92] 形成顯示設(shè)備1500的過(guò)程完成于：移除模具1599(階段1410)。圖101中所展示 的結(jié)果包含將EAL 1541支撐于下伏快門(mén)組合件上方的錨1525,所述下伏快門(mén)組合件包含 還由錨1525支撐的快門(mén)1528。錨1525由在上述圖案化階段之后所留下的結(jié)構(gòu)材料層1516 和光圈層材料1540的部分形成。
[0193] 在一些實(shí)施方案中，使用標(biāo)準(zhǔn)MEMS釋放方法來(lái)移除模具，其例如包含使模具暴露 于氧等離子體、濕式化學(xué)蝕刻或氣相蝕刻。然而，當(dāng)用于形成模具的犧牲層的數(shù)目增加以產(chǎn) 生EAL時(shí)，犧牲材料的移除可變?yōu)樘魬?zhàn)，因?yàn)樾枰瞥罅坎牧?。另外，所述EAL的添加實(shí) 質(zhì)上阻擋釋放劑直接接近材料。因此，釋放過(guò)程可能花費(fèi)更長(zhǎng)時(shí)間。盡管被選擇成用于最 終顯示器組合件中的大多數(shù)（如果不是所有）結(jié)構(gòu)材料被選擇成抵抗所述釋放劑，但長(zhǎng)期 暴露于此試劑仍可引起對(duì)各種材料的損壞。相應(yīng)地，在一些其它實(shí)施方案中，可采用多種替 代性釋放技術(shù)，其一些在下文中予以進(jìn)一步描述。
[0194] 在一些實(shí)施方案中，通過(guò)形成穿過(guò)EAL的蝕刻孔而解決移除犧牲材料的挑戰(zhàn)。蝕 刻孔增加釋放劑到下伏犧牲材料的接近性。如上文關(guān)于圖6C到6E所描述，所述蝕刻孔可 形成于位于EAL的光阻斷區(qū)域（例如圖6C中所展示的光阻斷區(qū)域1155)外的區(qū)域中。在 一些實(shí)施方案中，所述蝕刻孔的大小足夠大以允許流體（例如液體、氣體或等離子體）蝕刻 劑移除形成模具的犧牲材料，同時(shí)保持足夠小，使得其不會(huì)不利地影響光學(xué)性能。
[0195] 在一些其它實(shí)施方案中，使用能夠通過(guò)從固體升華到氣體而分解且無(wú)需使用化學(xué) 蝕刻劑的犧牲材料。在一些此類(lèi)實(shí)施方案中，所述犧牲材料可通過(guò)烘烤使用模具來(lái)形成的 顯示設(shè)備的一部分而升華。在一些實(shí)施方案中，所述犧牲材料可由降冰片烯或降冰片烯衍 生物組成或包含降冰片烯或降冰片烯衍生物。在犧牲模具中采用降冰片烯或降冰片烯衍生 物的一些此類(lèi)實(shí)施方案中，可在約400°C范圍內(nèi)的溫度下烘烤包含快門(mén)組合件、EAL和其支 撐模具的顯示設(shè)備的部分約1小時(shí)。在一些其它實(shí)施方案中，所述犧牲材料可由在低于約 500°C的溫度下升華的任何其它犧牲材料組成或可包含在低于約500°C的溫度下升華的任 何其它犧牲材料，例如可在約200°C到約300°C的溫度下（或在存在酸時(shí)的更低溫度下）分 解的聚碳酸酯。
[0196] 在一些其它實(shí)施方案中，采用多相釋放過(guò)程。例如，在一些此類(lèi)實(shí)施方案中，所述 多相釋放過(guò)程包含液體蝕刻和接著的干式等離子體蝕刻。一般來(lái)說(shuō)，即使顯示設(shè)備的結(jié)構(gòu) 組件和電組件被選擇成抵抗用于實(shí)現(xiàn)所述釋放過(guò)程的蝕刻劑，但長(zhǎng)期暴露于某些蝕刻劑 (具體來(lái)說(shuō)，干式等離子體蝕刻劑）仍可損壞此些組件。因此，限制顯示設(shè)備暴露于干式等 離子體蝕刻的時(shí)間是合意的。然而，液體蝕刻劑趨向于在完全釋放顯示設(shè)備時(shí)失效。采用多 相釋放過(guò)程有效地解決所述兩個(gè)問(wèn)題。首先，液體蝕刻移除可通過(guò)形成于EAL中的光圈層 光圈和任何蝕刻孔而直接接近的模具的部分，從而在模具材料中的EAL下方產(chǎn)生空腔。其 后，施加干式等離子體蝕刻。所述空腔的初始形成增加可與所述干式等離子體蝕刻相互作 用的表面面積，從而加快所述釋放過(guò)程，進(jìn)而限制顯示設(shè)備暴露于等離子體的時(shí)間量。
