應(yīng)用于目前的陰極射線管，以較低的成本改進(jìn)相關(guān)技術(shù)中的陰極射線管的性能。
顯然本領(lǐng)域普通技術(shù)人員，可以對(duì)本發(fā)明的陰極射線管中的框架做各種改進(jìn)和變形，而不脫離本發(fā)明的范圍。因此，本發(fā)明意在含蓋權(quán)利要求和等同范圍內(nèi)對(duì)發(fā)明作出的改進(jìn)和變形。
權(quán)利要求
1．一種陰極射線管中的框架，包括一個(gè)用于固定蔭罩的主框架，一個(gè)用于支撐主框架的副框架，借此以作用其上的張力支撐蔭罩，其中副框架有向蔭罩突出的部分，以使蔭罩上的張力引起的主框架的變形最小，副框架相對(duì)于副框架的中心在左右方向?qū)ΨQ。
2．如權(quán)利要求1所述的框架，其中隨著副框架本身變形為彎曲形式而形成副框架的突出部分。
3．如權(quán)利要求2所述的框架，其中形成多個(gè)突出部分。
4．如權(quán)利要求1所述的框架，其中通過(guò)多次彎曲副框架本身，形成有一個(gè)表面與蔭罩平行的副框架的突出部分。
5．如權(quán)利要求4所述的框架，其中形成多個(gè)突出部分。
6．如權(quán)利要求1所述的框架，其中副框架除了突出部分之外與蔭罩平行。
全文摘要
本發(fā)明涉及陰極射線管中的框架,特別涉及用于支撐蔭罩的張力罩型裝置的框架,以向陰極射線管中的蔭罩施加張力。陰極射線管中的框架包括用于固定蔭罩的主框架,和用于支撐主框架的副框架,借此以作用其上的張力支撐蔭罩,其中副框架有向蔭罩突出的部分,以使蔭罩上的張力引起的主框架的變形最小,副框架相對(duì)于副框架的中心在左右方向?qū)ΨQ。
文檔編號(hào)H01J29/07GK1324095SQ0111960
公開(kāi)日2001年11月28日 申請(qǐng)日期2001年4月30日 優(yōu)先權(quán)日2000年5月16日
發(fā)明者金成大 申請(qǐng)人:Lg電子株式會(huì)社