光傳導(dǎo)裝置和曝光機(jī)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種光傳導(dǎo)裝置和曝光機(jī)。
【背景技術(shù)】
[0002]曝光是微加工過程中一個必不可少的工藝，特別是在顯示行業(yè)，無論是電路的刻蝕，還是彩色濾光片的制作，都與曝光密切相關(guān)。
[0003]曝光機(jī)的有效曝光范圍，是依據(jù)使用的待曝光膜尺寸、掩膜版尺寸、光學(xué)鏡組等的匹配設(shè)計的，通常曝光區(qū)域無法覆蓋整面待曝光膜，即使覆蓋整面待曝光膜，但由于待曝光膜邊緣的光阻厚度不均勻或烘烤溫度有差異等因素，會導(dǎo)致邊緣出現(xiàn)光阻殘留。殘留的光阻需要通過邊緣曝光機(jī)將未曝光或未完全曝光的光阻曝光去除。因此，二次曝光會降低曝光的工作效率。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明提供一種光傳導(dǎo)裝置，能夠?qū)崿F(xiàn)通過一次曝光即可完成曝光工作，防止待曝光膜的邊緣出現(xiàn)光阻殘留。
[0005]本發(fā)明提供一種光傳導(dǎo)裝置，應(yīng)用于曝光機(jī)中，所述光傳導(dǎo)裝置包括弧形狹縫單元，所述弧形狹縫單元包括主體，所述主體設(shè)有弧形狹縫，所述主體還設(shè)有開孔，所述光傳導(dǎo)裝置還包括狹縫導(dǎo)光部和孔導(dǎo)光部，經(jīng)由所述弧形狹縫的光線由所述狹縫導(dǎo)光部傳導(dǎo)至待曝光膜的中間位置，經(jīng)由所述開孔的光線由所述孔導(dǎo)光部傳導(dǎo)至所述待曝光膜的邊緣位置。
[0006]其中，所述開孔的數(shù)量為兩個，所述兩個開孔相對于所述弧形狹縫的對稱軸呈對稱分布。
[0007]其中，所述主體包括一對相對設(shè)置的邊緣，所述兩個開孔分別位于所述弧形狹縫和所述一對邊緣之間。
[0008]其中，所述孔導(dǎo)光部包括兩個反射鏡片組，所述兩個反射鏡片組分別與所述兩個開孔相對設(shè)置，用于將經(jīng)由所述兩個開孔傳導(dǎo)的光線傳導(dǎo)至所述待曝光膜的邊緣位置，所述反射鏡片組被設(shè)置成經(jīng)過所述反射鏡片組傳導(dǎo)的光線不會干涉經(jīng)由所述弧形狹縫的光線。
[0009]其中，所述弧形狹縫單元呈平板狀，每個所述反射鏡片組包括兩個平行設(shè)置的反射鏡片，所述兩個反射鏡片用于反射垂直射至所述弧形狹縫單元的光線，并使得反射后的光線垂直于所述弧形狹縫單元。每個所述反射鏡片組的兩個所述反射鏡片均與所述弧形狹縫單元呈45度夾角。
[0010]其中，所述兩個開孔分別為第一開孔和第二開孔;在其中一個反射鏡片組中，其中一個所述反射鏡片位于所述第一開孔的正下方，另一個所述反射鏡片位于所述第一開孔之遠(yuǎn)離所述弧形狹縫的一側(cè);在另一個反射鏡片組中，其中一個所述反射鏡片位于所述第二開孔的正下方，另一個所述反射鏡片位于所述第二開孔之遠(yuǎn)離所述弧形狹縫的一側(cè)。
[0011]其中，所述孔導(dǎo)光部包括與所述兩個開孔分別對應(yīng)設(shè)置的兩條光纖束，所述兩條光纖束用于將通過所述兩個開孔的光線傳導(dǎo)至所述待曝光膜的邊緣位置，所述光纖束設(shè)置成經(jīng)由所述光纖束傳導(dǎo)的光線不會干涉經(jīng)由所述弧形狹縫的光線。
[0012]其中，所述兩條光纖束相對設(shè)置，所述兩條光纖束的一端分別設(shè)置在所述兩個開孔內(nèi)。