[0197] 如本文所描述，使制造過(guò)程1400與基于快門(mén)的光調(diào)制器的形成一起實(shí)施。在一些 其它實(shí)施方案中，可使用于制造EAL的過(guò)程與其它類(lèi)型的顯示元件（其包含光發(fā)射器（例 如0LED)或其它光調(diào)制器）的形成一起實(shí)施。
[0198] 圖IlA展示并入有囊封EAL的實(shí)例性顯示設(shè)備1600的橫截面圖。顯示設(shè)備1600 實(shí)質(zhì)上類(lèi)似于圖101中所展示的顯示設(shè)備1500,這是因?yàn)椋猴@示設(shè)備1600還包含顯示設(shè) 備，其包含將EAL 1630支撐于也由錨1640支撐的下伏快門(mén)1528上方的錨1640。然而，顯 示設(shè)備1600與圖101中所展示的顯示設(shè)備1500的不同之處在于：EAL 1630包含由結(jié)構(gòu)材 料1656囊封的聚合物材料層1652。在一些實(shí)施方案中，結(jié)構(gòu)材料1656可為金屬。通過(guò)用結(jié) 構(gòu)材料1656囊封聚合物材料1652而使EAL 1630在結(jié)構(gòu)上對(duì)外力具彈性。因而，EAL 1630 可充當(dāng)障壁以保護(hù)下伏快門(mén)組合件。此額外彈性可在遭受增加水平的濫用的產(chǎn)品（例如面 向兒童、建筑業(yè)和軍工或抗震設(shè)備的其它用戶(hù)的裝置）中特別合意。
[0199] 圖IlB到IlD展示圖IlA中所展示的實(shí)例性顯示設(shè)備1600的構(gòu)建階段的橫截面 圖。用于形成并入有囊封EAL的顯示設(shè)備1600的制造過(guò)程開(kāi)始于：以類(lèi)似于上文相對(duì)于圖 9和IOA到101所描述的方式的方式形成快門(mén)組合件和EAL。在沉積和圖案化光圈層材料 1540 (如上文相對(duì)于圖9和IOG和IOH中所展示的過(guò)程1400的階段1408所描述）之后，形 成所述囊封EAL的過(guò)程繼續(xù)在EAL 1541的頂部上沉積聚合物材料1652,如圖IlB中所展 示。接著，所沉積的聚合物材料1652經(jīng)圖案化以形成與形成于光圈層材料1540中的光圈 1542對(duì)準(zhǔn)的開(kāi)口 1654。使開(kāi)口 1654足夠?qū)捯员┞董h(huán)繞光圈1542的下伏光圈層材料1540 的一部分。圖IlC中展示此過(guò)程階段的結(jié)果。
[0200] 形成EAL的過(guò)程繼續(xù)在經(jīng)圖案化的聚合物材料1652的頂部上沉積和圖案化第二 層光圈層材料1656,如圖IlD中所展示。第二層光圈層材料1656可為與第光圈層材料1540 相同的材料，或其可為適合于囊封聚合物材料1652的某一其它結(jié)構(gòu)材料。在一些實(shí)施方案 中，可通過(guò)施加各向異性蝕刻而圖案化第二層光圈層材料1656。如圖IlD中所展示，聚合物 材料1652保持由第二層光圈層材料1656囊封。
[0201] 形成EAL和快門(mén)組合件的過(guò)程完成于：移除由第一犧牲材料層1504、第二犧牲材 料層1508和第三層犧牲材料1530形成的模具的剩余部分。圖IlA中展示結(jié)果。移除犧牲 材料的過(guò)程類(lèi)似于上文相對(duì)于圖101或圖19所描述的過(guò)程。錨1640將快門(mén)組合件支撐于 下伏襯底1502上方且將囊封光圈層1630支撐于下伏快門(mén)組合件上方。
[0202] 或者，可通過(guò)將加強(qiáng)肋引入到EAL的表面中而獲得添加的EAL彈性。除EAL利用 聚合物層的囊封之外或作為其替代，還可在EAL中包含加強(qiáng)肋。
