技術(shù)編號(hào)：9750012
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。曝光是微加工過程中一個(gè)必不可少的工藝，特別是在顯示行業(yè)，無論是電路的刻蝕，還是彩色濾光片的制作，都與曝光密切相關(guān)。曝光機(jī)的有效曝光范圍，是依據(jù)使用的待曝光膜尺寸、掩膜版尺寸、光學(xué)鏡組等的匹配設(shè)計(jì)的，通常曝光區(qū)域無法覆蓋整面待曝光膜，即使覆蓋整面待曝光膜，但由于待曝光膜邊緣的光阻厚度不均勻或烘烤溫度有差異等因素，會(huì)導(dǎo)致邊緣出現(xiàn)光阻殘留。殘留的光阻需要通過邊緣曝光機(jī)將未曝光或未完全曝光的光阻曝光去除。因此，二次曝光會(huì)降低曝光的工作效率。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明提供一種光...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。