[0013]其中，所述狹縫導(dǎo)光部包括梯形鏡片、凹面鏡和凸面鏡，經(jīng)由所述弧形狹縫的光線依次經(jīng)由所述梯形鏡片、所述凹面鏡和所述凸面鏡，并且再依次經(jīng)過所述凹面鏡和所述梯形鏡片二次反射從而傳導(dǎo)至所述待曝光膜的中間位置。
[0014]本發(fā)明還提供一種曝光機(jī)，包括如前述任一項所述的光傳導(dǎo)裝置。
[0015]本發(fā)明中，光源發(fā)射的光線會由弧形狹縫單元的弧形狹縫遮擋成弧形光，該弧形光最后會傳導(dǎo)至待曝光膜的中間位置，而弧形狹縫單元上設(shè)置的孔導(dǎo)光部可以將光源發(fā)射的光線傳導(dǎo)至前述待曝光膜的邊緣處，因此可以通過一次曝光就可完成曝光工作，可防止待曝光膜的邊緣出現(xiàn)光阻殘留。
【附圖說明】
[0016]為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0017]圖1是根據(jù)本發(fā)明的光傳導(dǎo)裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0018]圖2是根據(jù)本發(fā)明的弧形狹縫單元的平面示意圖。
[0019]圖3是光線在根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的光傳導(dǎo)裝置中傳導(dǎo)的示意圖。
[0020]圖4是根據(jù)本發(fā)明的另一個實施例的光傳導(dǎo)裝置的平面示意圖。
【具體實施方式】
[0021]下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒景l(fā)明中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0022]參照圖1，根據(jù)本發(fā)明的光傳導(dǎo)裝置包括弧形狹縫單元I和狹縫導(dǎo)光部2，狹縫導(dǎo)光部2包括梯形鏡片201、凹面鏡202和凸面鏡203，弧形狹縫單元I包括主體11，該主體11設(shè)有用于形成弧形光的弧形狹縫，光源(未示出)發(fā)射的光線會由弧形狹縫單元I的弧形狹縫遮擋成弧形光，該弧形光依次經(jīng)由梯形鏡片201、凹面鏡202和凸面鏡203，并且再經(jīng)過凹面鏡202和梯形鏡片201 二次反射至待曝光膜3的中間位置上。經(jīng)弧形狹縫單元I遮擋后形成的弧形光經(jīng)過狹縫導(dǎo)光部2的傳導(dǎo)至待曝光膜3(例如光刻膠)的中間位置，會保證傳導(dǎo)至待曝光膜3上的各點(diǎn)的光線的光程一致，因而可以對待曝光膜3進(jìn)行均勻曝光。此外，弧形狹縫單元I的主體11設(shè)有開孔，經(jīng)由開孔的光線會由孔導(dǎo)光部傳導(dǎo)至待曝光膜的邊緣位置，以去除邊緣位置處的光阻。因此，待曝光膜3經(jīng)過曝光機(jī)的一次曝光，即可去除待曝光膜上的光阻，從而完成曝光工作。
[0023]參照圖2，在本發(fā)明的一個實施例中，呈平板狀的弧形狹縫單元I的主體11包括弧形狹縫101、第一開孔102和第二開孔103，其中，第一開孔102和第二開孔103相對于弧形狹縫101的對稱軸呈對稱分布。主體11還包括一對相對設(shè)置的邊緣104和105，第一開孔102和第二開孔103分別位于弧形狹縫101以及一對邊緣104和105之間?；⌒为M縫101用于將光源發(fā)射的光線遮擋成弧形光，該弧形光在經(jīng)過狹縫導(dǎo)光部2的傳導(dǎo)及放大后，會對待曝光膜