[0203] 圖12A展示并入有肋狀EAL 1740的實(shí)例性顯示設(shè)備1700的橫截面圖。顯示設(shè)備 1700類(lèi)似于圖101中所展示的顯示設(shè)備1500,原因在于：顯示設(shè)備1700還包含通過(guò)多個(gè)錨 1725而支撐于襯底1702和下伏快門(mén)1528上方的EAL 1740。然而，顯示設(shè)備1700與顯示 設(shè)備1500的不同之處在于：EAL 1740包含用于強(qiáng)化EAL 1740的肋1744。通過(guò)在EAL 1740 內(nèi)形成肋，EAL 1740可變得在結(jié)構(gòu)上對(duì)外力更具彈性。因而，EAL 1740可充當(dāng)障壁以保護(hù) 包含快門(mén)1528的顯示元件。
[0204] 圖12B到12E展示圖12A中所展示的實(shí)例性顯示設(shè)備1700的構(gòu)建階段的橫截面 圖。顯示設(shè)備1700包含用于將肋狀EAL 1740支撐于也由錨1725支撐的多個(gè)快門(mén)1528上方 的錨1725。用于形成此顯示設(shè)備的制造過(guò)程開(kāi)始于：以類(lèi)似于上文相對(duì)于圖IOA到101所 描述的方式的方式形成快門(mén)組合件和EAL。然而，在沉積和圖案化第三犧牲材料層1530 (如 上文相對(duì)于圖IOG所描述）之后，形成肋狀EAL 1740的過(guò)程繼續(xù)沉積第四犧牲層1752,如 圖12B中所展示。接著，第四犧牲層1752經(jīng)圖案化以形成用于形成肋（其將最終形成于提 升光圈中）的多個(gè)凹槽1756。圖12C中展示在圖案化第四犧牲層1752之后所產(chǎn)生的模具 1799的形狀。模具1799包含第一犧牲材料1504、第二犧牲材料1508、經(jīng)圖案化的結(jié)構(gòu)材料 層1516、第三犧牲材料層1530和第四犧牲層1752。
[0205] 形成肋狀EAL 1740的過(guò)程繼續(xù)將光圈層材料層1780沉積到模具1799的所有暴 露表面上。在沉積光圈層材料層1780之后，光圈層材料層1780經(jīng)圖案化以形成充當(dāng)光圈 層光圈（或"EAL光圈"）1742的開(kāi)口，如圖12D中所展示。
[0206] 形成包含肋狀EAL 1740的顯示設(shè)備的過(guò)程完成于：移除模具1799的剩余部分， 即，第一犧牲材料層1504、第二犧牲材料層1508、第三層犧牲材料1530和第四層犧牲材料 1752的剩余部分。移除模具1799的過(guò)程類(lèi)似于相對(duì)于圖101所描述的過(guò)程。圖12A中展 示所得的顯示設(shè)備1700。
[0207] 圖12E展示并入有具有抗粘滯凸塊的EAL 1785的實(shí)例性顯示設(shè)備1760的橫截面 圖。顯示設(shè)備1760實(shí)質(zhì)上類(lèi)似于圖12A中所展示的顯示設(shè)備1700,但其與EAL 1740的不 同之處在于：EAL 1785在其中形成EAL 1740的肋1744的區(qū)域中包含多個(gè)抗粘滯凸塊。
[0208] 可使用類(lèi)似于用于制造顯示設(shè)備1700的制造過(guò)程的制造過(guò)程來(lái)形成抗粘滯凸 塊。當(dāng)圖案化光圈層材料層1780以形成EAL光圈1742的開(kāi)口（如圖12D中所展示）時(shí)， 光圈層材料層1780還經(jīng)圖案化以移除形成肋1744的基底部分1746 (圖12D中所展示）的 光圈層材料。保留肋1744的側(cè)壁1748。側(cè)壁1748的底面1749可充當(dāng)抗粘滯凸塊。通過(guò) 使抗粘滯凸塊形成于EAL 1785的底面處，防止快門(mén)粘滯到EAL 1785。
[0209] 圖12F展示另一實(shí)例性顯示設(shè)備1770的橫截面圖。顯示設(shè)備1770類(lèi)似于圖12A 中所展示的顯示設(shè)備1700,原因在于其包含肋狀EAL 1772。與顯示設(shè)備1700相比，顯示設(shè) 備1770的肋狀EAL 1772包含遠(yuǎn)離肋狀EAL 1772下方的快門(mén)組合件向上延伸的肋1774。
[0210] 用于制造肋狀EAL 1772的過(guò)程類(lèi)似于用于制造顯示設(shè)備1700的肋狀EAL 1740 的過(guò)程。唯一差異在于：圖案化沉積于模具1799上的第四犧牲層1752。在產(chǎn)生肋狀EAL1740 時(shí)，使大多數(shù)第四犧牲層1752留作模具的部分，且使凹槽1756形成于第四犧牲層1752內(nèi) 以形成肋1744的模具（如圖12C中所展示）。相比而言，在形成EAL 1772時(shí)，移除大多數(shù) 第四犧牲層1752,從而留下隨后在其上方形成肋1774的臺(tái)面。
[0211] 圖12G到12J展示適合用于圖12A和12E的肋狀EAL 1740和1772中的實(shí)例性肋 圖案的平面圖。圖12G到12J中的每一者展示鄰近于一對(duì)EAL光圈1742的一組肋1744。 在圖12G中，肋1744跨越EAL線(xiàn)性延伸。在圖12H中，肋1744環(huán)繞EAL光圈1742。在圖 121中，肋1744沿兩個(gè)軸跨越EAL延伸。最后，在圖12J中，肋1744呈跨越EAL形成于周期 性位置處的隔離凹槽形式。在一些其它實(shí)施方案中，多種額外肋圖案可用于強(qiáng)化EAL。
[0212] 在一些實(shí)施方案中，穿過(guò)EAL而形成的光圈層光圈可經(jīng)配置以包含光分散結(jié)構(gòu)， 以增加其中并入有所述光分散結(jié)構(gòu)的顯示器的觀(guān)看角。
[0213] 圖13展示并入有具有光分散結(jié)構(gòu)1850的實(shí)例性EAL 1830的顯示設(shè)備1800的一 部分。具體來(lái)說(shuō)，顯示設(shè)備1800實(shí)質(zhì)上類(lèi)似于圖5A中所展示的顯示設(shè)備1000。與顯示設(shè) 備1000相比，顯示設(shè)備1800包含形成于EAL 1830的提升光圈層光圈1836中的光分散結(jié) 構(gòu)1850。在一些實(shí)施方案中，光分散結(jié)構(gòu)1850可透明，使得光可穿過(guò)光分散結(jié)構(gòu)1850。一 般來(lái)說(shuō)，光分散結(jié)構(gòu)1850致使穿過(guò)光圈層光圈1836的光反射、折射或散射，進(jìn)而增加由顯 示設(shè)備1800輸出的光的角分布。此角分布的增加可增加顯示設(shè)備1800的觀(guān)看角。
[0214] 在一些實(shí)施方案中，可通過(guò)將一層透明材料1845(例如電介質(zhì)或透明導(dǎo)體，例如 ΙΤ0)沉積于EAL 1830的暴露表面和其上形成EAL 1830的模具上而形成光分散結(jié)構(gòu)1850。 接著，透明材料1845經(jīng)圖案化以使得光分散結(jié)構(gòu)1850形成于其中最終形成光圈層光圈 1836的區(qū)域內(nèi)。在一些實(shí)施方案中，可通過(guò)沉積和圖案化反射材料層（例如金屬或半導(dǎo)體 材料層）而制成光分散結(jié)構(gòu)。
[0215] 圖14A到14H展示并入有光分散結(jié)構(gòu)1950a到1950h (統(tǒng)稱(chēng)為光分散結(jié)構(gòu)1950)的 實(shí)例性EAL的部分的俯視圖。光分散結(jié)構(gòu)1950可形成的實(shí)例性圖案包含水平條、垂直條、 對(duì)角條、或彎曲圖案（參看圖14A到14D)、Z字形圖案或人字形圖案（參看圖14E)、圓形形 狀（參看圖14F)、三角形形狀（參看圖14G)或其它不規(guī)則形狀（例如參看圖14H)。在一 些實(shí)施方案中，光分散結(jié)構(gòu)可包含不同類(lèi)型的光分散結(jié)構(gòu)的組合。穿過(guò)其內(nèi)形成光分散結(jié) 構(gòu)的提升光圈層光圈的光可基于形成于EAL的光圈層光圈內(nèi)的光分散結(jié)構(gòu)的類(lèi)型而以不 同方式散射。例如，取決于光分散結(jié)構(gòu)的特定幾何形狀和表面粗糙度，光可在其穿過(guò)形成光 分散結(jié)構(gòu)的材料層之間的界面時(shí)折射，或其可反射或散射離開(kāi)所述結(jié)構(gòu)的邊緣和表面。
[0216] 圖15展示并入有包含透鏡結(jié)構(gòu)2010的EAL 2030的實(shí)例性顯示設(shè)備2000的橫截 面圖。除顯示設(shè)備2000包含形成于EAL 2030的光圈層光圈2036內(nèi)的透鏡結(jié)構(gòu)2010之外， 顯示設(shè)備2000實(shí)質(zhì)上類(lèi)似于圖5中所展示的顯示設(shè)備。透鏡結(jié)構(gòu)2010可經(jīng)塑形以使得穿 過(guò)透鏡結(jié)構(gòu)2010的來(lái)自背光的光擴(kuò)散到穿過(guò)空光圈層光圈的光先前無(wú)法到達(dá)的區(qū)域。此 提高顯示器的觀(guān)看角。在一些實(shí)施方案中，透鏡結(jié)構(gòu)2010可由透明材料（例如SiO 2或其它 透明電介質(zhì)材料）制成。可通過(guò)將一層透明材料沉積于EAL的暴露表面和其中形成有EAL 2030的模具上且使用分級(jí)階調(diào)蝕刻掩蔽來(lái)選擇性地蝕刻材料而形成透鏡結(jié)構(gòu)2010。
[0217] 在一些實(shí)施方案中，穿過(guò)下伏襯底的光阻斷層而形成的光圈或穿過(guò)快門(mén)而形成的 快門(mén)光圈還可包含類(lèi)似于圖13、14A到14H中所展示的光分散結(jié)構(gòu)的光分散結(jié)構(gòu)或類(lèi)似于 圖15中所展示的透鏡結(jié)構(gòu)的透鏡結(jié)構(gòu)2010。在一些其它實(shí)施方案中，彩色濾光器陣列可 耦合到EAL或與EAL -體地形成，使得每一 EAL光圈由彩色濾光器覆蓋。在此些實(shí)施方案 中，可通過(guò)使用單獨(dú)的快門(mén)組合件群組來(lái)同時(shí)顯示多個(gè)色彩子域（或與多個(gè)色彩子域相關(guān) 聯(lián)的子幀）而形成圖像。
[0218] 某些基于快門(mén)的顯示設(shè)備利用復(fù)雜電路以用于驅(qū)動(dòng)像素陣列的快門(mén)。在一些實(shí)施 方案中，由電路發(fā)送電流穿過(guò)電互連件所消耗的電力與所述互連件上的寄生電容成比例。 因而，可通過(guò)減小電互連件上的寄生電容而減少顯示器的電力消耗。減小電互連件上的寄 生電容的方式是通過(guò)增加所述電互連件與其它導(dǎo)電組件之間的距離。
[0219] 然而，隨著顯示器制造商增加像素密度以提高顯示器分辨率，每一像素的大小有 所減小。因而，電組件布置于更小空間內(nèi)，從而減小分離鄰近的電組件可用的空間。因此， 歸因于寄生電容的電力消耗可能增加。減小寄生電容且不損害像素大小的方式是通過(guò)在顯 示設(shè)備的EAL的頂部上形成一或多個(gè)電互連件。通過(guò)將電互連件定位于EAL的頂部上，可 在EAL的頂部上的互連件與下伏襯底上的EAL下方的互連件之間引入大距離。此距離實(shí)質(zhì) 上減小EAL的頂部上的電互連件與形成于下伏襯底上的任何導(dǎo)電組件之間的寄生電容。電 容的減小引起電力消耗對(duì)應(yīng)地減少。電容的減小還增加信號(hào)傳播穿過(guò)互連件的速度，從而 增加可尋址顯示器的速度。
[0220] 圖16展示具有EAL 2130的實(shí)例性顯示設(shè)備2100的橫截面圖。除顯示設(shè)備2100 包含形成于EAL 2130的頂部上的電互連件2110之外，顯示設(shè)備2100實(shí)質(zhì)上類(lèi)似于圖5A 中所展示的顯示設(shè)備1000。
[0221] 在一些實(shí)施方案中，電互連件2110可形成于支撐EAL 2130的錨2140的頂部上。 在一些實(shí)施方案中，電互連件2110可與其上形成電互連件2110的EAL 2130電隔離。在一 些此類(lèi)實(shí)施方案中，首先在EAL 2130上沉積電絕緣材料層且接著可在所述電絕緣材料上 形成電互連件2110。在一些實(shí)施方案中，電互連件2110可為列互連件，例如圖3B中所展示 的數(shù)據(jù)互連件808。在一些其它實(shí)施方案中，電互連件2110可為行互連件，例如圖3B中所 展示的掃描線(xiàn)互連件806。在一些其它實(shí)施方案中，電互連件2110可為共同互連件，例如還 展示于圖3B中的致動(dòng)電壓互連件810或全局更新互連件812。
[0222] 在一些實(shí)施方案中，電互連件2110可電耦合到顯示設(shè)備2100的快門(mén)2120。在 一些此類(lèi)實(shí)施方案中，電互連件2110經(jīng)由支撐EAL 2130和下伏快門(mén)組合件兩者的導(dǎo)電錨 2140而直接電耦合到快門(mén)2120。例如，在其中EAL 2130包含導(dǎo)電材料且電絕緣材料沉積 于EAL 2130上方的實(shí)施方案中，在沉積將形成互連件2110的材料之前，所述絕緣材料可經(jīng) 圖案化以暴露耦合到和/或形成錨2140的部分的EAL 2130的一部分。接著，當(dāng)沉積互連 件材料時(shí)，所述互連件材料形成與EAL的所述暴露部分的電連接，從而允許電流從電互連 件2110流動(dòng)穿過(guò)EAL 2130,且沿著錨2140流動(dòng)到由錨支撐的快門(mén)2120上。在一些實(shí)施方 案中，EAL 2130經(jīng)像素化以使得其包含多個(gè)電隔離的導(dǎo)電區(qū)域。在一些實(shí)施方案中，電互 連件2110經(jīng)配置以將電壓提供到所述電隔離的導(dǎo)電區(qū)域中的一或多者的電組件。
[0223] 顯示設(shè)備還包含形成于下伏透明襯底2102(其類(lèi)似于圖5中所展示的透明襯底 1002)的頂部上的若干其它電互連件2112。在一些實(shí)施方案中，電互連件2112可為列互連 件、行互連件或共同互連件中的一者。在一些實(shí)施方案中，互連件經(jīng)選擇以用于定位在EAL 的頂部上和EAL下方，以增加切換式互連件（即，載送相對(duì)頻繁地改變的電壓的互連件，例 如數(shù)據(jù)互連件）之間的距離。例如，在一些實(shí)施方案中，行互連件可定位于EAL的頂部上， 而數(shù)據(jù)互連件定位于襯底上的EAL下方。類(lèi)似地，在一些其它實(shí)施方案中，行互連件放置于 襯底上的EAL下方，且數(shù)據(jù)互連件定位于EAL的頂部上。保持于相對(duì)恒定電壓的互連件可 在電容相關(guān)電力消耗主要是因切換事件而發(fā)生時(shí)定位成彼此相對(duì)更接近。
[0224] 在一些實(shí)施方案中，EAL可支撐僅除電互連件之外的額外電組件。例如，EAL可支 撐電容器、晶體管或其它形式的電組件。圖17中展示并入有安裝了 EAL的電組件的顯示設(shè) 備的實(shí)例。
[0225] 圖17展示實(shí)例性顯示設(shè)備2200的一部分的透視圖。所述顯示設(shè)備包含類(lèi)似于圖 3B的控制矩陣860的控制矩陣。在顯示設(shè)備2200中，致動(dòng)電壓互連件810和充電晶體管 845形成于EAL 2230的頂部上。
[0226] EAL 2230由還支撐下伏光阻擋組件807 (在此情況中為快門(mén)）的錨2240支撐。更 具體來(lái)說(shuō)，致動(dòng)器2208的負(fù)載電極2210遠(yuǎn)離錨2240而延伸且連接到光阻擋組件807。負(fù) 載電極2210為光阻擋組件807提供物理支撐，且在EAL 2230的頂部上提供穿過(guò)充電晶體 管845到致動(dòng)電壓互連件810的電連接。所述致動(dòng)器還包含從第二錨2214 (其耦合到下伏 襯底）延伸但未到達(dá)EAL的驅(qū)動(dòng)電極2212。
[0227] 在操作中，當(dāng)將電壓施加到致動(dòng)電壓互連件810時(shí)，接通充電晶體管845,且電流 通過(guò)錨2240和負(fù)載電極2210以使光阻擋組件807上的電壓上升到致動(dòng)電壓。同時(shí)，電流 流過(guò)錨2240到EAL的底側(cè)上的電隔離區(qū)域2250,使得光阻擋組件807和電隔離區(qū)域2250 保持于相同電位。
[0228] 為了制造EAL 2230,將導(dǎo)電層沉積于模具（例如圖IOF中所展示的模具1599)的 頂部上。接著，所述導(dǎo)電層經(jīng)圖案化以使所述導(dǎo)電層的各種區(qū)域電隔離，使得每一區(qū)域?qū)?yīng) 于一下伏快門(mén)組合件。接著，將電絕緣層沉積于導(dǎo)電層的頂部上。所述絕緣層經(jīng)圖案化以 暴露所述導(dǎo)電層的部分以允許形成于EAL的頂部上的互連件或其它電組件與EAL電連接。 接著，使用薄膜光刻過(guò)程（其包含沉積和圖案化額外電介質(zhì)層、半導(dǎo)體層和導(dǎo)電材料層）來(lái) 將致動(dòng)電壓互連件810和充電晶體管845制造于電絕緣層的頂部上。在一些實(shí)施方案中， 使用銦鎵鋅氧化物（IGZO)相容的制造過(guò)程來(lái)形成在EAL的頂部上所形成的致動(dòng)電壓互連 件810、充電晶體管845和任何其它電組件。例如，充電晶體管可包含IGZO溝道。在一些其 它實(shí)施方案中，使用其它導(dǎo)電氧化物材料或其它IV族半導(dǎo)體來(lái)形成一些電組件。在一些其 它實(shí)施方案中，使用更傳統(tǒng)的半導(dǎo)體材料（例如非晶硅或低溫多晶硅（LTPS))來(lái)形成電組 件。
[0229] 盡管圖17僅展示EAL的頂部上的互連件和晶體管的制造，但其它電組件可直接形 成于EAL上或安裝到EAL。例如，EAL還可支撐寫(xiě)入啟用晶體管830、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)電容器835、 更新晶體管840中的一或多者，以及其它開(kāi)關(guān)、水平移位器、中繼器、放大器、寄存器和其它 集成電路組件。例如，EAL可支撐經(jīng)選擇以支持觸摸屏幕功能的電路。
[0230] 在其中EAL支撐一或多個(gè)數(shù)據(jù)互連件（例如圖3A和3B中所展示的數(shù)據(jù)互連件 808)的一些其它實(shí)施方案中，EAL還可支撐沿所述互連件的一或多個(gè)緩沖器以重新驅(qū)動(dòng)沿 所述互連件傳遞的信號(hào)以減小互連件上的負(fù)載。例如，每一數(shù)據(jù)互連件可沿其長(zhǎng)度包含1 個(gè)與約10個(gè)之間的緩沖器。在一些實(shí)施方案中，可使用一或兩個(gè)反相器來(lái)實(shí)施所述緩沖 器。在一些其它實(shí)施方案中，可包含更復(fù)雜的緩沖器電路。通常，在顯示器襯底上不存在用 于此些緩沖器的足夠空間。然而，在一些實(shí)施方案中，EAL可提供足夠額外空間以用于使此 些緩沖器可行。
[0231] 可通過(guò)將形成顯示器的前面的蓋片附接到后透明襯底而組裝某些顯示設(shè)備。所述 蓋片具有穿過(guò)其而形成前光圈的光阻斷層。所述透明襯底包含穿過(guò)其而形成后光圈的光阻 斷層。所述透明襯底可支撐具有光調(diào)制器的多個(gè)顯示